「ETCHING GLASS」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The wet etching or dry etching of the resultant structure makes the surface of the low-melting-point glass 13 porous.例文帳に追加

ウェットエッチング処理又はドライエッチング処理により低融点ガラス１３の表面をポーラス状にする。 - 特許庁

In this case, etching time is adjusted in such a way that the thickness of each of the glass substrates 1, 21 is reduced by 75 μm via etching.例文帳に追加

その際、エッチング時間を、ガラス基板１、２１の厚みを７５μmエッチングする様に調整する。 - 特許庁

The projected and recessed pattern 7 is formed by etching glass for etching containing 3 to 20wt.% vanadium pentoxide to base glass composing the covered glass layer 3, and performing firing under heating at 850 to 950°C.例文帳に追加

凹凸パターン７は、被覆ガラス層３を構成する基礎ガラスに、五酸化バナジウムを３〜２０ｗｔ％含むエッチング用ガラスをエッチングし、８５０〜９５０℃の温度で加熱焼成して形成してある。 - 特許庁

To provide a protective tape capable of protecting transparent electrodes, an alignment film or the like on a glass substrate from an etching liquid when the glass substrate used for a flat display panel is etched, and to provide a method for etching the glass substrate.例文帳に追加

平面型表示パネルに使われるガラス基板をエッチング加工する際、エッチング液からガラス基板上の透明電極や、配向膜等を保護できる保護テープおよびエッチング加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-curable resist resin composition for glass etching having excellent alkali resolution property and hydrofluoric acid resistance and also having excellent adhesion to the glass substrate thereby enabling the amount of side etching in etching of a glass substrate to be reduced.例文帳に追加

優れたアルカリ解像性、フッ酸耐性を有するとともに、ガラス基板との密着性にも優れるため、ガラス基板のエッチングの際にサイドエッチング量を抑制することができる、ガラスエッチング用放射線硬化性レジスト樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

glass that diffuses light due to a rough surface produced by abrasion or etching 例文帳に追加

研磨またはエッチングで作られた粗い表面のために光を拡散するガラス - 日本語WordNet

The second lens is thereafter formed by etching a glass plane substrate 12.例文帳に追加

その後、ガラス平面基板１２をエッチングすることで第２レンズを形成する。 - 特許庁

GLASS-LIKE CARBON ELECTRODE PLATE AND PLASMA ETCHING DEVICE MOUNTED WITH THE SAME例文帳に追加

ガラス状カーボン製電極板及びそれを装着したプラズマエッチング装置 - 特許庁

RESIST RESIN COMPOSITION FOR GLASS ETCHING AND METHOD FOR FORMING CIRCUIT BY USING THE SAME例文帳に追加

ガラスエッチング用レジスト樹脂組成物、およびそれを用いた回路形成方法 - 特許庁

Surface of the glass substrate A is subjected to film deposition processing or etching processing in a reaction chamber 2.例文帳に追加

反応室２でガラス基板Ａの表面に成膜処理あるいはエッチング処理をする。 - 特許庁

At this time, the etching liquid is sprayed preferably on a bottom surface of the glass plate held horizontally.例文帳に追加

このとき、水平にしたガラス板の底面にエッチング液を吹き付けることが好適である。 - 特許庁

MEMBER FOR SEMICONDUCTOR WAFER ETCHING CONSISTING OF SILICA GLASS SINTERED COMPACT AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

シリカガラス焼結体からなる半導体ウエハエッチング用部材とその製造方法 - 特許庁

GLASS ETCHING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE AND PHOTOELECTRIC TRANSDUCER例文帳に追加

ガラスのエッチング方法、透明導電基板の製造方法および光電変換素子 - 特許庁

An etching rate of an undercoat layer 4 to hydrofluoric acid is made to be lower than that of a glass substrate 3.例文帳に追加

