| 意味 | 例文 |
active-layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7476件
The semiconductor laser element 30 comprises an active layer 5, a heavily doped p-type first clad layer 8 formed on the active layer 5, a first undoped layer 7 formed between the active layer 5 and the heavily doped p-type first clad layer 8, and a second undoped layer 9 formed on the heavily doped p-type first clad layer 8.例文帳に追加
この半導体レーザ素子30は、活性層5と、活性層5上に形成される高濃度p型第1クラッド層8と、活性層5と高濃度p型第1クラッド層8との間に形成される第1アンドープ層7と、高濃度p型第1クラッド層8上に形成される第2アンドープ層9とを備えている。 - 特許庁
The semiconductor laser 10 comprises a structure which has a buffer layer 2, a clad layer 3, a light confinement layer 4, an active layer 5, a light confinement layer 6, a clad layer 7, and a contact layer 8 laminated in order on a substrate 1 and is equipped with a window member 11 adjacently to the active layer 5.例文帳に追加
半導体レーザ1は、バッファ層2、クラッド層3、光閉じ込め層4、活性層5、光閉じ込め層6、クラッド層7およびコンタクト層8が基板1上に順次積層され、活性層5に隣接して窓部材11を備える構造からなる。 - 特許庁
After two silicon wafers for the active layer and a support layer are laminated, the wafer for the active layer is turned into a thin film to manufacture the laminated wafer, wherein nitrogen ions are implanted from a surface of the wafer for the active layer prior to the lamination, and a nitride layer is formed in the wafer for the active layer.例文帳に追加
活性層用および支持層用の2枚のシリコンウェーハを貼り合わせたのち、活性層用ウェーハを薄膜化して貼り合わせウェーハを製造するに際し、 上記貼り合わせに先立ち、活性層用ウェーハの表面から窒素イオンを注入し、該活性層用ウェーハの内部に窒化層を形成する。 - 特許庁
The quantum cascade laser 100 is provided with an active layer 120 that is pinched by a pair of waveguide layers 110 and 140; and a bonding layer 130 that has a lamination structure different from the active layer 120 and is inserted between the active layer 120 and the waveguide layer 140 that becomes a negative electrode side, when voltage is applied to the active layer 120.例文帳に追加
量子カスケードレーザ100は、1組の導波層110,140に挟まれた活性層120と、活性層120への電圧印加時に負電極側となる導波路層140と活性層120との間に、活性層120とは異なる積層構造を有する接合層130が挿入されている。 - 特許庁
An electronic barrier layer 14 composed of GaP is arranged between the active layer 13 and the p-type clad layer 15.例文帳に追加
活性層13とp型クラッド層15との間にGaPからなる電子障壁層14が設けられる。 - 特許庁
The groove 108 has a depth enough to penetrate the p-type layer 104 and an active layer 105 and reach an n-type layer 106.例文帳に追加
この溝108は、p型層104、活性層105を貫通し、n型層106に達する深さである。 - 特許庁
The core semiconductor region 19 includes a first light guide layer 21, an active layer 23, and a second light guide layer 25.例文帳に追加
コア半導体領域19は、第1光ガイド層21、活性層23及び第2光ガイド層25を含む。 - 特許庁
On an n-type semiconductor substrate, an n-type clad layer, an active layer, and a p-type clad layer are sequentially laminated.例文帳に追加
n型半導体基板上に、n型クラッド層、活性層、及びp型クラッド層が順次積層されている。 - 特許庁
A solid electrolyte layer 3 is formed in a region extending over the positive active material layer 1b and the insulating layer 4.例文帳に追加
正極活物質層1bと絶縁層4とに跨る領域に、固体電解質層3が形成されている。 - 特許庁
A negative active material layer 2b is formed so as to extend over the solid electrolyte layer 3 and the insulating layer 4.例文帳に追加
固体電解質層3および絶縁層4に跨って、負極活物質層2bが形成されている。 - 特許庁
First, an active layer 2, a clad layer 3, and a contact layer 4 are formed sequentially on the entire upper surface of a semiconductor substrate 1.例文帳に追加
先ず、半導体基板1の上面全体に、活性層2、クラッド層3、コンタクト層4を順に形成する。 - 特許庁
On the n-type semiconductor layer 12 for the protection element, an active layer and a p-type semiconductor layer 13 are layered.例文帳に追加
