「後ガス」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

ガスバリア層形成用組成物を基材上に塗布後、乾燥してなるガスバリア性フィルム。例文帳に追加

The gas barrier film is obtained by applying the composition for forming a gas barrier layer onto a substrate, followed by drying. - 特許庁

長時間経過後のガスバリア性に優れるガスバリア性フィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a gas barrier film which exhibits excellent gas barrier properties even after lapse of long time. - 特許庁

脱ガス処理後の溶射膜は、ガス残存量が１０Ｔｏｒｒ・ｃｃ／ｇ以下とされている。例文帳に追加

In the sprayed coating after the degassing treatment, the remaining amount of the gas is controlled to ≤10 Torr.cc/g. - 特許庁

インフレータ３０は、前側ガス噴出口３１と後側ガス噴出口３２とを有している。例文帳に追加

The inflator 30 comprises a front gas port 31 and a rear gas port 32. - 特許庁

排気系の後段には排気系からの排ガスを処理する排ガス処理系が配設されている。例文帳に追加

An exhaust gas treatment system for treating exhaust gas from the exhaust system is installed in the post-stage. - 特許庁

ガスレンジグリル使用後の、洗浄を不用にするガスレンジグリル使い捨て受け皿を提供する。例文帳に追加

To provide a disposable catch tray for a gas range grill, eliminating the need of washing after a gas range grill is used. - 特許庁

燃料電池の発電後の燃料オフガスを吐出させる燃料オフガス流路１５を有する。例文帳に追加

A fuel offgas passage 15 for discharging the fuel offgas after power generation of the fuel cell is provided. - 特許庁

ＰＦＣ分解ガスの洗浄後のガスを排気する排気ラインの腐食を抑制する。例文帳に追加

To suppress the corrosion of an exhaust line for exhausting the gas after washing PFC (perbluoro compounds) decomposition gas. - 特許庁

その後、冷却排ガスを集塵機から排ガス処理装置の上流側に戻す。例文帳に追加

The waste gas cooled is thereafter returned from a dust collector to the upstream side of a waste gas treating equipment. - 特許庁

脱湿装置(７)を加熱再生ガスを流した後に非加熱の再生ガスで再生する。例文帳に追加

Heated regenerated gas is flowed in the dehumidifying device 7 before the dehumidifying device 7 is regenerated by non-heated regenerated gas. - 特許庁

内燃機関の排ガス系における排ガス後処理装置／消音装置コンビネーション例文帳に追加

COMBINATION OF EXHAUST GAS POST-PROCESSOR/MUFFLER IN EXHAUST GAS SYSTEM OF INTERNAL COMBUSTION ENGINE - 特許庁

排気ガス用の後処理フィルタとその製造方法及び排気ガスの処理方法例文帳に追加

POST-PROCESSING FILTER FOR EXHAUST GAS, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR PROCESSING EXHAUST GAS - 特許庁

充填の１秒後に、ガス容器１２内から１００Ｌ／ｍｉｎの流量でガスを排出する。例文帳に追加

In one second after filling, the gas is discharged with a flow rate of 100 L/min from the inside of the gas container 12. - 特許庁

（２）脱酸処理後の取鍋スラグにスラグ改質剤を添加した後、溶鋼中にガスを吹き込むことでガス攪拌を行い、該ガス攪拌後に溶鋼中にガス吹き込む際の攪拌動力で１２０Ｗ／ｔ以下の攪拌をさらに行う。例文帳に追加

(2) After executing the deoxidizing treatment and adding the slag reforming agent into the slag in the ladle, the gas stirring is executed by blowing the gas into the molten steel and after gas-stirring, the stirring is further executed at the stirring power of not more than 120 W/t when the gas is blown into the molten steel. - 特許庁

（１）脱酸処理後の取鍋スラグにスラグ改質剤を添加した後、溶鋼中にガスを吹き込むことでガス攪拌を行い、該ガス攪拌後にＲＨ真空脱ガス装置で溶鋼を環流する。例文帳に追加

(1) After executing the deoxidizing treatment and adding a slag reforming agent into the slag in a ladle, gas stirring is executed by blowing the gas into the molten steel, and after gas-stirring, the molten steel is circulated in an RH vacuum degassing apparatus. - 特許庁

発光式フッ素ガス濃度計を用いて試料ガス中のフッ素ガス濃度を測定するフッ素ガス測定方法において、前記発光式フッ素ガス濃度計の試料ガスと接する部分にフッ化キセノンを用いてフッ化層を形成した後、あるいは、前記発光式フッ素ガス濃度計をフッ化キセノンを用いて校正した後、試料ガス中のフッ素ガス濃度を測定する。例文帳に追加

The method for measuring a concentration of a fluorine gas in a sample gas by using a luminescent fluorine gas concentration meter includes the step of measuring concentration of a fluorine gas in the sample gas after forming a fluoride layer by using xenon fluoride to a portion in contact with the sample gas of the luminescent fluorine gas concentration meter or after calibrating the luminescent fluorine gas concentration meter by using xenon fluoride. - 特許庁

