| 意味 | 例文 |
Design drawingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 408件
This support system for design drawing input operation confirmation which uses a computer sequentially recognizes, stores, and adds members having been inputted to previous input operation to reflect them in an input operation continuation process, and displays their outward appearances in a dialog box so that the direction and the height of the viewpoint can optionally be changed.例文帳に追加
コンピュータを用いた住宅設計図面入力時の入力作業確認支援システムであって、入力作業継続過程において、入力済み部材を逐次認識し、蓄積させ、前入力作業に付加して反映させ、ダイアログボックス内に、方位、視点の高さを任意変更可能に外観表示させることを特徴とする設計図面入力作業確認支援システム。 - 特許庁
For example, the computing part computes load acting actually on the orthogonal gear pair 100 as the information of the gear pair based on the design specifications and displays an arrangement drawing of the orthogonal gear pair which displays the computed load by vector by images through the display device 13 to reduce user's burden, for example, when examining strength of a bearing and a case applied to the orthogonal gear pair 100.例文帳に追加
例えば、設計諸元に基づいて、直交歯車対１００に実際に作用する荷重を歯車対情報として演算し、演算した荷重をベクトル表示した直交歯車対の配置図を、ディスプレイ装置１３等を介して画像表示することにより、例えば、ユーザが、直交歯車対１００に適用するベアリングやケースの強度等を検討する際の負担を軽減する。 - 特許庁
Components of design data expressed by vectors are handled as parts, and raster data of the parts and layout information showing positions of the parts are provided to hold the raster data, and only a portion corresponding to an exposed region is cut out to generate new parts when needed, with respect to parts being beyond a drawing region corresponding to each recording head when raster data for the recording head is generated.例文帳に追加
ベクトル表記される設計データの構成要素を部品として扱い、部品のラスターデータと部品の位置を示すレイアウト情報とを持つことによりラスターデータを保持し、かつ、各記録ヘッド毎のラスターデータを作成する際に、記録ヘッドが対応する描画領域を超える部品に関しては、必要に応じて、露光領域に対応する部分のみを切り出して、新たな部品を作成することにより前記課題を解決する。 - 特許庁
To provide a pattern arrangement method for stencil masks which previously executes the optimum arrangement circuit patterns from a design stage so as to allow the efficient selection of the circuit patterns arranged on the stencil masks used for direct electron beam drawing technique and draws the circuit patterns of high throughput on a wafer with the least possible correction and exchange of the stencil masks and a method for manufacturing semiconductor integrated circuits using the same.例文帳に追加
本発明は、電子ビーム直接描画技術に用いられるステンシルマスクに配置される回路パターンを効率的に選択できるように、あらかじめ設計段階から回路パターンの最適配置を行うとともに、ステンシルマスクの修正や交換がなるべく少なくスループットの高い回路パターンをウエハー上に描画するステンシルマスクのパターン配置方法およびそれを用いた半導体集積回路製造方法を得る。 - 特許庁
To provide a photomask data display device which does not increase the time spent to view photomask data even if the data increase in amount and enables the viewing at practical level of operability when a figure of photomask data at one base is displayed at another base in the case that an LSI design base or LSI manufacturing base and a photomask manufacturing base where photomask data for a drawing device are present are far away from each other.例文帳に追加
ＬＳＩ設計拠点、あるいは、ＬＳＩ製造拠点と、描画装置用フォトマスクデータが存在するフォトマスク製造拠点とが遠く離れている場合、一方の拠点において、他方の拠点のフォトマスクデータの図形を表示させる際、そのデータ量が増大化ても、フォトマスクデータのビューイングに費やす時間が増大化せず、作業性の面から実用的レベルでビューイングが行なえるフォトマスクデータ表示装置を提供する。 - 特許庁
(2) An application must include the following information and documents in addition to the declaration mentioned in paragraph 4(1)(b) of the Act: (a) the name and address of the applicant and, if an agent is named, the name and address of the agent; (b) a title identifying the finished article or set in respect of which the registration of the design is requested; (c) for the purpose of paragraph 4(1)(a) of the Act, a description that identifies the features that constitute the design; (d) a drawing or photograph in accordance with section 9.1; and (e) if the applicant has no place of business in Canada, the name and address of a representative for service. 例文帳に追加
