| 意味 | 例文 (561件) |
Rzを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 561件
The surface of a base material roughened into the surface roughness Rz of 0.1 to <1 μm is coated and formed with a coating film material for sliding composed so as to incorporate acute hard powder, a solid lubricant and an extreme-pressure additive and further incorporated with a resin binder and having a polishing function to obtain the valve system sliding material.例文帳に追加
表面粗さＲｚが０．１μｍ以上１μｍ未満に粗面化した基材上に、鋭角形状の硬質粉末及び固体潤滑剤、極圧添加剤を含有し、さらに樹脂バインダーを含有して構成される研摩機能を有する摺動用コーティング皮膜材料を被覆形成することにより、動弁系摺動材料を得る。 - 特許庁
In the polysiloxane thin film transfer sheet having a construction which laminates a polysiloxane thin film layer on a plastic sheet having a releasing surface or on a glass sheet having a releasing surface, the ten-point average roughness Rz on the releasing surface of the plastic sheet or the glass sheet is set to 0.5 μm or less.例文帳に追加
離型性表面を備えたプラスチックシート或いは離型性表面を備えたガラスシート上に、ポリシロキサン薄膜層を積層してなる構成を備えたポリシロキサン薄膜転写用シートにおいて、プラスチックシート又はガラスシートの離型性表面の１０点平均粗さＲｚを０．５μｍ以下とする。 - 特許庁
In the electrophotographic photoreceptor including at least a photosensitive layer on a conductive support, a surface layer of the photosensitive layer comprises a crosslinked layer formed by curing at least a tri- or higher functional radical-polymerizable monomer not having a charge transporting structure and a monofunctional radical-polymerizable compound having a charge transporting structure, and a surface roughness Rz of the crosslinked surface layer is ≤1.3 μm.例文帳に追加
導電性支持体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、該感光層の表面層が少なくとも電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーと１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を硬化した架橋層からなり、該架橋表面層の表面粗さＲｚが１．３μｍ以下であることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁
The surface of a developer carrier 8, 11 has concavo-convex pattern with an average pitch Sm of 60 μm or more and 200 μm or less and a ten-point average roughness Rz (μm) of 5.0 μm or more and 25.0 μm or less based on JIS B0601 (1994).例文帳に追加
現像剤担持体８、１１表面のＪＩＳ Ｂ０６０１（１９９４年）に基づく凹凸の平均間隔Ｓｍが６０μｍ以上２００μｍ以下であり、十点平均粗さＲｚ（μｍ）が５．０μｍ以上２５．０μｍ以下であり、且つ、トナーは、４０℃，９５％ＲＨ、７２時間放置後の示差走査熱量計（ＤＳＣ）により測定される昇温１度目のＴｇ１（℃）と、降温後、昇温２度目のＴｇ２（℃）との関係が、下記式（１）を満たすことを特徴とする。 - 特許庁
In the secondary battery wherein a negative electrode and a positive electrode for occluding and discharging lithium are faced with each other via a separator and a nonaqueous electrolyte including a nonaqueous solvent and lithium salt is prepared, either of arithmetic average roughness Ra, maximum height Ry, and ten-point average roughness Rz on the negative-electrode side surface and the positive-electrode side surface of the separator is different between both surfaces.例文帳に追加
リチウムを吸蔵・放出することが可能な負極及び正極がセパレータを介して対向させてなり、非水系溶媒及びリチウム塩を含有する非水系電解質を備えた二次電池であって、前記セパレータの負極側表面と正極側表面の算術平均粗さＲａ、最大高さＲｙ、十点平均粗さＲｚのうちのいずれかを両側表面間で異ならせていることを特徴とする非水系リチウム二次電池からなる。 - 特許庁
A smoothness of the grounding bottom surface is determined with ten-point height of irregularities: Rz≤5 μm.例文帳に追加
