例文 (295件) |
干渉計形の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 295件
干渉計、及び形状測定方法例文帳に追加
INTERFEROMETER AND SHAPE MEASURING METHOD - 特許庁
干渉計、形状測定方法例文帳に追加
INTERFEROMETER AND SHAPE MEASURING METHOD - 特許庁
干渉計および形状測定装置例文帳に追加
INTERFEROMETER AND SHAPE MEASURING SYSTEM - 特許庁
二光束干渉計及び同干渉計を用いた被測定物の形状測定方法例文帳に追加
TWO-LIGHT FLUX INTERFEROMETER AND METHOD FOR MEASURING SHAPE OF OBJECT TO BE MEASURED USING INTERFEROMETER - 特許庁
安定的に干渉光を形成することができる干渉計と、干渉計を有する分光分析装置を提供する。例文帳に追加
To provide an interferometer capable of stably forming interference light, and a spectrophotometer including the interferometer. - 特許庁
光干渉断層計を用いた画像形成方法、及び光干渉断層装置例文帳に追加
IMAGE FORMING METHOD USING OPTICAL INTERFERENCE TOMOGRAPH METER, AND OPTICAL INTERFERENCE TOMOGRAM - 特許庁
低い非線形誤差の変位測定干渉計例文帳に追加
DISPLACEMENT MEASURING INTERFEROMETER WITH LOW NONLINEAR ERROR - 特許庁
干渉計の非線形性補償システム及び方法例文帳に追加
NONLINEARITY COMPENSATION SYSTEM AND METHOD FOR INTERFEROMETER - 特許庁
周期的非線形性を改善した微分干渉計例文帳に追加
DIFFERENTIAL INTERFEROMETER IMPROVED IN PERIODIC NON-LINEARITY - 特許庁
干渉計非線形性補償のためのシステム及び方法例文帳に追加
SYSTEM AND METHOD FOR NONLINEARITY COMPENSATION OF INTERFEROMETER - 特許庁
線集光型フーリエドメイン干渉形状計測装置例文帳に追加
LINE FOCUSING TYPE FOURIER DOMAIN INTERFERENCE PROFILE MEASURING APPARATUS - 特許庁
動的干渉計を使用した薄膜形成監視方法例文帳に追加
METHOD FOR MONITORING THIN-FILM FORMATION USING DYNAMIC INTERFEROMETER - 特許庁
光干渉計およびそれを用いた形状測定装置例文帳に追加
OPTICAL INTERFEROMETER AND SHAPE MEASURING DEVICE USING IT - 特許庁
干渉計による面形状測定方法例文帳に追加
表面形状の測定方法および干渉計例文帳に追加
SURFACE PROFILE MEASURING METHOD AND INTERFEROMETER - 特許庁
干渉計を用いた形状測定方法および装置例文帳に追加
METHOD AND INSTRUMENT FOR MEASURING SHAPE USING INTERFEROMETER - 特許庁
干渉計を用いた形状測定方法および装置例文帳に追加
METHOD AND INSTRUMENT FOR MEASURING SHAPE, USING INTERFEROMETER - 特許庁
計数装置8は、干渉波形の数を数える計数期間における干渉波形の初期値及び最終値と干渉波形の計数結果とから、干渉波形の数を小数点単位で確定する確定手段を有する。例文帳に追加
The counting device 8 has a verification means for verifying the number of the interference waveforms to some places of decimals on the basis of an initial value and a final value of waveforms in a counting period for counting the number of the interference waveforms and a result of counting of the interference waveforms. - 特許庁
さらに、干渉計は、第2の輝度とした参照光と干渉しない非干渉領域を形成するように測定光を遮光する遮光部材106と、合成光により形成される干渉領域及び非干渉領域を撮像するCCDカメラ111とを備える。例文帳に追加
Further, the interferometer includes a shielding member 106 for shielding the measuring beam to form a non-interference region not interfering the reference beams having the second luminance and a CCD camera 111 for imaging an interference region formed by synthesized beams and the non-interference region. - 特許庁
面形状等を測定するための干渉計及びその測定方法例文帳に追加
INTERFEROMETER FOR MEASURING SURFACE SHAPE, ETC., AND MEASURING METHOD - 特許庁
電子的スペックル干渉法を用いた変形計測方法および装置例文帳に追加
DEFORMATION MEASUREMENT METHOD AND DEVICE USING ELECTRONIC SPECKLE INTERFEROMETRY - 特許庁
干渉計、形状測定装置及び方法、並びに露光装置例文帳に追加
INTERFEROMETER, INSTRUMENT AND METHOD FOR MEASURING SHAPE, AND EXPOSURE DEVICE - 特許庁
二つの3次元形状の干渉計算を安定して実行できるようにする。例文帳に追加
To stably calculate interference between two three-dimensional shapes. - 特許庁
位相シフト干渉縞同時撮像における平面形状計測方法例文帳に追加
PLANE SHAPE MEASURING METHOD IN PHASE SHIFT INTERFERENCE FRINGE SIMULTANEOUS IMAGING - 特許庁
位相シフト干渉縞同時撮像装置における平面形状計測方法例文帳に追加
PLANE SHAPE MEASURING METHOD IN PHASE SHIFT INTERFERENCE FRINGE SIMULTANEOUS IMAGING DEVICE - 特許庁
