「Ra is」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The Ra value is 0.3 μm.例文帳に追加

そのＲａ値は０．３μｍであった。 - 特許庁

A base 1 is arranged in the vicinity of railway rails Ra, Ra' and Rb.例文帳に追加

鉄道レールＲａ，Ｒａ´，Ｒｂの近傍に基台１を設置する。 - 特許庁

The copper alloy foil has a thickness t of ≤20 μm and satisfies Ra/t≤0.009 (wherein Ra represents an arithmetic average roughness), and I/I_0 of a (200) face after heat treatment at 300°C for 30 min is ≥65.例文帳に追加

厚みtが20μm以下、Ra/t≦0.009（但し、Raは算術平均粗さ）であり、300℃×30分の熱処理後の(200)面のＩ／Ｉ_０が65以上である。 - 特許庁

Particularly, the non-flat surface 2b is set to satisfy 0<(P/Ra)<1.02×10^4 when arithmetic average roughness denotes Ra and an average pitch denotes P.例文帳に追加

特に、その非平坦面２ｂは、算術平均粗さRa及び平均ピッチPを用いて、０＜(P／Ra)＜１．０２×１０^4に設定されている。 - 特許庁

Besides, T/Ra is 0.07 to 4.0.例文帳に追加

さらにＴ／Ｒａは０．０７〜４．０である。 - 特許庁

The center line average roughness (Ra) of the material is 2 μm or below.例文帳に追加

また、該感熱記録材料の中心線平均粗さ（Ra）を２μm以下とする。 - 特許庁

(A): Surface roughness (Ra) is 0.5 μm or less.例文帳に追加

（Ａ）表面粗さ（Ｒａ）が０．５μｍ以下。 - 特許庁

The surface roughness Ra is the surface roughness Ra after final polishing.例文帳に追加

尚、この表面粗さＲａとは、最終研磨後の表面粗さＲａである。 - 特許庁

Do you know where hong ra on is residing?例文帳に追加

ではホン・ラオンが何処にいるか知っているか? - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

Surface roughness Ra of the spacer layer 5b is lower than the film thickness of the spacer layer 5b.例文帳に追加

前記スペーサー層５ｂの表面粗さRaは、該スペーサー層５ｂの膜厚以下である。 - 特許庁

As an improving method, the Sm/Ra in the center part of the roll is regulated to 0.03-0.08 (mm/μm) and the Sm in the same part is regulated to 0.1-0.4 mm.例文帳に追加

改良法として、ロール中央部のSm/Ra を0.03〜0.08(mm/μm)に、且つSmを0.1〜0.4mm に規定する。 - 特許庁

The roller resistivity value is 10^5 to 10^7 Ωcm and surface roughness (Ra) of the roller is 0.15 μm or less.例文帳に追加

ローラ抵抗値は１０^5 〜１０^7Ωｃｍ、ローラ表面粗さ(Ra)は０．１５μｍ以下である。 - 特許庁

In Thelema, the current Aeon (the current one is the third Aeon and started from Aeon of Horus which was 1904 in the Gregorian calendar) is celebrated together with Heru-ra-ha. 例文帳に追加

Thelemaでは、Heru-ra-haと共に、現イーオン（Aeon、現在は3番目のAeonで、AeonofHorus,グレゴリオ1904年より）を祝う。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Then, do you know where hong ra on is being housed?例文帳に追加

ではホン・ラオンが何処にいるか知っているか? - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

Further, it is desirable to make the surface roughness 2-12 μm by Ra or 2-6 μm by Ra.例文帳に追加

さらに、Ｒａで２〜１２μｍ、またはＲａで２〜６μｍとするのが望ましい。 - 特許庁

In this way, the hot rolled stainless steel strip having a surface roughness Ra of 1.0 to 2.0 μm and a PPI of 180 to 300 is obtained.例文帳に追加

これにより、表面粗さRaが1.0〜2.0μm、PPIが180〜300のステンレス熱延鋼帯を得る。 - 特許庁

Surface roughness Ra of the disk substrate 1 is lower than the film thickness of the spacer layer 5b.例文帳に追加

前記ディスク基板１の表面粗さRaは、前記スペーサー層５ｂの膜厚以下である。 - 特許庁

In other cases, communication is performed in PHY(k, RA[j, k]) without changing the transmission rate (step 307).例文帳に追加