アンダーコート層４のフッ酸に対するエッチングレートをガラス基板３より遅くする。 - 特許庁

The glass substrate-regenerating device includes a management mechanism 10 of the etching liquid based on the management method.例文帳に追加

上記管理方法に基づいたエッチング液の管理機構１０を具備するガラス基板再生装置。 - 特許庁

To easily and precisely perform glass etching without using any hazardous chemical.例文帳に追加

危険性の高い薬品を用いずに簡便かつ精密にガラスエッチングを行う。 - 特許庁

The etching tank contains a plurality of glass substrates arranged perpendicularly to the bottom in parallel with each other.例文帳に追加

エッチング容器は、底に垂直かつ互いに平行に配置された複数のガラス基板を収容する。 - 特許庁

To provide an etching device for thinning a glass substrate for a flat panel display.例文帳に追加

フラットパネルディスプレイ用ガラス基板の薄型化のためのエッチング装置を提供する。 - 特許庁

On the glass substrate 200, a pocket 201 is formed by etching.例文帳に追加

封止ガラス基板２００には、ポケット部２０１がエッチングによって形成されている。 - 特許庁

To provide an etching apparatus capable of precisely controlling the thickness of a glass substrate which is etched.例文帳に追加

エッチングされるガラス基板の厚さを精度良く制御することができるエッチング装置を提供する。 - 特許庁

The transmitting grids 3 on the glass substrate 9 are formed by etching a first light shielding film 16 formed on a glass substrate surface 15.例文帳に追加

ガラス基板９の透過格子３はガラス基板表面１５に形成した第１遮光膜１６をエッチングすることにより形成されたものである。 - 特許庁

The cutting and separation method comprises the step of degenerating the inside of glass by condensing laser light in the inside and the step of etching glass.例文帳に追加

ガラス内部にレーザーを集光してガラス内部を変質させる工程の後、ガラスをエッチングする工程を経てガラスを切断分離する。 - 特許庁

This method includes a shape processing step for performing shape processing to the shape of a cover glass by etching a glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板をエッチングすることによりカバーガラスの形状に形状加工する形状加工工程を含む。 - 特許庁

Then, a thinning process is applied to a pair of the glass substrates 1 by immersing a pair of the mutually integrated glass substrates 1 in etching liquid.例文帳に追加

次に、互いに一体にされた一対のガラス基板１をエッチング液に浸漬してこれら一対のガラス基板１に薄型化加工を施す。 - 特許庁

To provide an etching solution for producing a photomask comprising a glass substrate of quartz glass or the like used in the production of a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路の製造に使用する石英ガラス等のガラス基板からなるフォトマスクを製造するために使用するエッチング液。 - 特許庁

When the glass film corresponding to the desired depth of the V groove of the glass films 63a to 63d disappears, the anisotropic etching is completed.例文帳に追加

ガラス膜６３ａ〜６３ｄのうち、Ｖ溝の所望の深さに対応するガラス膜が無くなると、異方性エッチングを終了する。 - 特許庁

RADIATION-CURABLE RESIST RESIN COMPOSITION FOR GLASS ETCHING AND METHOD FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATE USING THE SAME例文帳に追加

ガラスエッチング用放射線硬化性レジスト樹脂組成物およびこれを用いたガラス基板の製造方法 - 特許庁

Glass is arranged vertically and made thinner by uniformly flowing an etching solution from the upper part of the glass to a lower part.例文帳に追加

ガラスを垂直に立て、前記ガラスの上部から下部にエッチング液を均一に流して前記ガラスを薄型化する構成とした。 - 特許庁

Succeedingly, the glass substrate 111 is immersed in an etching solution, the melting of the glass substrate 111 is carried out until the thickness is set to 0.2 mm (step S13).例文帳に追加

引き続き、ガラス基板１１１をエッチング液に浸漬し、厚さが０．２ｍｍになるまで、ガラス基板１１１を溶融する（ステップＳ１３）。 - 特許庁

Further, solid matter containing components eluted from the glass substrate is separated and removed from the etching solution by adding a barium-containing solution to the etching liquid after the etching treatment.例文帳に追加

