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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 干渉計形に関連した英語例文

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干渉計形の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 295



例文

干渉、及び状測定方法例文帳に追加

INTERFEROMETER AND SHAPE MEASURING METHOD - 特許庁

干渉状測定方法例文帳に追加

INTERFEROMETER AND SHAPE MEASURING METHOD - 特許庁

干渉および状測定装置例文帳に追加

INTERFEROMETER AND SHAPE MEASURING SYSTEM - 特許庁

二光束干渉及び同干渉を用いた被測定物の状測定方法例文帳に追加

TWO-LIGHT FLUX INTERFEROMETER AND METHOD FOR MEASURING SHAPE OF OBJECT TO BE MEASURED USING INTERFEROMETER - 特許庁

例文

干渉及び面測方法例文帳に追加

INTERFEROMETER AND METHOD OF MEASURING SURFACE SHAPE - 特許庁


例文

安定的に干渉光を成することができる干渉と、干渉を有する分光分析装置を提供する。例文帳に追加

To provide an interferometer capable of stably forming interference light, and a spectrophotometer including the interferometer. - 特許庁

干渉断層を用いた画像成方法、及び光干渉断層装置例文帳に追加

IMAGE FORMING METHOD USING OPTICAL INTERFERENCE TOMOGRAPH METER, AND OPTICAL INTERFERENCE TOMOGRAM - 特許庁

低い非線誤差の変位測定干渉例文帳に追加

DISPLACEMENT MEASURING INTERFEROMETER WITH LOW NONLINEAR ERROR - 特許庁

干渉の非線性補償システム及び方法例文帳に追加

NONLINEARITY COMPENSATION SYSTEM AND METHOD FOR INTERFEROMETER - 特許庁

例文

周期的非線性を改善した微分干渉例文帳に追加

DIFFERENTIAL INTERFEROMETER IMPROVED IN PERIODIC NON-LINEARITY - 特許庁

例文

干渉非線性補償のためのシステム及び方法例文帳に追加

SYSTEM AND METHOD FOR NONLINEARITY COMPENSATION OF INTERFEROMETER - 特許庁

線集光型フーリエドメイン干渉測装置例文帳に追加

LINE FOCUSING TYPE FOURIER DOMAIN INTERFERENCE PROFILE MEASURING APPARATUS - 特許庁

動的干渉を使用した薄膜成監視方法例文帳に追加

METHOD FOR MONITORING THIN-FILM FORMATION USING DYNAMIC INTERFEROMETER - 特許庁

干渉およびそれを用いた状測定装置例文帳に追加

OPTICAL INTERFEROMETER AND SHAPE MEASURING DEVICE USING IT - 特許庁

干渉、及び状の測定方法例文帳に追加

INTERFEROMETERS, AND METHOD OF MEASURING SHAPE - 特許庁

干渉による面状測定方法例文帳に追加

SURFACE SHAPE MEASURING METHOD BY INTERFEROMETER - 特許庁

表面状の測定方法および干渉例文帳に追加

SURFACE PROFILE MEASURING METHOD AND INTERFEROMETER - 特許庁

干渉を用いた状測定方法および装置例文帳に追加

METHOD AND INSTRUMENT FOR MEASURING SHAPE USING INTERFEROMETER - 特許庁

干渉を用いた状測定方法および装置例文帳に追加

METHOD AND INSTRUMENT FOR MEASURING SHAPE, USING INTERFEROMETER - 特許庁

数装置8は、干渉の数を数える数期間における干渉の初期値及び最終値と干渉数結果とから、干渉の数を小数点単位で確定する確定手段を有する。例文帳に追加

The counting device 8 has a verification means for verifying the number of the interference waveforms to some places of decimals on the basis of an initial value and a final value of waveforms in a counting period for counting the number of the interference waveforms and a result of counting of the interference waveforms. - 特許庁

さらに、干渉は、第2の輝度とした参照光と干渉しない非干渉領域を成するように測定光を遮光する遮光部材106と、合成光により成される干渉領域及び非干渉領域を撮像するCCDカメラ111とを備える。例文帳に追加

Further, the interferometer includes a shielding member 106 for shielding the measuring beam to form a non-interference region not interfering the reference beams having the second luminance and a CCD camera 111 for imaging an interference region formed by synthesized beams and the non-interference region. - 特許庁