前記生成ガスをガス洗浄塔６とＣＯ転化装置７の経由後、酸性ガス除去装置８を経て精製Ｈ_2 ガス９を得る場合において、前記酸性ガス除去装置８からのＣＯ_2 ガスを低温ガス化炉２の流動化ガスとし、また、高温ガス化炉５の酸素ガス稀釈剤として循環利用する。例文帳に追加

In obtaining purified H2 gas 9 by passing the formed gas through a gas washing tower 6 and a CO conversion apparatus 7 and successively through an acidic gas-removing apparatus 8, the CO2 gas from the acidic gas-removing apparatus 8 is made to be a fluidized gas in a low temperature gasification furnace 2 and further used as the oxygen diluting gas in circulation to a high temperature gasification furnace 5. - 特許庁

ガスの分離部２１でＳＦ６ガスと他の混合ガスとに分離する過程において、混合ガスと共に微かなＳＦ６ガスが混在する排ガスを、排ガス入口２０を介してガス分離部２１内の排ガスタンク６に一旦貯留した後に排ガス出口２を介して被回収容器２６へ再び還流する。例文帳に追加

In a process for separating SF6 gas from other mixed gas in a gas separation part 21, exhaust gas wherein a slight amount of the SF6 gas is present along with mixed gas is once stored in the exhaust gas tank 6 in the gas separation part 21 through an exhaust gas inlet 20 and subsequently again refluxed to a container 26 to be recovered through an exhaust gas outlet 2. - 特許庁

そして、その加熱後の可燃性ガスを搬送用ガスとして用いて、微粉炭およびチャーを石炭ガス化炉８に供給する。例文帳に追加

Then, with the use of the combustible gas after heating as the carrier gas, the pulverized coal and the char are supplied to the coal gasification furnace 8. - 特許庁

燃焼後の燃焼ガスは再び、脱着ガス用熱交換器４１を通り、脱着ガスや触媒燃焼用の空気を昇温する。例文帳に追加

Combustion gas after combustion is passed through the heat exchanger 41 for desorbed gas and elevates temperature of the desorbed gas and air for catalytic combustion. - 特許庁

その後、カソード反応ガス流れ場内のガスは、カソード反応ガス流れ場へ水素を流入させることによって再びパージされる。例文帳に追加

Thereafter, gas in the cathode reactant flow field is purged again by making hydrogen flow into the cathode reactant gas flow field. - 特許庁

キャリアガスが流通する反応炉内にドーパントガスを供給した後、シリコン原料ガスを供給してエピタキシャル成長を行う。例文帳に追加

After dopant gas is supplied into a reaction furnace through which carrier gas flows, silicon material gas is supplied to start epitaxial growth. - 特許庁

前記燃料電池ユニットは、水素ガスと酸素ガスが電気化学反応を行なった後に、未反応ガスおよび熱を排出する。例文帳に追加

The fuel cell unit discharges unreacted gas and heat after electrochemical reaction between hydrogen gas and oxygen gas. - 特許庁

間接加熱に使用したガスはガス無害処理後、放散するとともに、得られた熱分解ガスを蒸溜凝縮して燃焼油や液態水を得る。例文帳に追加

The gas used for indirect heating is rendered harmless and dissipated and thermal decomposition gas thus produced is distilled and condensed to obtain combustion oil or liquid state water. - 特許庁

放出されたアノードガスは、湿度の調整後、燃料電池のアノードガス送入口に再び向けられ、アノードガスの再循環が形成される。例文帳に追加

The released anode gas is, after adjusted for humidity, directed again toward an anode gas feeding opening of the fuel cell, to form recirculation of the anode gas. - 特許庁

通ガス管３４の後端部には、アルゴンガス供給管３５が立設されており、アルゴンガスが通流される。例文帳に追加

An argon gas supply tube 35 is erected in a rear end of the gas flow-through pipe 34, and argon gas flows therethrough. - 特許庁

第１呼気ガス容器６および第２呼気ガス容器７には、それぞれ、同一の被検者における検査試薬投与前・後の呼気ガスを収納する。例文帳に追加

The container 6 and 7 contain the exhalation gases that one and the same testee gives off separately before and after taking a reagent for the test, respectively, in that order. - 特許庁

排ガスに含まれる酸性ガスを効果的に処理し、かつ使用後の処理剤を再利用できる排ガス処理剤と処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exhaust gas treatment agent which effectively treat acidic gas contained in exhaust gas, and is reutilizable after use, and a treatment method therefor. - 特許庁

この後、処理ガスはガス拡散用空隙７内で拡散して、各ガス吐出孔５から半導体ウエハＷに向けて吐出する。例文帳に追加

Then, treatment gas is diffused in the gas diffusion void 7 and is discharged from gas discharge holes 5 toward a semiconductor wafer W. - 特許庁

