「後ガス」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

燃焼室直下流の排気ガス後処理装置例文帳に追加

AFTER-TREATMENT DEVICE FOR EXHAUST GAS IMMEDIATELY DOWNSTREAM OF COMBUSTION CHAMBER - 特許庁

排気ガス後処理システム及びその制御方法例文帳に追加

EXHAUST GAS POSTPROCESSING SYSTEM AND CONTROL METHOD THEREOF - 特許庁

その後、スパッタ法でガスバリア層２７を形成する。例文帳に追加

The gas barrier layer 27 is then formed by a sputtering method. - 特許庁

ディーゼルエンジンの排気ガス後処理装置例文帳に追加

EXHAUST GAS AFTERTREATMENT DEVICE FOR DIESEL ENGINE - 特許庁

ディーゼル排気ガス後処理方法及び装置例文帳に追加

AFTERTREATMENT METHOD AND DEVICE FOR DIESEL EXHAUST GAS - 特許庁

燃焼室の排気ガス後処理装置例文帳に追加

AFTER-TREATMENT DEVICE FOR EXHAUST GAS OF COMBUSTION CHAMBER - 特許庁

水洗冷却後の排ガス中の水分を除去する。例文帳に追加

To remove the water content in exhaust gas after water cooling. - 特許庁

切換弁装置及びそれを用いた排気ガス後処理装置例文帳に追加

SELECTOR VALVE DEVICE AND EXHAUST GAS AFTER TREATMENT DEVICE USING IT - 特許庁

ディーゼルエンジンの排ガス後処理装置例文帳に追加

EXHAUST GAS AFTERTREATMENT DEVICE OF DIESEL ENGINE - 特許庁

第２加湿器（45）へは、加熱後の原料ガスを導入する。例文帳に追加

The heated raw fuel gas is supplied to the second humidifier (45). - 特許庁

その後、液化石油ガスのみによる運転に切換えられる。例文帳に追加

Afterwards, the operation is switched to operation by only the liquefied petroleum gas. - 特許庁

ディーゼルエンジンの排気ガス後処理装置例文帳に追加

EXHAUST GAS AFTER-TREATMENT SYSTEM OF DIESEL ENGINE - 特許庁

混入後の処理ガスを吹出し口２１ａから吹き出す。例文帳に追加

The treatment gas after mixing is jetted from the jetting ports 21a. - 特許庁

その後、再び真空脱ガス処理を行う。例文帳に追加

Thereafter, the vacuum-degassing treatment is performed again. - 特許庁

ディーゼルエンジンの排ガス後処理装置例文帳に追加

EXHAUST GAS AFTER-TREATMENT DEVICE OF DIESEL ENGINE - 特許庁

排気ガス後処理装置の制御方法および装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING EXHAUST GAS AFTERTREATMENT SYSTEM - 特許庁

エッチング後の処理システムのためのガス分配システム例文帳に追加

GAS DISTRIBUTION SYSTEM FOR POST-ETCH TREATMENT SYSTEM - 特許庁

内燃機関の排気ガス後処理装置例文帳に追加

EXHAUST GAS POST-PROCESSOR FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINE - 特許庁

排気ガス後処理装置の評価装置例文帳に追加

EVALUATION DEVICE FOR EXHAUST GAS AFTER-TREATMENT DEVICE - 特許庁

排ガス後処理装置付きエンジンの制御装置例文帳に追加

CONTROL DEVICE FOR ENGINE WITH EXHAUST GAS AFTER-TREATING DEVICE - 特許庁

排気ガス後処理装置の再生方法例文帳に追加

METHOD FOR REGENERATING EXHAUST GAS POST TREATMENT DEVICE - 特許庁

排気ガス後処理装置のモニタ方法および装置例文帳に追加

AUTOEXHAUST POSTTREATMENT DEVICE MONITORING METHOD AND APPARATUS - 特許庁

排ガス後処理システムの制御のための方法および装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING EXHAUST GAS AFTERTREATMENT - 特許庁

第２加湿器（45）へは、加熱後の燃料ガスが導入される。例文帳に追加

The heated fuel gas is introduced into a second humidifier 45. - 特許庁

水洗後の乾燥を窒素ガス雰囲気中で行う。例文帳に追加

Then, the drying after the washing is carried out in a gaseous nitrogen atmosphere. - 特許庁

排気ガス後処理装置用液体供給装置例文帳に追加

LIQUID SUPPLY DEVICE FOR EXHAUST GAS AFTERTREATMENT DEVICE - 特許庁

作業機械の排ガス後処理装置例文帳に追加

EXHAUST GAS AFTER-TREATMENT DEVICE FOR WORKING MACHINE - 特許庁

可燃性ガスは、洗浄した後タールミストを除去する。例文帳に追加

The inflammable gas is cleaned, and thereafter, tar mist is removed. - 特許庁

ガス分離部２１で、特定ガスと他の混合ガスとに分離する過程において、窒素ガス等の混合ガスと共に僅かな特定ガスが混在する排ガスを、排ガス入口２０を介してガス分離部２１内の排ガスタンク６に一旦貯留した後に排ガス出口２を介して被回収容器２６へ再び還流する。例文帳に追加