また、エッチング処理した後のエッチング液にバリウム化合物を含む溶液を添加することで、前記ガラス基板から溶出した成分を含む固形物を前記エッチング溶液から分離し、除去する。 - 特許庁

This etching method blows down on an etching liquid remaining in forcedly discharging portions 30, 40, for instance, by jetting out air 66 before setting a glass panel 1 on a pouring position of an etching liquid 11.例文帳に追加

エッチング液（１１）の注入する注入位置にガラスパネル（１）を搬入する前に、エッチング液の吐出部（３０，４０）に残存するエッチング液を、例えば空気を噴射（６６）することにより、強制的に排出しておく。 - 特許庁

To provide an etching method and an etching device, wherein a glass substrate or the like can be subjected to etching with high precision, and the necessity of maintenance can be reduced.例文帳に追加

ガラス基板等を高精度でエッチングでき、メンテナンスの必要性を低減できるエッチング方法およびエッチング装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The glass spacer 5 can be provided by applying an etching process to a cut end face of drawn glass formed by cutting drawn raw glass 41 and by chipping the cut end face of the drawn glass by a predetermined amount.例文帳に追加

ガラススペーサ５は、延伸された母材ガラス４１が切断された延伸ガラスの切断端面にエッチング処理を施し、延伸ガラスの切断端面を所定量削り得られる。 - 特許庁

The mold for molding with the spacer is produced by forming an etching prevention film 102 on a glass substrate 100, forming an opening array 104 on the etching prevention film, forming a recess array 106 in the glass substrate under the opening array by the liquid phase etching, removing the etching prevention film of the member of the recess array, and fixing the spacer in at least three portions of the residual etching prevention film.例文帳に追加

スペーサ付き成形型は、ガラス基板１００上にエッチング阻止膜１０２を成膜し、エッチング阻止膜に、開口アレイ１０４を形成し、液相エッチングによって、開口アレイの下部のガラス基板に凹部アレイ１０６を形成し、凹部アレイの部分のエッチング阻止膜を除去し、残されたエッチング阻止膜上の少なくとも３個以上の箇所にスペーサを固着することで作製される。 - 特許庁

To provide a mask for quartz glass etching to be applied in the case where the hinge part in the pendulum for an accelerometer is constituted by etching a quartz glass with high 55% or so concentration of hydrogen chloride at several 100 μm level of etching for a long time of several hours level of 55% and provide the quartz glass etching process.例文帳に追加

石英ガラスを５５％程度の高濃度の弗化水素酸により数時間に及ぶ長時間に亘って数１００μｍレベルのエッチング加工を施して加速度計のペンジュラムのヒンジ部を構成する様な場合に適用される石英ガラスエッチング加工用マスクおよび石英ガラスエッチング加工方法を提供する。 - 特許庁

The resist resin composition for glass etching contains (A) a polyarylate resin, (B) a photoacid generator, (C) a silane coupling agent, and the method for forming a circuit uses the resist resin composition for glass etching.例文帳に追加

（Ａ）ポリアリレート樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）シランカップリング剤を含有することを特徴とするガラスエッチング用レジスト樹脂組成物、およびそのガラスエッチング用レジスト樹脂組成物を用いた回路形成方法。 - 特許庁

Then, the protective tape 100 is pasted on the surface of a glass substrate 3, and etching is performed, thus, upon the etching, the adhesive agent 1 protects transparent electrodes 4, an alignment film 5 or the like on the glass substrate 3.例文帳に追加

そして、この保護テープ１００をガラス基板３表面に貼り付けエッチング加工することで、エッチング加工時は、前記粘着剤１がガラス基板３上の透明電極４や配向膜５等を保護する。 - 特許庁