高温耐久後においても排気ガスのＨ_２濃度を高める排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化用触媒システムを提供すること。例文帳に追加

To produce an exhaust gas cleaning catalyst and to provide an exhaust gas cleaning catalyst system capable of increasing the H_2 concentration in an exhaust gas even after durability at high temperature. - 特許庁

その後、火災又はガス発生が検出されると、警報器は遮断信号を送信して、ガスメータにガス遮断を行わせる。例文帳に追加

Thereafter, when the generation of fire or gas is detected, the alarm device transmits an intercepting signal to intercept gas by the gas meters. - 特許庁

ガス中のＮＯ_Ｘ濃度を、ガスを反応物質と混合することにより減少させ、その後、ガスを処理のために、ＲＳＣＲ装置に入れる。例文帳に追加

A NO_X concentration in the gas is reduced by mixing the gas with a reaction substance, and the gas is guided thereafter into an RSCR device to be treated. - 特許庁

乾燥機３からの排ガス及び熱交換器１４で熱交換されたガスはガス処理設備２３にて処理され、その後大気中へ排出される。例文帳に追加

A discharge gas from the dryer 3 and gas heat-exchanged by the heat exchanger 14 is treated by a gas treating facility 23 and then discharged into the air. - 特許庁

そして、所定時間経過後、ＳｉＨ_4ガス、Ｏ_2ガス及びＡｒガスをそれぞれトップノズル２０及びサイドノズル２４から供給する。例文帳に追加

After a specified time elapses, each of the SiH4 gas, O2 gas and Ar gas is fed from the top nozzle 20 and from the side nozzle 24. - 特許庁

ガス噴射弁において、ガス容器使用後に、容易にガスを再注入でき、より強度、剛性が高く、しかも安価に製作できる機構とする。例文帳に追加

To provide a gas injection valve capable of easily recharging a gas after the use of a gas container, and being easily manufactured with high strength and high rigidity. - 特許庁

焼成後のガス感応膜５が、より薄く形成されることとなるので、応答性に優れたガスセンサ用のガス感応膜５を形成することができる。例文帳に追加

The gas-sensitive film 5 after sintering is formed thinly, thus forming the gas-sensitive film 5 for gas sensors having a superior response property. - 特許庁

起動から暖機運転終了まではＬＰガスのみが供給され、暖機運転終了後はＬＰガスから木質バイオマスガスに切り替えられる。例文帳に追加

LP gas is only supplied during the time from starting to finishing warm-up operation, and it is changed over into woody biomass gas after finishing warm-up operation. - 特許庁

エッチャント・ガス濃度および不活性ガス濃度を決定し、後者の濃度を使用してエッチャント・ガス濃度齲を正規化する。例文帳に追加

The etchant gas concentration and inert gas concentration are determined and the latter concentration is used to normalize the etchant gas concentration. - 特許庁

装置内のガスを排気した後、導入口１１からアルゴンガスを導入すると共に、導入口１８から反応性ガスを導入する。例文帳に追加

The gas in an apparatus is discharged and then argon gas is introduced into the apparatus through an introduction port 11 and a reactive gas is also introduced through another introduction port 18. - 特許庁

ガスタービンの運転後にガスタービンを速く冷却する方法及びその方法を実施するためのガスタービンを提供する。例文帳に追加

To provide a method of cooling a gas turbine quickly after operation thereof and to provide a gas turbine for implementing the method. - 特許庁

廃ガスを予備加熱した後に燃焼処理することによって、廃ガスの完全燃焼処理を可能にすることのできる廃ガス処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a waste gas treatment apparatus capable of completely combusting a waste gas by preheating the waste gas and after that combusting. - 特許庁

その後、処理ガスを第２のガス供給系３０７から第２のガス供給管３１０を介して、処理室３０１の下部から導入する。例文帳に追加

After that, a process gas is introduced through the lower part of the process chamber 301 from a second gas supply system 307 by way of a second gas supply pipe 310. - 特許庁

エッチャント・ガス濃度および不活性ガス濃度を決定し、後者の濃度を使用してエッチャント・ガス濃度齲を正規化する。例文帳に追加

The etchant gas concentration and an inert gas concentration are determined, and the latter concentration is used to normalize the etchant gas concentration. - 特許庁

圧縮ガス充填後における不純物ガスの濃度が所定の濃度を超えているか否かを圧縮ガス充填前に判定する。例文帳に追加

To decide whether or not a concentration of impurity gas after filling a compressed gas exceeds predetermined concentration before filling the compressed gas. - 特許庁

排気ダクト２０は、排気管１３のガス排出口にガス導入口が連通し、ガス排出口を後ろ向きとする。例文帳に追加

In the exhaust duct 20, a gas inlet communicates with the gas exhaust of the exhaust pipe 13, and the gas exhaust is turned rearward. - 特許庁