その他の場合には、伝送レートをそのままに、PHY（k,RA[j,k]）にて通信を行う（ステップ３０７）。 - 特許庁

The surface roughness Ra(F) of the film F is set so that the relation with the surface roughness Ra(L) of the cavity surface 7a of the lower mold 7 satisfies Ra(L)/Ra(F)≥20.例文帳に追加

フィルムＦの表面粗さＲａ（Ｆ）は、下型７のキャビティ面７ａの表面粗さＲａ（Ｌ）との関係がＲａ（Ｌ）／Ｒａ（Ｆ）≧２０を満たすように設定されている。 - 特許庁

A relation between a diameter Ra of the hole, a length L of the notch and an outermost diameter Rb (Ra<Rb) of a washer to be used together with a head of the screw or the screw is Ra+L>Rb.例文帳に追加

また、穴の径Ｒａ、切り欠きの長さＬ、および、ねじの頭またはねじとともに用いる座金の最外径Ｒｂ（Ｒａ＜Ｒｂ）の関係がRa+L>Rbである。 - 特許庁

Further, as the first skinpass rolling, the work roll having ≤0.20 μm average roughness Ra is used and successively, as the second skinpass rolling, the work roll having 1.6-4.0 μm average roughness Ra, and ≤1.3 μm waveness Wca, is used.例文帳に追加

また第1調質圧延として、平均粗さRaが0.20μm以下のワークロールを使用し、次いで第２調質圧延として平均粗さRaが1.6〜4.0μm、うねりWcaが1.3μm以下のワークロールを使用する。 - 特許庁

At this time, surface coarseness Ra is 3.7 μm.例文帳に追加

この時表面粗さＲａは３．７μｍである。 - 特許庁

A Sm/Ra value of the outer peripheral surface of a roll is regulated within range of 0.03-0.12 (mm/μm) and the Sm value is regulated within range of 0.1-0.6 mm.例文帳に追加

ロール外周面のSm/Ra の値を、0.03〜0.12(mm/μm)の範囲内に、且つSmを0.1 〜0.6mm の範囲内に規定する。 - 特許庁

An arithmetic average roughness Ra of the alignment control films 6a, 6b is controlled to satisfy Ra<0.5 nm.例文帳に追加

そして、該配向制御膜６ａ，６ｂの算術平均粗さＲａを、 Ｒａ＜０．５ｎｍ にする。 - 特許庁

Furthermore, arithmetic average roughness Ra of the alignment control layers 6a, 6b is made to satisfy an inequality Ra>0.6 nm.例文帳に追加

そして、該配向制御膜６ａ，６ｂの算術平均粗さＲａを、 Ｒａ＞０．６ｎｍ にする。 - 特許庁

A circular portion 46a in the center of a chucking surface 46 is processed in surface roughness of 0.2 μm (Ra).例文帳に追加

吸着面４６の中央の円形部分４６aは面粗度０．２μm（Ra）に加工されている。 - 特許庁

In the substrate, the surface roughness Ra is 0.1-0.8 micrometers.例文帳に追加

基板は、表面粗さＲａが０．１〜０．８μｍである。 - 特許庁

The information recording disk is composed of this glass and has a polished surface having 0.1-0.5 nm surface roughness Ra (JIS B0601).例文帳に追加

このガラスからなり、表面粗さRa(JIS B0601)が0.1-0.5nmの範囲である研磨面を有する情報記録ディスク。 - 特許庁

The surface roughness (arithmetic mean roughness Ra) of a substrate 1 is within the range of X μm≤Ra≤0.1 μm.例文帳に追加

基板１の表面粗さ（算術平均粗さＲａ）が、Ｘμｍ≦Ｒａ≦０．１μｍの範囲内である。 - 特許庁

The roller resistance mean value: Ra of the electrifying roller 80 is 6.7×10^5 (Ω)≤Ra≤2.5×10^6 (Ω).例文帳に追加

帯電ローラ８０のローラ抵抗平均値：Ｒａが、６．７×１０^5（Ω）≦Ｒａ≦２．５×１０^6（Ω）である。 - 特許庁

Therefore, a current Is flowing in the bit line 11b is Is=Vs(Rb-Ra)/(Ra×Rb). Where, a resistive value of the storage element Ia is assumed to Ra, a resistive value of the storage element Ib is assumed to be Rb.例文帳に追加