(2) 出願書類は，法律第 4 条(1)(b)に記載の宣言書に加え，次の情報及び書類を含まなけれ ばならない。 (a) 出願人の名称及び住所，並びに代理人が指名されている場合は当該代理人の名称及び住 所 (b) 意匠の登録請求に関する完成品又は組物を特定する名称 (c) 法律第 4 条(1)(a)の適用上，意匠を構成する特徴を特定する説明書 (d) 第 9.1 条に従う図面又は写真，及び (e) 出願人がカナダ所在の営業所を有していない場合は，送達代理人の名称及び住所 - 特許庁
Claims to remuneration for a discovery or for exploitation of an invention, an industrial design or a rationalization proposal, claims for reimbursement of the appropriate cost of preparing drawings, models or prototypes, for the spirit of initiative in participation in the execution, trials and implementation of discoveries, inventions, industrial designs or rationalization proposals, as also claims to remuneration for drawing attention to the possibility of using an invention or rationalization proposal, that originated before the entry into force of this Act shall be governed by prior law. 例文帳に追加
発見の又は発明，工業意匠若しくは合理化提案の実施に係る対価の請求権，図面，ひな形若しくは原型の作成に係る適正な費用の返還に係る請求権，発見，発明，工業意匠若しくは合理化提案の創作，試作及び完成に進んで参加する意思に係る請求権，又は発明若しくは合理化提案の使用の可能性への注意喚起に係る対価の請求権で，本法の施行前に生じたものについては，旧法を適用する。 - 特許庁
Sec.172 Literary and Artistic Works 172.1. Literary and artistic works, hereinafter referred to as “works”, are original intellectual creations in the literary and artistic domain protected from the moment of their creation and shall include in particular: (a) Books, pamphlets, articles and other writings; (b) Periodicals and newspapers; (c) Lectures, sermons, addresses, dissertations prepared for oral delivery, whether or not reduced in writing or other material form; (d) Letters; (e) Dramatic or dramatico-musical compositions; choreographic works or entertainment in dumb shows; (f) Musical compositions, with or without words; (g) Works of drawing, painting, architecture, sculpture, engraving, lithography or other works of art; models or designs for works of art; (h) Original ornamental designs or models for articles of manufacture, whether or not registrable as an industrial design, and other works of applied art; (i) Illustrations, maps, plans, sketches, charts and three-dimensional works relative to geography, topography, architecture or science; (j) Drawings or plastic works of a scientific or technical character; (k) Photographic works including works produced by a process analogous to photography; lantern slides; (l) Audiovisual works and cinematographic works and works produced by a process analogous to cinematography or any process for making audio-visual recordings; (m) Pictorial illustrations and advertisements; (n) Computer programs; and (o) Other literary, scholarly, scientific and artistic works.例文帳に追加
第172条 文学的及び美術的著作物 172.1文学的及び美術的著作物(以下「著作物」という)とは，文学及び美術の領域において創作の時から保護される独創的な知的創作物をいい，特に次のものを含む。 (a)書籍，小冊子，論文その他の文書 (b)定期刊行物及び新聞 (c)口頭で行うために準備された講演，説教，演説及び学術論文(書面その他の形式にされるか否かを問わない) (d)書簡 (e)演劇用又は楽劇用の作品；舞踊の作品又は無言劇の演芸 (f)楽曲(歌詞を伴うか否かを問わない) (g)素描，絵画，建築，彫刻，版画，石版画その他の美術作品の著作物；美術作品のための模型又は下絵 (h)製造物品のための独創的な装飾的下絵又は模型(意匠として登録することができるものであるか否かを問わない)及び応用美術のその他の著作物 (i)地理学，地形学，建築学又は科学に関する図解，地図，図面，略図及び模型 (j)科学的又は技術的性質の図面又は模型 (k)写真の著作物(写真に類似する方法により製作された著作物を含む)；幻灯スライド (l)視聴覚著作物及び映画の著作物(映画に類似する方法又は視聴覚記録物を製作する方法により製作された著作物を含む) (m)絵画入りの図解及び広告 (n)コンピュータ・プログラム (o)その他の文学的，学術的，科学的及び美術的著作物 - 特許庁
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