保護素子用のn型半導体層12には、活性層及びp型半導体層13を積層してある。 - 特許庁
The n-type buffer layer 3 and the n-type guide layer 5 are arranged so as to interpose the quantum cascade active layer 4.例文帳に追加
n型バッファ層3およびn型ガイド層5は、量子カスケード活性層4を挟むように配置される。 - 特許庁
Mg is doped in the second GaN layer 18 and the second GaN layer 18 functions as an active layer.例文帳に追加
第2のGaN層18にはMgがドープされており、第2のGaN層18は活性層として機能する。 - 特許庁
The semiconductor structure comprises an n-type semiconductor layer, a semiconductor active layer, and a p-type semiconductor layer.例文帳に追加
その内、半導体構造はn型半導体層、半導体活性層及びp型半導体層で構成される。 - 特許庁
The second n-type semiconductor layer 19 is formed between the active layer 15 and the p-type semiconductor layer 17.例文帳に追加
第2のn型半導体層19は、活性層15とp型半導体層17との間に設けられている。 - 特許庁
An n-InP buffer layer 2, an InGaAsP active layer 3, and a first p-InP clad layer 4 are stuck on an n-type InP substrate 1.例文帳に追加
n型InP基板1の上に、n−InPバッファ層2、InGaAsP活性層3、第1p−InPクラッド層4が積層されている。 - 特許庁
The semiconductor laser array 1 includes a p-type clad layer 11, an n-type clad layer 15, and an active layer 13.例文帳に追加
半導体レーザアレイ1は、p型クラッド層11と、n型クラッド層15と、活性層13と、を備えている。 - 特許庁
The second conductive clad layer 21 is formed between the active layer 19 and the second conductive contact layer 23.例文帳に追加
第2導電型クラッド層21は活性層19と第2導電型コンタクト層23との間に設けられている。 - 特許庁
A nitride semiconductor light emitting device is equipped with a P-side optical guide layer, an N-side optical guide layer, and an active layer which are all interposed between a P-side clad layer and an N-side clad layer.例文帳に追加
窒化物半導体発光素子は、n側とp側クラッド層の間にpおよびn側光ガイド層と活性層が形成されている。 - 特許庁
A first clad layer 12, an active layer 13, a second clad layer 14, a current diffusion layer 15 and a contact layer 16 are laminated sequentially on a substrate 11.例文帳に追加
基板11上に第1クラッド層12、活性層13、第2クラッド層14、電流拡散層15、コンタクト層16が順次積層されている。 - 特許庁
Then, the optical guide layer 51, the active layer 52 and the optical guide layer 53 are worked into mesa shape, and a buried layer 54 and a current block layer 55 are formed.例文帳に追加
次いで、光ガイド層51、活性層52及び光ガイド層53をメサ形に加工した後、埋め込み層54及び電流ブロック層55を形成する。 - 特許庁
A light-emitting layer 1 has a double hetero structure in which an n-type clad layer 2, an adjusting crystal layer 3, an active layer 4, and a p-type clad layer 5 are laminated together.例文帳に追加
発光層部1は、n型クラッド層2、調整結晶層3、活性層4及びp型クラッド層5が互いに積層されたダブルヘテロ構造を有する。 - 特許庁
A piezoelectric actuator 12 includes a first piezoelectric layer 12a (active layer) and a second piezoelectric layer 12b (restraint layer) stacked on the first piezoelectric layer 12a.例文帳に追加
圧電アクチュエータ12が、第1の圧電層12a(活性層)と、この第1の圧電層12aに積層された第2の圧電層12b(拘束層)とを有する。 - 特許庁
In the battery electrode provided with a current collector, and an active material layer containing an active material formed on the surface of the collector, a thin part thinner than the other part of the active material layer is formed on the active material layer.例文帳に追加
集電体と、前記集電体の表面に形成された、活物質を含む活物質層と、を有する電池用電極において、活物質層に、当該活物質層の他の部位と比較して厚さの小さい薄部を存在させる。 - 特許庁
Further, a low Al composition AlGaAs layer 51, a current constriction layer 31, and a low Al composition AlGaAs layer 52 are formed sequentially between the active layer 21 and the p type DBR layer 22 from the DBR layer 22 toward the active layer 21.例文帳に追加
また、活性層21と、p型DBR層22との間に、DBR層22側から活性層21側に向けて、低Al組成AlGaAs層51、電流狭窄層31、及び低Al組成AlGaAs層52を順に形成する。 - 特許庁