By etching the glass substrate in a covering state of a part of the glass substrate by an etching treatment liquid mainly consisting of hydrofluoric acid, the partition wall or an electrode pattern groove is formed.例文帳に追加

ガラス基板の一部を被覆した状態で、フッ酸を主成分としたエッチング処理液によって前記ガラス基板をエッチングして、隔壁又は電極パターン溝を形成する。 - 特許庁

In the glass substrate 6 of the active matrix substrate 2, an etching speed by etching solution is lower than that of a glass substrate 7 of the facing substrate 3.例文帳に追加

そして、アクティブマトリクス基板２のガラス基板６は、エッチング溶液によりエッチングされる速度が対向基板３のガラス基板７よりも小さい。 - 特許庁

The etching method of a quartz glass member comprises applying a polyvinyl chloride coating liquid on at least one part of the outer surface of the quartz glass member, drying the liquid, and then treating the member with an etching liquid containing hydrogen fluoride as the main component.例文帳に追加

石英ガラス部材のエッチング方法において、石英ガラス部材の外表面の少なくとも一部にポリ塩化ビニル塗布液を塗布し、乾燥したのち、フッ化水素を主成分とするエッチング液で処理する。 - 特許庁

Since desired glass etching can be attained by naturally flowing the etching solution by the gravity, the generation of particles can be drastically reduced and at the same time, the glass can be made ultra-thin.例文帳に追加

重力によってエッチング液を自然に流して所望のガラスエッチングを達成できるため、パーティクルの発生を顕著に低減すると同時にガラスを超薄型化することが可能になる。 - 特許庁

The method for treating the inside surface of a glass tube by heating the glass tube through moving a heat source relatively against the glass tube and along the length of the glass tube while flowing an etching gas inside the glass tube, comprises a speed-reduction stage that reduces the moving speed of the heat source, in both end parts of the glass tube.例文帳に追加

ガラス管の長手方向に沿って相対的に移動させることによりガラス管を加熱して、ガラス管の内面を表面処理するガラス管の表面処理方法において、前記ガラス管の両端部で、前記熱源の移動速度を低下させる減速工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk includes: an etching process for etching plate-like glass to adjust plate thickness; a scribing process for forming the plate-like glass into an annular glass substrate; and a chemical surface treatment process that is a post-process of the scribing process to perform chemical surface treatment of the glass surface before a polishing process of the glass substrate.例文帳に追加

本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、板状ガラスをエッチングして板厚を調整するエッチング工程と、前記板状ガラスを円環状のガラス基板に形成するスクライブ工程と、前記スクライブ工程の後工程であって前記ガラス基板の研磨工程の前に前記ガラス表面の化学的表面処理を行う化学的表面処理工程と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The process for producing a glazed substrate for a thermal head comprises a step for forming a glass layer 2 becoming a glaze layer on a substrate 1, a step for forming an etching mask on the glass layer 2, and a step for immersing the glass layer 2 in etching liquid while positioning the substrate 1 substantially horizontally and etching a part of the glass layer 2 by oscillating the substrate 1 in the horizontal direction.例文帳に追加

基板１上にグレーズ層となるガラス層２を形成する工程と、ガラス層２上にエッチングマスクを形成する工程と、基板１を略水平に位置した状態で該ガラス層２をエッチング液に浸漬させるとともに、該基板１を水平方向に揺動させて、前記ガラス層２の一部をエッチングする工程とを具備する。 - 特許庁

The method for producing glass 10 on the surface of which unevenness 10b is formed includes a process for etching the surface 10a of the glass 10 with an etching solution in such a state that a net 20 is brought into contact with the surface 10a of the glass 10.例文帳に追加

ガラス１０の表面１０ａに網２０を接触させた状態で、ガラス１０の表面１０ａをエッチング液によりエッチングする工程を備える、表面に凹凸１０ｂが形成されたガラス１０の製造方法である。 - 特許庁