「Films」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

By bonding the metallic films on the prescribed portions of a metallic framework 4, the superconducting films of the surfaces of two base materials are electrically connected via the metallic films and the framework.例文帳に追加

この金属膜同士を金属製の骨組み４の所定の面に接合することによって、金属膜および骨組みを介して、２つの基材表面の超伝導体膜の電気的接続を図る。 - 特許庁

Antiferromagnetic films 271, 272 are arranged between the first and second magnetic shield films 25, 26, adjacent to at least one of the first and second magnetic shield films 25, 26, and generate exchange coupling.例文帳に追加

反強磁性膜２７１、２７２は、第１及び第２の磁気シールド膜２５、２６の間に配置され、第１または第２の磁気シールド膜２５、２６の少なくとも一方に隣接し、交換結合を生じる。 - 特許庁

The packaging container 70 comprises a pair of holding bodies 8 with flexible films 9 extended therein, wherein the films 9 are placed oppositely to house a cellular telephone T between the films 9.例文帳に追加

包装用容器７０は、柔軟性を有するフィルム９が張設された一対の保持体９を有し、フィルム９を向かい合わせに配置してフィルム９間で携帯電話Ｔを収容するようになっている。 - 特許庁

The optical film is suitably used for various kinds of protective films such as a protective film of a polarizer, retardation films and polarization films used for an image display device such as a liquid crystal display device (LCD).例文帳に追加

本発明の光学フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）などの画像表示装置に用いられる、偏光子保護フィルムなどの各種の保護フィルム、位相差フィルム、偏光フィルムへの使用に好適である。 - 特許庁

The first and second charge storage sections 40a, 40b are respectively constituted by laminating bottom oxide films 41a, 41b, charge storage nitride films 42a, 42b, and top oxide films 43a, 43b in a sequential order.例文帳に追加

第１及び第２電荷蓄積部は、それぞれボトム酸化膜４１ａ及び４１ｂ、電荷蓄積窒化膜４２ａ及び４２ｂ、及びトップ酸化膜４３ａ及び４３ｂを順に積層して構成されている。 - 特許庁

These steps are repeated several times to form a plurality of layers of oxide crystalline films, such that the nearest film to the substrate among the plurality of layers of the oxide crystalline films to the substrate is made thicker than the other oxide crystalline films.例文帳に追加

このとき、上記複数層の酸化物結晶質膜のうちシリコン単結晶基板に最も近い酸化物結晶質膜の膜厚を、他の酸化物結晶質膜の膜厚よりも厚くする。 - 特許庁

The first laminate structure has multiple first electrode films laminated along a first direction and first inter-electrode insulator films provided between the multiple first electrode films.例文帳に追加

前記第１積層構造体は、第１方向に沿って積層された複数の第１電極膜と、前記複数の第１電極膜どうしの間に設けられた第１電極間絶縁膜と、を有する。 - 特許庁

After that, first sidewall insulating films 14a, 14b are formed on the sides of the first gate section A and the second one B, and the protective films 21a, 21b are removed to expose the silicon films 12a, 12b.例文帳に追加

その後、第１のゲート部Ａ、第２のゲート部Ｂの側面上に第１の側壁絶縁膜１４ａ、１４ｂを形成した後、保護膜２１ａ、２１ｂを除去してシリコン膜１２ａ、１２ｂを露出させる。 - 特許庁

Thereafter, a silicide film 8 is formed in the contact hole 4 by performing heat treatment on silicon films 6 and metallic films 7 after the films 6 and 7 are alternately laminated upon the barrier metal/ohmic layer 5.例文帳に追加

その後、コンタクトホール４内のバリアメタル／オーミック層５上にシリコン膜６と金属膜７とを交互に積層した後、熱処理を行うことによって、コンタクトホール４内にシリサイド膜８を形成する。 - 特許庁

