「Sputtering」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

MATERIAL FOR SPUTTERING TARGET, AND SINTERED COMPACT THEREOF例文帳に追加

スパッタリングターゲット用材料およびその焼結体 - 特許庁

SPUTTERING TARGET OF COBALT AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

スパッタリング用コバルトターゲット及びその製造方法 - 特許庁

AL ALLOY ELECTRODE FILM AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Ａｌ合金電極膜およびスパッタリング用ターゲット - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR MAGNETRON SPUTTERING例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置及びマグネトロンスパッタリング方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, AL ALLOY FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

スパッタリングターゲット、Ａｌ合金膜および電子部品 - 特許庁

SILICON MONOXIDE SINTERED COMPACT AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

一酸化珪素焼結体およびスパッタリングターゲット - 特許庁

In-Ga-Zn BASED OXIDE SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ系酸化物スパッタリングターゲット - 特許庁

MAGNETRON CATHODE, AND SPUTTERING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

マグネトロンカソード及びそれを用いたスパッタリング装置 - 特許庁

TANTALUM PALLADIUM SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

タンタルパラジウムスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

FLUORIDE SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

フッ化物スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

ITO SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ＩＴＯスパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

This oxide is utilized as a sputtering target.例文帳に追加

この酸化物をスパッタリングターゲットとして利用する。 - 特許庁

IONIZED METAL PLASMA TECHNOLOGY BY HEAVY GAS SPUTTERING例文帳に追加

重ガススパッタリングによるイオン化金属プラズマ技術 - 特許庁

METHOD OF FORMING METAL OXIDE FILM BY SPUTTERING例文帳に追加

スパッタ法による金属酸化膜の成膜方法 - 特許庁

PRODUCTION OF SPUTTERING DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

スパッタ装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR SPUTTERING AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL DISK例文帳に追加

スパッタリング方法及び光ディスクの製造方法 - 特許庁

Then, DC electric power is applied to the sputtering target to form plasma, and sputtering particles S_A are produced by Ar sputtering to deposit a metal film 101.例文帳に追加

それから、スパッタターゲットにＤＣ電力を印加してプラズマを形成し、Ａｒスパッタによりスパッタ粒子Ｓ_Ａを生ぜしめ、金属膜１０１を堆積させる。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus and sputtering method capable of enhancing the uniformity of the film thickness and the film quality within a plane of a substrate of a thin film to be formed on a large substrate with a compact magnetron sputtering cathode.例文帳に追加

小型マグネトロンスパッタリングカソードで、大型基板に形成される薄膜の基板面内における膜厚および膜質の均一性を向上させる。 - 特許庁

To improve depositing efficiency and target utilizing efficiency in common with sputtering film formation for substrates different in sizes in a sputtering device of a magnetron sputtering system.例文帳に追加

マグネトロスパッタリング方式のスパッタリング装置で大きさの異なる基板のスパッタ成膜に共用し、付着効率とターゲット利用効率を向上する。 - 特許庁

To provide a sputtering target which ensures the production of an invariably uniform layer of a sputtering material during the lifetime of the sputtering target.例文帳に追加

本発明の課題は、スパッタリングターゲットの寿命の間、スパッタリング材料の不変的に均質な層の製造を確実にするスパッタリングターゲットを提供することである。 - 特許庁

To pre-condition a sputtering target prior to use of the target in a sputtering process by removing a damaged surface layer of a sputtering surface of the target.例文帳に追加

スパッタリング処理において、ターゲットのスパッタリング表面の損傷表面層を除去することでスパッタリングターゲットをその使用前に前調整する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, METHOD FOR PRODUCING SAME, SPUTTERING THIN FILM FORMED BY USING THE SPUTTERING TARGET, AND ORGANIC EL DEVICE USING THE THIN FILM例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びその製造方法、並びにそのスパッタリングターゲットを用いて形成したスパッタリング薄膜及びその薄膜を用いた有機ＥＬ素子 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS, AND DEVICE FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DEVICE例文帳に追加