位相シフト干渉縞同時撮像装置における平面形状計測方法例文帳に追加
PLANE SHAPE MEASURING METHOD FOR PHASE-SHIFT INTERFERENCE FRINGE SIMULTANEOUS PHOTOGRAPHING DEVICE - 特許庁
動的干渉計を使用した薄膜形成監視方法の提供。例文帳に追加
To provide a method of monitoring thin-film formation using a dynamic interferometer. - 特許庁
縦型干渉計用基準板支持枠の基準板変形能測定方法およびこれを用いた縦型干渉計用基準板の選出方法例文帳に追加
METHOD FOR MEASURING CAPABILITY OF DEFORMING REFERENCE PLATE OF REFERENCE PLATE HOLDING FRAME FOR VERTICAL INTERFEROMETER, AND METHOD OF SELECTING REFERENCE PLATE FOR VERTICAL INTERFEROMETER USING THIS - 特許庁
ヘテロダイン干渉計を用いた形状測定装置、ヘテロダイン干渉計を用いた形状測定装置の光路長調整方法、及びヘテロダイン干渉計を用いた形状測定方法例文帳に追加
SHAPE MEASURING APPARATUS USING HETERODYNE INTERFEROMETER, METHOD OF ADJUSTING OPTICAL PATH LENGTH OF THE SHAPE MEASURING APPARATUS USING THE HETERODYNE INTERFEROMETER, AND METHOD OF MEASURING SHAPE USING THE HETERODYNE INTERFEROMETER - 特許庁
面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法例文帳に追加
INTERFEROMETER FOR MEASURING SHAPE OF SURFACE, WAVEFRONT ABERRATION MEASURING MACHINE, MANUFACTURE OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM USING THIS INTERFEROMETER AND MACHINE, AND METHOD FOR CALIBRATING THIS INTERFEROMETER - 特許庁
1実施形態では、第1の位相差は、時間tにおける試験干渉計の出力(52)の位相と、時間tから基準干渉計の既知の遅延だけオフセットした時間における試験干渉計の出力の位相との差である。例文帳に追加
In an embodiment, a first phase difference is the difference between the phase of the output 52 of a test interferometer at the time t and the phase of the output of a test interferometer at a time offsetting the known delay of a reference interferometer from the time t. - 特許庁
露光装置は、照明系10から出射される偏光を使って投影光学系1の収差情報をもった干渉縞を形成する干渉計と、干渉計によって形成される干渉縞に基づいて投影光学系1の光学特性を算出する処理部18とを備える。例文帳に追加
The exposure apparatus includes an interferometer that forms interference fringes including aberration information on projection optics 1 using polarized light beams emitted from an illumination system 10, and a processor 18 that calculates the optical characteristics of the projection optical system 1 on the basis of interference patterns formed by the interferometer. - 特許庁
そして、第2の干渉計I_2は、測定光を照射し、折り返し平面鏡F_1の表面に形成された鏡面S_1で反射され、再び第2の干渉計I_2に戻ってきた戻り光を基に、第2の干渉縞画像を取得する。例文帳に追加
The second interferometer I_2 emits measuring light and obtains a second interference fringe image based on return light that returns to the second interferometer I_2 again after being reflected from a mirror surface S_1 formed on a surface of the reflecting plane mirror F_1. - 特許庁
第2の干渉計I_2は、測定光を照射し、折り返し平面ミラーF_1の裏面に形成された球面ミラーの一部で反射され、再び第2の干渉計に戻ってきた戻り光を基に、第2の干渉縞画像を取得する。例文帳に追加
The second interferometer I_2 radiates measuring light, and acquires a second interference fringe image, based on return light having returned to the second interferometer again after being reflected by a part of a spherical mirror formed on the backside of the reflecting flat mirror F_1. - 特許庁
レーザ変位計のレーザ干渉計を用いた動的線形性計測方法及び計測装置例文帳に追加
DYNAMIC LINEARITY MEASURING METHOD USING LASER INTERFEROMETER OF LASER DISPLACEMENT METER, AND MEASUREMENT DEVICE - 特許庁
コンピュータによる設計方法において、三次元CADモデルのデータから部品間の干渉部分を抽出し、干渉部分に基づいて干渉する部品の形状を修正し、形状が修正された部品に基づいて干渉部分が発生しない形状の修正モデルを作成するように構成する。例文帳に追加
