「Process annealing」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PROCESS AND EQUIPMENT FOR LASER ANNEALING SEMICONDUCTOR FILM例文帳に追加

半導体膜のレーザアニーリング方法とそれに用いる装置 - 特許庁

PROCESS AND DEVICE FOR MAGNETIC FIELD ANNEALING OF MOTOR CORE例文帳に追加

モータ用コアの磁場焼鈍方法および磁場焼鈍装置 - 特許庁

The process condition is suitable for high temperature annealing and the passivation can be executed simultaneously with the high temperature annealing or in combination with the high temperature annealing.例文帳に追加

プロセス条件は、高温焼きなましに適合し、高温焼きなましと同時に又は組み合わせて実施することができる。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR POLYCRYSTALLINE SILICON BY EXCIMER LASER ANNEALING PROCESS例文帳に追加

エキシマレーザ焼鈍プロセスによる多結晶シリコンの製造方法 - 特許庁

Thus, the drying process of painting and the annealing process are performed at the same time, and thus the annealing process is performed without increasing the number of manufacturing processes.例文帳に追加

このように、塗装の乾燥処理とアニール処理とを同時に行うことによって、製造工程を増やすことなく、アニール処理を行うことができる。 - 特許庁

The molding through the molding process is annealed to manufacture the powder magnetic core, in the annealing process.例文帳に追加

焼鈍工程では、成形工程を経た成形体を焼鈍して圧粉磁心を作製する。 - 特許庁

Also, the manufacturing method of the solid wire 1 includes an element wire making process, a coating process, an annealing process and a wire drawing process, wherein the melting point of the mixture of the alkaline metal carbonate in the coating process is below the annealing temperature in the annealing process.例文帳に追加

また、ソリッドワイヤ１の製造方法は、素線作製工程と、塗布工程と、焼鈍工程と、伸線加工工程とを含み、塗布工程におけるアルカリ金属炭酸塩の混合物の融点が、焼鈍工程における焼鈍温度未満であることを特徴とする。 - 特許庁

To make a wiring plug uniform in composition without carrying out a process such as an annealing process or the like.例文帳に追加

窒素アニール等の工程を行うことなく、配線プラグ内の組成を均一にする。 - 特許庁

The warm setting is desirably performed during the annealing process (in the last stage in particular) and/or in the cooling process after the annealing.例文帳に追加

温間セッチングは、焼鈍工程中（特に最後の段階）及び／又は焼鈍工程後の冷却過程で行うことが望ましい。 - 特許庁

A good product finish is obtained by dispensing with an annealing process.例文帳に追加

焼鈍工程を有しないので、製品仕上がりも良好となる。 - 特許庁

The process of forming the copper base alloy described herein includes casting, homogenizing, rolling, process annealing and stress relief annealing.例文帳に追加

この銅ベース合金を形成する方法は鋳造、均質化、圧延、中間焼きなまし、および応力除去焼きなましを含んでいる。 - 特許庁

Next, the silicide layer is stabilized by a secondary annealing process (step 6).例文帳に追加

次に、第２次アニール工程でシリサイド層を安定させる（ステップ６）。 - 特許庁

In the annealing treatment A, a process of atomic oxygen introduction annealing treatment is first executed under predetermined conditions and then, a process of hydrogen atom introduction annealing treatment is executed under the predetermined conditions.例文帳に追加

このアニール処理Ａでは、まず原子状酸素導入アニール処理の工程を所定条件下で実行し、続いて水素原子導入アニール処理の工程を所定条件下で実行する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING HIGH TENSILE COLD ROLLED STEEL SHEET IN CONTINUOUS ANNEALING PROCESS例文帳に追加

連続焼鈍プロセスにおける高張力冷延鋼板の製造方法 - 特許庁

To enable a laser annealing process for a non-monocrystalline semiconductor film to be improved in effectiveness.例文帳に追加

非単結晶半導体膜に対するレーザーアニールの効果を高める。 - 特許庁

The semiconductor layer 13 is formed by an ion injection process and an activation annealing process in the semiconductor formation process.例文帳に追加

半導体層形成工程では、イオン注入工程と活性化アニール工程とで半導体層１３を形成している。 - 特許庁

The degradation of piezoelectric characteristics of the piezoelectric actuator due to the annealing process can be suppressed.例文帳に追加