An anode has an active material-containing layer containing composite particles P10 containing an electrode active material, a conductive assistant, and a binder, and a current collector electrically contacting with the active material-containing layer.例文帳に追加
アノードは、電極活物質と導電助剤と結着剤とを含む複合粒子P10を含む活物質含有層と、該層に電気的に接触する集電体とを有する。 - 特許庁
The outer peripheral part of a single cell layer constituted of the positive electrode active material layer, the electrolyte layer, and the negative electrode active material layer is sealed by a sealing part having a second resin as the base material.例文帳に追加
正極活物質層、電解質層、および負極活物質層から構成される単電池層の外周部が、第2の樹脂を基材とするシール部により封止されてなる。 - 特許庁
The active layer 30 is formed on a first main surface of the first conductive clad layer 20, and the current block 40 is formed on both sides of the active layer 30 on the first conductive clad layer 20.例文帳に追加
活性層は第1導電型クラッド層の第1の主表面側に形成され、電流ブロック部は第1導電型クラッド層上の活性層の両側に形成されている。 - 特許庁
A bandgap on the first buffer layer 21 is larger than a bandgap on the first active layer 23, while a bandgap on the second buffer layer 31 is larger than a bandgap on the second active layer 33.例文帳に追加
第1のバッファ層21のバンドギャップは、第1の活性層33のバンドギャップよりも大きく、第2のバッファ層31のバンドギャップは、第2の活性層33のバンドギャップよりも大きい。 - 特許庁
The active layer 12 is an active layer 12 of a multi-quantum well structure including a plurality of well layers 34_1 to 34_M and a plurality of barrier layers 32_1 to 32_N, and is provided between the n-type cladding layer and the p-type cladding layer.例文帳に追加
活性層は、複数の井戸層と複数のバリア層とを含む多重量子井戸構造の活性層であり、n型クラッド層とp型クラッド層の間に設けられている。 - 特許庁
The light emitting device 100 includes a support part 120, a first clad layer 104, an active layer 106, a second clad layer 108, and a reflective part 140 formed separate from the active layer.例文帳に追加
発光装置100は、支持部120と、第1クラッド層104と、活性層106と、第2クラッド層108と、活性層と離間して形成された反射部140と、を含む。 - 特許庁
Further, in the optical resonator 3, a first auxiliary active layer 7 is provided in the vicinity of the lower reflective layer 4 and a second auxiliary active layer 8 is provided in the vicinity of the upper reflective layer 5.例文帳に追加
また、光共振器3には、下部反射層4の近傍に第1の副活性層7を設けると共に、上部反射層5の近傍に第2の副活性層8を設ける。 - 特許庁
The refractive index in a region of the p-type cladding layer 8 closer to the active layer 5 is lower than the refractive index in another region of the p-type cladding layer 8 opposite to the active layer 5.例文帳に追加
そして、p型クラッド層8内の活性層5側の領域の屈折率がp型クラッド層8内の活性層5側とは反対側の領域の屈折率よりも低くなっている。 - 特許庁
After forming the trench portion 111 on the substrate 110, by sequentially depositing the buffer layer 120, the n-contact layer 130, and the active layer 140 on the trench portion 111, the area of light emission of the active layer 140 is increased.例文帳に追加
基板110にトレンチ部111を形成した後、トレンチ部111にバッファ層120、n−コンタクト層130、及び活性層140を順次に蒸着することによって、活性層140の発光面積が増大する。 - 特許庁
As an inter-membrane differential pressure equalizing member, there are a spacer 2 interposed between separating membranes 1, a supporting layer for the active layer of the separating membrane and a reinforcing member for reinforcing the active layer and the supporting layer of the separating film or the like.例文帳に追加
膜間差圧均一化部材には、分離膜1間に介在するスペーサー2、分離膜の活性層の支持層、分離膜の活性層と支持層を補強する補強材などがある。 - 特許庁
To provide an oxidized layer constriction-type surface-emitting laser element that controls oxidization of a low refractive point layer of a Distributed Bragg Reflector (DBR) mirror near an active layer, thus reducing a stress strain produced on the active layer.例文帳に追加