従って、ビット線１１ｂに流れる電流Ｉｓは、記憶素子１ａの抵抗値をＲａ、記憶素子１ｂの抵抗値をＲｂとすると、Ｉｓ＝Ｖｓ・（Ｒｂ−Ｒａ）／（Ｒａ・Ｒｂ）となる。 - 特許庁

The detection unit 11 is connected in parallel with the resistor Ra.例文帳に追加

検出部１１は、抵抗Ｒａと並列に接続される。 - 特許庁

After the nitriding, the surface is polished, and the surface roughness of the surface 4a is set to Ra: 7.5×10-3 to 2.5×10-2 μm (Rz: 0.03 to 0.1 μm).例文帳に追加

窒化処理後に研磨を行い、ミラー面４ａの表面粗度をRa：7.5×10^−３〜2.5×10^−２μｍ（Rz:0.03〜0.1μｍ）とする。 - 特許庁

A bridge circuit 21 is constituted by using the pressure sensitive elements Ra, Rb, Rc, Rd.例文帳に追加

感圧素子Ｒａ，Ｒｂ，Ｒｃ，Ｒｄを用いてブリッジ回路２１を構成する。 - 特許庁

Hong ra on is the woman I talked to you about before.例文帳に追加

以前 先生にお話していた女人が ホン・ラオンなのです - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

Furthermore, the surface roughness (Ra) of the external electrode 3 of the electronic component is made, 0.1 μm≤Ra≤10.0 μm preferably, 1.0 μm≤Ra≤5.0 μm.例文帳に追加

また、電子部品の外部電極３の表面粗さ（Ｒ_a）を０．１μｍ以上１０μｍ以下、好ましくは１．０μｍ以上５．０μｍ以下にする。 - 特許庁

If the RA is equal to the count value of the counter 1223 or otherwise, the writing is permitted after the end of data reading or immediately, and the write data are transferred to the synchronization control part 13.例文帳に追加

RAが1223のカウント値に等しい場合にはデータ読み出しが終わるのを待って、またRAがそれ以外の場合は直ちにライトを許可し、ライトデータを同期制御部13へ転送する。 - 特許庁

When a memory write instruction is issued in the process of memory copying, an address comparator 1221 compares the write address (RA) with the count values of the counters 1223 and 1224, and if the RA is larger than the count value of the counter 1223, simply permits the memory writing.例文帳に追加

メモリコピーの工程中にメモリライトの命令が発行された場合には、アドレス比較器1221はそのライトアドレス(RA)とカウンタ1223,1224のカウント値とを比較し、RAが1223のカウント値より大きい場合には単にメモリライトを許可する。 - 特許庁

Also, the film whose surface roughness Ra is within the range of 2.10nm is good in handling as the base film and the running when it is used as a magnetic tape. 例文帳に追加

また、表面粗さRaが2～10nmの範囲にあるものは、ベースフィルム取り扱い性、磁気テープとした時の走行性が良好である。 - 特許庁

The ratio of the maximum roughness Rt to the average roughness Ra, and Rt/Ra is ≤10.例文帳に追加

平均粗さＲａと最大粗さＲｔの比Ｒｔ／Ｒａが１０以下である配線接続器具用金属材。 - 特許庁

A smoothing processing is executed to a substrate after molding so as to turn the surface roughness Ra of the slope part of the substrate to be 2.0 nm or less.例文帳に追加

基板の斜面部の表面粗さRaが2.0nm以下になるように成型後基板に平滑化処理を施す。 - 特許庁

A ratio T/Ra of the film thickness T of the conductive layer 4 to the surface roughness Ra of the substrate 2 is 0.07 to 4.0.例文帳に追加

導電層４の膜厚Ｔと基板２の表面粗さＲａとの比（Ｔ／Ｒａ）は０．０７〜４．０である。 - 特許庁

Ra-Atum is an example of the composite names of Ra and Atum, both of which were the Gods of Creation. 例文帳に追加

名前を併記するものの代表例としては共に創造神であるラーとアトゥムのラー・アトゥムがあげられる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The shearing stress is kept constant at any distance from the center axis to a maximum radius Ra or -Ra.例文帳に追加

中心軸から最大半径Ｒａ又は−Ｒａまでのどの距離でも、せん断応力は一定である。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the clay thin film is ≤100 nm.例文帳に追加

粘土薄膜の表面粗さＲａは１００ｎｍ以下である。 - 特許庁