The high mesa ridge type modulator 14 includes a high mesa ridge 24 having a modulation layer 22, silicon nitride films 26 contacting a side surface of the high mesa ridge 24, and silicon oxide films 28 provided on the silicon nitride films 26.例文帳に追加

ハイメサリッジ型変調器１４は、変調層２２を持つハイメサリッジ２４と、ハイメサリッジ２４の側面に接するシリコン窒化膜２６と、シリコン窒化膜２６上に設けられたシリコン酸化膜２８とを有する。 - 特許庁

Semiconductor devices are manufactured by using the aqueous dispersion as a polishing agent and polishing films to be processed such as silicon oxide films and aluminum films disposed on substrates of the semiconductor devices including VLSI.例文帳に追加

更に、これらの水系分散体を研磨剤として用い、超ＬＳＩ等の半導体装置の基板上に設けられるシリコン酸化膜、アルミニウム膜等の被加工膜を研磨し、半導体装置を製造する。 - 特許庁

The device further includes: Ta films 11s and 11d formed over the n-AlGaN layer 4; and Al films 12s and 12d formed over the Ta films 11s and 11d, respectively.例文帳に追加

また、ｎ−ＡｌＧａＮ層４上に形成されたＴａ膜１１ｓ及び１１ｄと、夫々Ｔａ膜１１ｓ及び１１ｄ上に形成されたＡｌ膜１２ｓ及び１２ｄと、が設けられている。 - 特許庁

To provide a coating composition for the thin metal films, which can form coating films excellent in adhesiveness, heat resistance, and water resistance in good productivity, and to provide a bright resin product using the coating composition for the thin metal films.例文帳に追加

付着性、耐熱性、耐水性に優れた被覆膜を生産性よく形成できる金属薄膜用塗料組成物、および金属薄膜用塗料組成物を用いた光輝性樹脂製品の実現。 - 特許庁

To simultaneously realize the good embedment of copper plating films for wiring in semiconductor devices, etc., into connecting holes for wiring and the improving in the quality of the copper plating films in a method of forming the copper plating films described above.例文帳に追加

半導体デバイス等における配線用銅メッキ膜を形成する方法において、配線用接続孔への良好な埋め込みと銅メッキ膜の膜質向上とを同時に実現すること。 - 特許庁

Next, the films 34a and 34b are drawn from the cartridge with built-in film, and a film pressing part 50 presses the films 34a and 34b so that the films 34a and 34b are brought into close-contact with the sheets 38a and 38b.例文帳に追加

次に、フィルム内蔵カートリッジからフィルム３４ａ、３４ｂを引き出し、フィルム押し付け部５０によりフィルム３４ａ、３４ｂを原画像シート３８ａ、３８ｂに密着するように押し付ける。 - 特許庁

Fibers or films dyed with the method for dyeing are provided.例文帳に追加

また本染色方法によって染色された繊維またはフィルム。 - 特許庁

Preferably, the resin films have 90-200°C of softening temperature.例文帳に追加

樹脂フィルムは、９０〜２００℃の軟化温度を有することが好ましい。 - 特許庁

To reduce an air layer formed between one-side metallized films.例文帳に追加

片面金属化フィルム間に形成される空気層を低減させる。 - 特許庁

The first insulating films 4 are also in contact with the columnar semiconductor 14.例文帳に追加

第１絶縁膜４は、柱状半導体１４にも接している。 - 特許庁

To prevent peeling of thin films formed of a material containing aluminum.例文帳に追加

アルミニウムを含む材料から形成される薄膜の剥れを防止する。 - 特許庁

Consequently, the exposed surfaces of the respective SiC films are made Si-rich.例文帳に追加

これにより、各ＳｉＣ膜の露出表面をＳｉリッチにする。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method for collectively forming multilayer films.例文帳に追加