状等を測定するための干渉及びその測定方法例文帳に追加

INTERFEROMETER FOR MEASURING SURFACE SHAPE, ETC., AND MEASURING METHOD - 特許庁

電子的スペックル干渉法を用いた変測方法および装置例文帳に追加

DEFORMATION MEASUREMENT METHOD AND DEVICE USING ELECTRONIC SPECKLE INTERFEROMETRY - 特許庁

干渉状測定装置及び方法、並びに露光装置例文帳に追加

INTERFEROMETER, INSTRUMENT AND METHOD FOR MEASURING SHAPE, AND EXPOSURE DEVICE - 特許庁

二つの3次元状の干渉算を安定して実行できるようにする。例文帳に追加

To stably calculate interference between two three-dimensional shapes. - 特許庁

位相シフト干渉縞同時撮像における平面測方法例文帳に追加

PLANE SHAPE MEASURING METHOD IN PHASE SHIFT INTERFERENCE FRINGE SIMULTANEOUS IMAGING - 特許庁

位相シフト干渉縞同時撮像装置における平面測方法例文帳に追加

PLANE SHAPE MEASURING METHOD IN PHASE SHIFT INTERFERENCE FRINGE SIMULTANEOUS IMAGING DEVICE - 特許庁

位相シフト干渉縞同時撮像装置における平面測方法例文帳に追加

PLANE SHAPE MEASURING METHOD FOR PHASE-SHIFT INTERFERENCE FRINGE SIMULTANEOUS PHOTOGRAPHING DEVICE - 特許庁

動的干渉を使用した薄膜成監視方法の提供。例文帳に追加

To provide a method of monitoring thin-film formation using a dynamic interferometer. - 特許庁

縦型干渉用基準板支持枠の基準板変能測定方法およびこれを用いた縦型干渉用基準板の選出方法例文帳に追加

METHOD FOR MEASURING CAPABILITY OF DEFORMING REFERENCE PLATE OF REFERENCE PLATE HOLDING FRAME FOR VERTICAL INTERFEROMETER, AND METHOD OF SELECTING REFERENCE PLATE FOR VERTICAL INTERFEROMETER USING THIS - 特許庁

ヘテロダイン干渉を用いた状測定装置、ヘテロダイン干渉を用いた状測定装置の光路長調整方法、及びヘテロダイン干渉を用いた状測定方法例文帳に追加

SHAPE MEASURING APPARATUS USING HETERODYNE INTERFEROMETER, METHOD OF ADJUSTING OPTICAL PATH LENGTH OF THE SHAPE MEASURING APPARATUS USING THE HETERODYNE INTERFEROMETER, AND METHOD OF MEASURING SHAPE USING THE HETERODYNE INTERFEROMETER - 特許庁

測用干渉、波面収差測定機、前記干渉及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉の校正方法例文帳に追加

INTERFEROMETER FOR MEASURING SHAPE OF SURFACE, WAVEFRONT ABERRATION MEASURING MACHINE, MANUFACTURE OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM USING THIS INTERFEROMETER AND MACHINE, AND METHOD FOR CALIBRATING THIS INTERFEROMETER - 特許庁

1実施態では、第1の位相差は、時間tにおける試験干渉の出力(52)の位相と、時間tから基準干渉の既知の遅延だけオフセットした時間における試験干渉の出力の位相との差である。例文帳に追加

In an embodiment, a first phase difference is the difference between the phase of the output 52 of a test interferometer at the time t and the phase of the output of a test interferometer at a time offsetting the known delay of a reference interferometer from the time t. - 特許庁

露光装置は、照明系10から出射される偏光を使って投影光学系1の収差情報をもった干渉縞を成する干渉と、干渉によって成される干渉縞に基づいて投影光学系1の光学特性を算出する処理部18とを備える。例文帳に追加

The exposure apparatus includes an interferometer that forms interference fringes including aberration information on projection optics 1 using polarized light beams emitted from an illumination system 10, and a processor 18 that calculates the optical characteristics of the projection optical system 1 on the basis of interference patterns formed by the interferometer. - 特許庁

そして、第2の干渉I_2は、測定光を照射し、折り返し平面鏡F_1の表面に成された鏡面S_1で反射され、再び第2の干渉I_2に戻ってきた戻り光を基に、第2の干渉縞画像を取得する。例文帳に追加

The second interferometer I_2 emits measuring light and obtains a second interference fringe image based on return light that returns to the second interferometer I_2 again after being reflected from a mirror surface S_1 formed on a surface of the reflecting plane mirror F_1. - 特許庁

第2の干渉I_2は、測定光を照射し、折り返し平面ミラーF_1の裏面に成された球面ミラーの一部で反射され、再び第2の干渉に戻ってきた戻り光を基に、第2の干渉縞画像を取得する。例文帳に追加

The second interferometer I_2 radiates measuring light, and acquires a second interference fringe image, based on return light having returned to the second interferometer again after being reflected by a part of a spherical mirror formed on the backside of the reflecting flat mirror F_1. - 特許庁