油又は油分を含有する液体が付着した平滑な床面と靴底接地面との固体界面で、荷重による圧力下にある流体が介在し、靴底に介在する流体を靴底外へ排出するために靴底接地部の外周に流体を密閉する周壁が無く、縦横の溝を有するヘリンボーンのシャープなエッジのブロック意匠パターンを有し、その接地表面の平滑度が十点平均粗さ：Ｒｚ＝５μｍ以下であることにより防滑性の優れた靴を提供できる。 - 特許庁
In the method of producing copper foil, one or both surfaces of copper or copper alloy foil which is produced by electrolysis or rolling and in which the average surface roughness of at least one side lies in the range of 0.1 to 10 μm in terms of Rz are electrochemically dissolved and smoothened, and if required, the smoothened face is subjected to copper plating or Ni plating.例文帳に追加
本発明は、少なくとも片面の平均表面粗度がＲｚ：０．１〜１０オｍの範囲内にある電解又は圧延にて製造した銅又は銅合金箔の片方もしくは両方の表面を電気化学的に溶解、平滑化させ、必要により該平滑面に銅めっき又はＮｉめっきを行うことを特徴とする銅箔の製造方法たことを特徴とする銅箔の製造方法、並びに該製造方法で製造された銅箔である。 - 特許庁
An arithmetical means irregularity Ra on at least one surface of the alloy plate is 0.08-0.2 μm, an average space Sm between irregularities is 25-60 μm, a ten point height of irregularities Rz is 0.3-1.0 μm and an average space between local peaks is 10-20 μm.例文帳に追加
Ｃｒ １５〜３０質量％、Ａｌ ０．０３〜０．４質量％、Ｓｉ０．０１〜０．５質量％、Ｔｉ ０．０１〜０．６質量％、Ｎ ０．０２質量％未満およびＣ ０．０４質量％未満を含み、残部が実質的にＦｅからなる合金板であって、前記合金板の少なくとも一方の表面における算術平均粗さＲａが０．０８〜０．２μｍ、凹凸の平均間隔Ｓｍが２５〜６０μｍ、十点平均粗さＲｚが０．３〜１．０μｍかつ局部山頂の平均間隔Ｓが１０〜２０μｍであるもの。 - 特許庁
This oxide superconductor is with its surface at least partly coated with a metal film and its surface roughness is 0.2-150μm by maximum height roughness Rz and has voids on its surface, and this oxide superconductor conducting element is prepared by electrically connecting the part, which is coated with a metal film, of the oxide superconductor with an electrode terminal via a connecting medium metal.例文帳に追加
表面の少なくとも一部が金属皮膜で被覆されてなる酸化物超電導体であって、該酸化物超電導体の表面粗度が最大高さ粗さＲｚで０．２〜１５０μｍであることや該酸化物超電導体が表面にボイドを有してなる酸化物超電導体及びこの酸化物超電導体の金属皮膜被覆部分と電極端子を接続媒体金属で電気的に接続してなる酸化物超電導体通電素子である。 - 特許庁
The optical fiber production apparatus is characterized in that the first, second, and swing guide rollers 7, 9, and 8 around which a primary coated optical fiber 6 passes have surface states satisfying the arithmetic mean roughness Ra≤0.5 μm, the maximum height Ry≤2.7 μm, and the ten-point average roughness Rz≤1.4 μm.例文帳に追加
光ファイバ線引き工程で、被覆材をガラス転移温度以上の温度で第１、第２固定ガイドローラ７，９、揺動ガイドローラ８を通過させる光ファイバの製造方法であって、光ファイバ素線６が通過する第１、第２ガイドローラ７，９、揺動ガイドローラ８の表面状態は、算術平均粗さＲａ≦０．５μｍ、かつ、最大高さＲｙ≦２．７μｍ、かつ、十点平均粗さＲｚ≦１．４μｍの条件を満たす光ファイバの製造方法。 - 特許庁
Besides, the image forming method comprises a latent image forming process, a developing process, a transfer process and a cleaning process, and the surface of the latent image carrier is ground while maintaining the relation between the surface roughness Rz and the wear velocity W of the latent image carrier shown by the aforesaid inequality.例文帳に追加
Ｒｚ（ｎｍ）＜３．６×Ｗ＋３０Ｒｚ：原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による８０μｍ長さでの１０点平均粗さＷ ：磨耗速度（ｎｍ／１０００回転）、ただし１＜Ｗ＜２０又は、潜像形成工程と、現像工程と、転写工程と、クリーニング工程とを具備し、前記潜像担持体の表面粗さＲｚ及び磨耗速度Ｗを前記式の関係を保たせながら、前記潜像担持体の表面を研磨することを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁
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