The designing method using a computer comprises extracting an interfering portion between components from data on the three-dimensional CAD model, correcting the shapes of the interfering components based on the interfering portion, and creating a corrected model of a shape without an interfering portion based on the components whose shapes have been corrected. - 特許庁
シャリング干渉計(6,44)により、位相シフトマスク(3)の横ずらし干渉画像を形成し、当該干渉画像を2次元撮像装置(17,48)により撮像する。例文帳に追加
A laterally offset interference image of a phase shift mask (3) is formed by a shearing interferometer (6, 44), and the interference image is captured by a two-dimensional imaging device (17, 48). - 特許庁
本発明の干渉計は、ワークWの表面形状によって形成される干渉縞を撮像するCCD31を有する干渉計本体と、CCD31により撮像された干渉縞の画像を表示する表示部70と、表示部70に表示された干渉縞の評価基準となる基準線を含むチャートを表示させるパソコン60とを備えることを特徴とする。例文帳に追加
The interferometer includes: an interferometer body having a CCD 31 for capturing interference fringes formed by a surface shape of a work W; a display section 70 for displaying images of interference fringes captured by the CCD 31; and a personal computer 60 for displaying a chart including a reference line that serves as an evaluation basis of interference fringes displayed at the display section 70. - 特許庁
干渉計、形状測定装置及び露光装置、並びに形状測定方法及び露光方法例文帳に追加
INTERFERROMETER, SHAPE MEASURING APPARATUS AND ALIGNER AND SHAPE MEASURING METHOD AND EXPOSING METHOD - 特許庁
さらに,干渉計10が斜入射干渉計の場合,干渉計10により計測される前記反射光及び前記背景光と,検出対象となるウェハ1のエッジが形成する辺とが,ウェハ1の面に垂直な方向から見て略平行となるよう構成する。例文帳に追加
In addition, if the interferometer 10 is an oblique- incident type, the reflected light and the background light measured by the interferometer 10 and the side formed by the edge of the water 1 to be detected are set to be substantially parallel to each other when viewed from a direction perpendicular to the surface of the wafer 1. - 特許庁
ヘテロダイン干渉計の高速タイプの非線形性を補償するためのシステム及び方法例文帳に追加
SYSTEM AND METHOD FOR HETERODYNE INTERFEROMETER HIGH VELOCITY TYPE NON-LINEARITY COMPENSATION - 特許庁
集積回路デバイスの波形による精査のための二パルス利用型光干渉計例文帳に追加
2-PULSE UTILIZED OPTICAL INTERFEROMETER FOR PRECISION INSPECTION WITH WAVEFORM OF INTEGRATED CIRCUIT DEVICE - 特許庁
一体型光学構造を有する多軸干渉計と偏菱形組立体の製造方法例文帳に追加
MULTI-AXIS INTERFEROMETER WITH INTEGRATED OPTICAL STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING RHOMBOID ASSEMBLY - 特許庁
白色光干渉計を用いた透明薄膜の厚さ及び形状の測定装置及び方法例文帳に追加
APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING THICKNESS AND PROFILE OF TRANSPARENT THIN FILM USING WHITE-LIGHT INTERFEROMETER - 特許庁
縞画像解析方法、干渉計装置、およびパターン投影形状測定装置例文帳に追加
STRIPE IMAGE ANALYTICAL METHOD, INTERFEROMETER DEVICE, AND PATTERN PROJECTION SHAPE MEASURING INSTRUMENT - 特許庁
凹面部と凸面部を有してなる被検面の形状を光干渉計測できるようにする。例文帳に追加
To lightwave-interference measure the shape of an inspected surface comprising a concave surface and a convex surface. - 特許庁
凹面部と凸面部を有してなる被検面の形状を光干渉計測できるようにする。例文帳に追加
To enable lightwave-interference measurement of the shape of an inspected surface comprising a concave surface and a convex surface. - 特許庁
本発明の一実施例によるマッハツェンダ干渉計は、2つの多モード干渉計と、多モード干渉計の間に挟まれた2本のアーム導波路と、2本のアーム導波路を分断するように形成された溝に挿入されたポリイミド波長板とから構成される。例文帳に追加
A Mach-Zehnder interferometer is composed of two multimode interferometers, two arm waveguides held between the multimode interferometers, and a polyimide wavelength plate inserted in the groove formed to part the two arm waveguides. - 特許庁
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