多層膜を一括で形成可能な蒸着方法を提供する。 - 特許庁

The printed board 1 and the resin films 2, 3 may be retrieved for reuse.例文帳に追加

プリント基板１や樹脂フィルム２，３のリユース、リサイクルも可能である。 - 特許庁

The carbon nanotube structure includes a plurality of carbon nanotube films.例文帳に追加

前記カーボンナノチューブ構造体が複数のカーボンナノチューブフィルムを含む。 - 特許庁

A capacitor 4 is connected electrically between the conductive films 6 and 7.例文帳に追加

導電膜６，７間には、コンデンサ４が電気的に接続される。 - 特許庁

The MR element includes a magnetoresistive film 30 and insulating films 231 and 241.例文帳に追加

磁気抵抗効果膜３０と、絶縁膜２３１、２４１とを含む。 - 特許庁

One of the two laminate films is a flat laminate film 10.例文帳に追加

２枚のラミネートフィルムの一方は、平坦なラミネートフィルム１０である。 - 特許庁

First insulating films 4 are formed over and below the gate layer 6.例文帳に追加

ゲート層６の上下には、第１絶縁膜４が形成されている。 - 特許庁

These films are not only popular in Japan but also overseas. 例文帳に追加

これらの作品は国内のみならず、海外からも好評である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

He directed twenty films in his roughly 50-year career as a film director. 例文帳に追加

50年余の映画監督人生の中で、20作品を監督している。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

After World War II, on the other hand, Imai created educational films about postwar democracy. 例文帳に追加

戦後は、一転して戦後民主主義啓蒙映画を手掛けた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

He came to be highly regarded through successive releases of these types of films. 例文帳に追加

これらの作品を発表し続けたことで、高い評価を得た。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

He continued to make films set against the backdrop of Japanese culture. 例文帳に追加

その後も日本の風土を背景にした作品を撮り続けている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

This made him get enthusiastically involved in films, departing from Shingeki. 例文帳に追加

これにより新劇から映画に情熱的にうちこむようになった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The films 12 and 13 have an organic molecule fixing area 19.例文帳に追加

絶縁膜１２,１３は、有機分子の固定領域１９を有する。 - 特許庁

At least one of the protecting films is the cellulose acylate film.例文帳に追加

前記保護膜の少なくとも一枚が前記セルロースアシレートフィルムである。 - 特許庁

Grooves 16 are formed in the silicon oxide and carbon films 14 ands 15.例文帳に追加

酸化シリコン膜１４及びカーボン膜１５に溝１６を形成する。 - 特許庁

A contact hole 8 is formed in the silicon oxide films 7, 4.例文帳に追加

そのシリコン酸化膜７、４に、コンタクトホール８が形成されている。 - 特許庁

The invention relates to a precursor and a method for forming dielectric films.例文帳に追加

誘電体膜を形成するための前駆体及び方法である。 - 特許庁

First insulating films 12 and 14 are arranged on the inner surface of the trench.例文帳に追加

第１絶縁膜１２、１４はトレンチの内面上に配設される。 - 特許庁

The films 28 and 29 for lubrication contact with shoes 18A and 18B.例文帳に追加

潤滑用皮膜２８，２９は、シュー１８Ａ，１８Ｂと摺接する。 - 特許庁

The films 28 and 29 for lubrication slidably contact with shoes 18A and 18B.例文帳に追加

潤滑用皮膜２８，２９は、シュー１８Ａ，１８Ｂと摺接する。 - 特許庁

A PVA film 13 is put between TAC films 11, 12 and is bonded.例文帳に追加

ＰＶＡフィルム13をＴＡＣフィルム11，12間に挟み込んで接着する。 - 特許庁

The metal films 32 are silver with a positive standard electrode potential.例文帳に追加

金属膜３２は、標準電極電位が正の値である銀である。 - 特許庁

An FPC includes a base film 1 and copper foil films 2a-2d.例文帳に追加

ＦＰＣは、ベースフィルム１と、銅箔膜２ａ〜２ｄとを備えている。 - 特許庁