アニール処理による圧電アクチュエータの圧電特性の低下を抑制できる。 - 特許庁

CHAMBER, APPARATUS AND PROCESS FOR ANNEALING GROUP II-VI SEMICONDUCTOR MATERIAL例文帳に追加

２−６族半導体材料をアニールするためのチャンバー、装置、及び、方法 - 特許庁

Therefore, painting of the painted resin molding can be dried and the annealing process can be performed to the resin molding at the drying/annealing process.例文帳に追加

したがって、乾燥アニール工程によって、塗装樹脂成形品の塗装を乾燥させるとともに樹脂成形品にアニール処理を施すことができる。 - 特許庁

To omit a cold-rolling process, to remarkably simplify an annealing process and to save a pickling process in a manufacturing process of a thin steel sheet for deep-drawing, etc.例文帳に追加

深絞り加工用等の薄鋼板製造において、冷延工程を省略するとともに、焼鈍工程を著しく簡略化する。 - 特許庁

The method of manufacturing an aluminum nitride substrate is provided with a sintering process for sintering a formed body at a prescribed sintering temperature TS to obtain a sintered compact and an annealing process for annealing the sintered compact at a prescribed annealing temperature TA.例文帳に追加

成形体を所定の焼結温度ＴＳで焼結して焼結体を得る焼結工程と、焼結体を所定のアニーリング温度ＴＡでアニーリングするアニーリング工程と、を備える。 - 特許庁

A thermal treatment process (S18) for annealing is performed by holding the liquid crystal panel within an annealing furnace having annealing temperature or more for 18 hours, before annealing as the re-alignment treatment in a re-alignment treatment process(S19) after pressure reducing treatment in the pressurization sealing process (S16).例文帳に追加

加圧封止工程（Ｓ１６）による減圧処理の後、かつ再配向工程（Ｓ１９）の再配向処理としてのアニールの前に、アニール温度以上としたアニール炉内で液晶表示パネルを１８時間以上保持することによりアニールする熱処理工程（Ｓ１８）を行う。 - 特許庁

An SiCN based film of prescribed thickness is formed by repeating the thin-film forming process and the annealing process.例文帳に追加

この薄膜形成処理と、アニール処理と、を繰り返し、所定厚さのＳｉＣＮ系膜を成膜する。 - 特許庁

The method includes: a painting process to paint a resin molding; a drying/annealing process to dry painting of the painted resin molding painted at the painting process and to perform an annealing process to the resin molding; and a cleaning process to cool the painted resin molding after the drying/annealing process.例文帳に追加

樹脂成形品を塗装する塗装工程と、この塗装工程によって塗装された塗装樹脂成形品の塗装を乾燥させるとともに、前記樹脂成形品にアニール処理を施す乾燥アニール工程と、この乾燥アニール工程後、前記塗装樹脂成形品を冷却するクーリング工程とを備えている。 - 特許庁

Before advancing into the main forming press-forging process, as the next process to this semi-product, an annealing is applied.例文帳に追加

次の工程である主成型プレスフォージング工程に進む前に、その半製品を焼きなましを行う。 - 特許庁

The process of forming SiCN film, the process of annealing, and the process of forming the SiCO film are carried out continuously.例文帳に追加

ＳｉＣＮ膜を形成する工程、アニールを施す工程およびＳｉＣＯ膜を形成する工程は連続して行なわれる。 - 特許庁

THIN FILM MAGNETIC HEAD MANUFACTURING METHOD INCLUDING MULTIPLE ANNEALING STEPS IN MACHINING PROCESS例文帳に追加

機械加工時の複数回アニール処理を含む薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁

To provide an annealing process device for efficient annealing while preventing degradation in quality of it.例文帳に追加

アニール処理を能率的に行うことができ、かつアニール処理の品質が低下することを防止できるアニール処理装置を提供する。 - 特許庁

Next, the piezoelectric layer 32 is heated to a predetermined annealing temperature or above, performing heat treatment to the piezoelectric layer 32 (annealing process).例文帳に追加

次に、圧電層３２を所定のアニール処理温度以上に加熱して、圧電層３２に対して熱処理を施す（アニール処理工程）。 - 特許庁

The annealing (c) may use an improved annealing process comprising successively exposing the part to one or more kinds of gases.例文帳に追加

アニーリング（ｃ）は、部品を１つ以上のガスに順次暴露して部品をアニーリングする、改善されたアニーリングプロセスを用いてもよい。 - 特許庁

In the annealing process, the sintered compact is heated to a prescribed annealing temperature TA, kept at the annealing temperature TA for a prescribed time and cooled from the annealing temperature TA.例文帳に追加