レーザ変位のレーザ干渉を用いた動的線測方法及び測装置例文帳に追加

DYNAMIC LINEARITY MEASURING METHOD USING LASER INTERFEROMETER OF LASER DISPLACEMENT METER, AND MEASUREMENT DEVICE - 特許庁

コンピュータによる設方法において、三次元CADモデルのデータから部品間の干渉部分を抽出し、干渉部分に基づいて干渉する部品の状を修正し、状が修正された部品に基づいて干渉部分が発生しない状の修正モデルを作成するように構成する。例文帳に追加

The designing method using a computer comprises extracting an interfering portion between components from data on the three-dimensional CAD model, correcting the shapes of the interfering components based on the interfering portion, and creating a corrected model of a shape without an interfering portion based on the components whose shapes have been corrected. - 特許庁

シャリング干渉(6,44)により、位相シフトマスク(3)の横ずらし干渉画像を成し、当該干渉画像を2次元撮像装置(17,48)により撮像する。例文帳に追加

A laterally offset interference image of a phase shift mask (3) is formed by a shearing interferometer (6, 44), and the interference image is captured by a two-dimensional imaging device (17, 48). - 特許庁

本発明の干渉は、ワークWの表面状によって成される干渉縞を撮像するCCD31を有する干渉本体と、CCD31により撮像された干渉縞の画像を表示する表示部70と、表示部70に表示された干渉縞の評価基準となる基準線を含むチャートを表示させるパソコン60とを備えることを特徴とする。例文帳に追加

The interferometer includes: an interferometer body having a CCD 31 for capturing interference fringes formed by a surface shape of a work W; a display section 70 for displaying images of interference fringes captured by the CCD 31; and a personal computer 60 for displaying a chart including a reference line that serves as an evaluation basis of interference fringes displayed at the display section 70. - 特許庁

干渉状測定装置及び露光装置、並びに状測定方法及び露光方法例文帳に追加

INTERFERROMETER, SHAPE MEASURING APPARATUS AND ALIGNER AND SHAPE MEASURING METHOD AND EXPOSING METHOD - 特許庁

さらに,干渉10が斜入射干渉の場合,干渉10により測される前記反射光及び前記背景光と,検出対象となるウェハ1のエッジが成する辺とが,ウェハ1の面に垂直な方向から見て略平行となるよう構成する。例文帳に追加

In addition, if the interferometer 10 is an oblique- incident type, the reflected light and the background light measured by the interferometer 10 and the side formed by the edge of the water 1 to be detected are set to be substantially parallel to each other when viewed from a direction perpendicular to the surface of the wafer 1. - 特許庁

ヘテロダイン干渉の高速タイプの非線性を補償するためのシステム及び方法例文帳に追加

SYSTEM AND METHOD FOR HETERODYNE INTERFEROMETER HIGH VELOCITY TYPE NON-LINEARITY COMPENSATION - 特許庁

集積回路デバイスの波による精査のための二パルス利用型光干渉例文帳に追加

2-PULSE UTILIZED OPTICAL INTERFEROMETER FOR PRECISION INSPECTION WITH WAVEFORM OF INTEGRATED CIRCUIT DEVICE - 特許庁

一体型光学構造を有する多軸干渉と偏菱組立体の製造方法例文帳に追加

MULTI-AXIS INTERFEROMETER WITH INTEGRATED OPTICAL STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING RHOMBOID ASSEMBLY - 特許庁

白色光干渉を用いた透明薄膜の厚さ及び状の測定装置及び方法例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING THICKNESS AND PROFILE OF TRANSPARENT THIN FILM USING WHITE-LIGHT INTERFEROMETER - 特許庁

縞画像解析方法、干渉装置、およびパターン投影状測定装置例文帳に追加

STRIPE IMAGE ANALYTICAL METHOD, INTERFEROMETER DEVICE, AND PATTERN PROJECTION SHAPE MEASURING INSTRUMENT - 特許庁

凹面部と凸面部を有してなる被検面の状を光干渉測できるようにする。例文帳に追加

To lightwave-interference measure the shape of an inspected surface comprising a concave surface and a convex surface. - 特許庁

凹面部と凸面部を有してなる被検面の状を光干渉測できるようにする。例文帳に追加

To enable lightwave-interference measurement of the shape of an inspected surface comprising a concave surface and a convex surface. - 特許庁

例文

本発明の一実施例によるマッハツェンダ干渉は、2つの多モード干渉と、多モード干渉の間に挟まれた2本のアーム導波路と、2本のアーム導波路を分断するように成された溝に挿入されたポリイミド波長板とから構成される。例文帳に追加

A Mach-Zehnder interferometer is composed of two multimode interferometers, two arm waveguides held between the multimode interferometers, and a polyimide wavelength plate inserted in the groove formed to part the two arm waveguides. - 特許庁

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