At the step to separate the specified gas from other mixed gases in the gas separating part 21, exhaust gas in which a little specified gas is mixed together with other mixed gas such as nitrogen gas is stored temporarily in an exhaust gas tank 6 in the part 21 through an exhaust gas inlet 20, which is then made to flow to another vessel 26 through an exhaust gas outlet 2 again. - 特許庁

相関セルは、検知対象ガスと同種のガスが封入された測定ガス室および比較ガスが封入された比較ガス室を有するものであって、測定ガス室および比較ガス室の各々に連通するガス封入用流路を封止した後、測定ガス室および比較ガス室の各々に所定のガスを封入することにより得られたものである。例文帳に追加

The correlation cell having a measuring gas chamber wherein the same kind of gas as detection object gas is sealed and a comparison gas chamber wherein comparison gas is sealed is acquired by sealing a gas sealing passage communicated respectively with the measuring gas chamber and the comparison gas chamber, and then by sealing each prescribed gas into the measuring gas chamber and the comparison gas chamber respectively. - 特許庁

銃が発砲された後の後部のガス漏れ、および火薬の不完全燃焼例文帳に追加

the backward escape of gases and unburned gunpowder after a gun is fired  - 日本語WordNet

タービン６を駆動した後の燃焼ガスは排気としてガスタービン１０の外部へ排出される。例文帳に追加

The combustion gas after driving the turbine 6 is discharged to the outside of the gas turbine 10 as exhaust gas. - 特許庁

塩素ガス供給後、処理室内に水素ガスを供給する（ステップ１０５）。例文帳に追加

After supplying the chlorine-based gas, hydrogen gas is supplied into the treatment chamber (step 105). - 特許庁

ジシランガス供給後、処理室内に塩素系ガスを供給する（ステップ１０４）。例文帳に追加

After supplying the disilane gas, chlorine-based gas is supplied into the treatment chamber (step 104). - 特許庁

その後、不活性ガスを配して水素ガスのみで水素吸収を完了する。例文帳に追加

Thereafter, the hydrogen absorption is completed with the hydrogen gas only, by stopping the supply of the inert gas. - 特許庁

その後ヘリウムガスの供給を停止してアルゴンガスのプラズマジェット４５の発生を持続する。例文帳に追加

Later, supply of helium gas is stopped and production of the plasma jet 45 of argon gas is continued. - 特許庁

この後、六フッ化タングステンガスおよび前記モノシランガスを真空チャンバ内に再び導入する。例文帳に追加

Thereafter, tungsten hexafluoride gas and monosilane gas are introduced again in the vacuum chamber. - 特許庁

その後、水素ガスを１０容積％以上含む不活性ガスを、焼鈍炉内に導入する。例文帳に追加

After that, an inert gas, containing 10 volume % or higher of hydrogen gas, is introduced into the annealing furnace. - 特許庁

廃棄物由来のガス及び不活性ガスは、水洗後、余剰分を除き再利用する。例文帳に追加

The waste-derived gas and the inert gas are washed with water and reused after removing the excess. - 特許庁

ガス種判別後は、その判定結果に基づいてガス種に応じた燃焼制御を行う。例文帳に追加

After the discrimination on the gas type, the combustion control is performed corresponding to the gas type based on the discrimination result. - 特許庁

その後、Ｈ_2 を含むガスを供給し、アンドープＩｎＧａＮ層４をＨ__2 を含むガスに晒す。例文帳に追加

After that, H2-containing gas is fed to the layer 4 and the layer 4 is exposed to the H2-containing gas. - 特許庁

その後、４００℃又は８００℃に達するまで発生した不完全燃焼ガスを、木ガスとして回収する。例文帳に追加

An incomplete combustion gas generated until the temperature reaches 400°C or 800°C is then recovered as the wood gas. - 特許庁

ＰＦＣ分解ガスの洗浄後のガスを排気する排気ラインの腐食を抑制する。例文帳に追加

To inhibit the corrosion of an exhaust line for discharging gas after washing PFC decomposition gas. - 特許庁

成膜後は、ヘキサメチルジシラザンガスを流すのを止めるが、ＮＨ_3ガスはしばらく流し続ける。例文帳に追加

After the Si3N4 film is formed, it is stopped to flow the hexamethyldisilazane gas, but NH4 gas continues to flow for some time. - 特許庁

成膜処理終了後、ウエハ処理室４１内に、クリーニングガスとしてＰＦＣガスを供給する。例文帳に追加

After film formation is finished, a PFC gas is supplied as cleaning gas into the wafer treatment chamber 41. - 特許庁