アニーリング工程においては、焼結体を所定のアニーリング温度ＴＡとなるまで加熱し、続いて焼結体をアニーリング温度ＴＡで所定時間維持し、その後焼結体の温度をアニーリング温度ＴＡから冷却する。 - 特許庁

The surface of a silicon substrate 20 is oxidized after a nitrogen annealing process is carried out, and the surface region of the silicon substrate 20 trapping nitrogen 24 in an annealing process is taken in a pad oxide film 22'.例文帳に追加

窒素アニール後、シリコン基板２０の表面を酸化し、アニール時に窒素２４をトラップしたシリコン基板２０表面領域をパッド酸化膜２２’内に取り込む。 - 特許庁

After an annealing processing process, the vibrating plate 40, diffusion prevention layer 41, lower electrode 42, and piezoelectric layer 43 are naturally cooled down to a temperature before the annealing processing process.例文帳に追加

そして、アニール処理工程後に、振動板４０、拡散防止層４１、下部電極４２及び圧電層４３を自然冷却してアニール処理工程前の温度にする。 - 特許庁

The substrate undergoes a plasma annealing, during which the substrate is bombarded with ions (process 300).例文帳に追加

基板はプラズマアニールを受け、その間に基板はイオンでボンバードされる（工程３００）。 - 特許庁

Therein, a hydrogen concentration in an environment from the annealing process to the retention process is 2 to 40 volume% and a dew point DM of the environment in the annealing process and a dew point DL of the environment in the retention process satisfy the following relation: DL≤-30°C and DM-DL≥10°C.例文帳に追加

ここで、焼鈍処理から保持処理における雰囲気中水素濃度は2〜40体積％、かつ焼鈍処理における雰囲気の露点DMと保持処理における雰囲気の露点DLとは次の関係を満たす： DL≦-30℃、かつDM-DL≧10℃。 - 特許庁

This aluminum sheet is cold-rolled and is thereafter subjected to process annealing at 280 to 420°C.例文帳に追加

このアルミニウム板に冷間圧延を施した後、２８０〜４２０℃で中間焼鈍する。 - 特許庁

The ring segments have a width about equal to the laser annealing process step distance.例文帳に追加

上記輪の断片の幅は、上記レーザアニール処理のステップの距離とほぼ同じである。 - 特許庁

To provide a pressurization type lamp anneal device capable of performing a lamp annealing process in a pressurized state.例文帳に追加

加圧した状態でランプアニール処理ができる加圧式ランプアニール装置を提供する。 - 特許庁

The sealing film 73 is removed from the ink supply port 18 in the annealing process.例文帳に追加

封止膜７３はアニール処理工程においてインク供給口１８から除去される。 - 特許庁

PROCESS FOR PRODUCING GRAIN-ORIENTED MAGNETIC STEEL SHEET AND DECARBURIZATION/ANNEALING FURNACE USED FOR THE PRODUCTION METHOD例文帳に追加

方向性電磁鋼板の製造方法とその製造方法に用いる脱炭焼鈍炉 - 特許庁

To prevent uneven heat distribution from occurring within a semiconductor substrate in a lamp annealing process.例文帳に追加

ランプアニール処理において半導体基板内に熱分布が生じることを抑制する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a method of processing the substrate, which can perform a series of processes consisting of a liquid process, polishing process, cleaning process, and annealing process within a short time.例文帳に追加

液処理、研磨処理、洗浄処理、およびアニ−ル処理の一連の処理を短時間で行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

By performing successively a preheating process, a brazing process, an annealing process and a cooling process, the brazing between the tank part 12 and the tube 13, and between the tube 13 and the radiating fin 14 is performed.例文帳に追加

予熱工程，ろう付け工程，徐冷工程，冷却工程を順次行なうことにより，タンク部１２とチューブ１３，及びチューブ１３と放熱フィン１４とをろう付けする。 - 特許庁

The rapid thermal annealing (RTA) process is applied to the light irradiation process of the step (D) for reducing heating time.例文帳に追加

急速熱アニール（ＲＴＡ）プロセスが、加熱時間を短縮するためにステップ（Ｄ）の光照射プロセスに適用される。 - 特許庁

In the production method, a process annealing stage can be provided in the process of the cold rolling stage.例文帳に追加

この製造方法においては、上記の冷間圧延工程途中に中間焼鈍工程を設けることもできる。 - 特許庁