スパッタリング装置及び液晶装置の製造装置 - 特許庁

To improve the utilizing efficiency of a target, the sputtering rate and the precision of film deposition thickness in a sputtering system.例文帳に追加

スパッタリング装置における、ターゲット利用効率及びスパッタ速度と、成膜厚の精度を向上する。 - 特許庁

Other conditions for sputtering are the same as conventional conditions.例文帳に追加

スパッタのその他の条件は、従来どおりである。 - 特許庁

To automatically measure a magnetic field transmittance of a sputtering target.例文帳に追加

スパッタターゲットの磁場透過率を自動測定する。 - 特許庁

MOLD, PLATE-SHAPED SINTERED BODY, METHOD FOR PRODUCING THE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET例文帳に追加

成形型、板状焼結体及びその製造方法、並びにスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

FABRICATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

半導体装置の製造方法及びスパッタリング装置 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING OPTICAL RECORDING MEDIUM PROTECTIVE FILM例文帳に追加

光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MAKING ORGANIC THIN FILM例文帳に追加

スパッタリングターゲットおよび有機薄膜の作製方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR REFLECTING FILM OF OPTICAL RECORDING MEDIUM, AND REFLECTING FILM MADE BY SPUTTERING METHOD USING IT例文帳に追加

光学記録媒体の反射膜用スパッタリングターゲット材及びそれを用いたスパッタ法による反射膜 - 特許庁

INTEGRAL SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加

一体構造型スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁

To provide a method for producing a sputtering target material with which magnetic permeability used in a magnetron sputtering method is reduced.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング法に用いる透磁率の低減したスパッタリングターゲット材の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a sputtering device and a sputtering method, which can improve utilization efficiency of a target.例文帳に追加

ターゲットの利用効率を向上させることができるスパッタ装置およびスパッタ方法を提供すること。 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DEVICE例文帳に追加

スパッタリング装置、及び液晶装置の製造方法 - 特許庁

PHASE TRANSITION TYPE OPTICAL RECORDING MEDIUM AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

相変化型光記録媒体及びスパッタリングターゲット - 特許庁

MAGNESIUM OXIDE TARGET FOR SPUTTERING AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

スパッタリング用ＭｇＯターゲット及びその製造方法 - 特許庁

To provide a sputtering system which can suitably and sufficiently improve the coverage properties of a sputtering deposited film.例文帳に追加

スパッタリング堆積膜のカバレッジ性を適切かつ充分に改善できるスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

ROTATION MECHANISM OF SUBSTRATE IN SPUTTERING VAPOR DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

スパッタ蒸着装置における基板の回転機構 - 特許庁

Long throw SIP sputtering promotes hole coating.例文帳に追加

ロングスローＳＩＰスパッタリングは、ホール被覆を促進する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING Al-BASE TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING例文帳に追加

Ａｌ系スパッタリング用タ−ゲット材の製造方法 - 特許庁

Alternatively the sputtering target is composed of a material to which 5 to 50 mol% glass forming oxide is added is provided or the sputtering target to which SiO_2 as the glass forming oxide is added is provided.例文帳に追加

ガラス形成酸化物として、SiO_2を添加したことを特徴とする同スパッタリングターゲット。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING MAGNETO-OPTICAL RECORDING MEDIUM FILM例文帳に追加

光磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

COAXIAL ELECTROMAGNET IN MAGNETRON SPUTTERING REACTOR例文帳に追加

マグネトロンスパッタリングリアクターにおける同軸状電磁石 - 特許庁

SPUTTERING TARGET COMPOSED OF HIGH PURITY MANGANESE, AND THIN FILM COMPOSED OF HIGH PURITY MANGANESE FORMED BY SPUTTERING例文帳に追加

高純度マンガンからなるスパッタリングターゲット及びスパッタリングにより形成した高純度マンガンからなる薄膜 - 特許庁