酸化層狭窄型の面発光レーザ素子で、活性層近傍のDBRミラーの低屈折率層の酸化を抑制し、活性層に生ずる応力歪みを低減する。 - 特許庁
In the solid electrolyte battery having at least one single cell layer 19 which has an anode active substance layer 13, a solid electrolyte layer 17, and a cathode active material layer 15 laminated in this order; one or two or more of the anode active substance layer, the solid electrolyte layer and the cathode active material layer are made to contain a hollow filament 100.例文帳に追加
正極活物質層13、固体電解質層17、および負極活物質層15がこの順に積層されてなる少なくとも1つの単電池層19を有する固体電解質電池において、前記正極活物質層、前記固体電解質層、および前記負極活物質層の1つまたは2つ以上に中空糸100を含有させる。 - 特許庁
An active material layer in which a plurality of composite layers composed of the first active material layer and the second active material layer are laminated and provided by repeating a series of the processes.例文帳に追加
上記の一連の工程を繰り返すことにより、第1活物質層と第2活物質層とからなる複合体層が、複数層、積層して設けられている活物質層を形成してもよい。 - 特許庁
A source electrode 6 and a drain electrode 7 are led out from a source/drain region 5 on an active layer 4 to the outside of the active layer 4, and have parts which are in contact with a side wall of the active layer 4.例文帳に追加
ソース電極6およびドレイン電極7は、活性層4上のソース・ドレイン領域5から活性層4の外部に導出されており、活性層4の側壁と接触する部分を有している。 - 特許庁
The laser structure is epitaxially grown on a substrate 12 with a lower cladding layer 20, an active layer 22, an upper cladding layer 24, and a contact layer 26.例文帳に追加
基板12上で、エピタキシャル成長され、下部クラッド層20、活性層22、上部クラッド層24および接触層26を有する。 - 特許庁
The photonic crystal layer 7 is stacked on the n-type buffer layer 3 and the n-type guide layer 5, and is independent of the quantum cascade active layer 4.例文帳に追加
フォトニック結晶層7は、n型バッファ層3およびn型ガイド層5と積層され、量子カスケード活性層4と独立している。 - 特許庁
A lower part clad layer 2, an active layer 3, an upper part first clad layer 4 and an etching stop layer 5 are laminated in order on a substrate 1.例文帳に追加
基板1の上には、下部クラッド層2、活性層3、上部第1クラッド層4およびエッチングストップ層5が順に積層されている。 - 特許庁
The insulating layer covers the second metal layer and a part on the second metal layer side of the first metal layer on the first active region.例文帳に追加
絶縁層は、第2金属層と、第1アクティブ領域上の第1金属層の第2金属層側の一部分を覆っている。 - 特許庁
Thereafter, the insulation layer 3 of the diaphragm region is selectively etched to form a gap layer 4 between the support layer 2 and the active layer 1.例文帳に追加
その後、ダイアフラム領域の絶縁層3を選択的にエッチングし、支持層2と活性層1の間に空隙層4を形成する。 - 特許庁
The mesa structure part includes a p-type clad layer, an active layer, and an n-type clad layer which are laminated on the p-type semiconductor layer.例文帳に追加
また、メサ構造部は、p型半導体基板の上に積層されたp型クラッド層、活性層、及びn型クラッド層を含んでいる。 - 特許庁
A light-emitting device includes: an n-type layer; a p-type layer; an active-region sandwiched between the n-type layer and the p-type layer; and a substrate having a first surface for receiving the active-region sandwiched between the n-type layer and the p-type layer.例文帳に追加
発光素子は、N型層と、P型層と、前記N型層と前記P型層の間に挟まれたアクティベーション層と、前記N型層と前記P型層の間に挟まれたアクティベーション層を受け入れる第1面を有する基板と、を含む。 - 特許庁
To provide a technology of forming a polycrystalline semiconductor region of a semiconductor apparatus formed by using a laminated substrate with a base layer, a buried insulating layer, and an active layer laminated in this order in a boundary between the buried insulating layer and the active layer without thickening the film of the active layer.例文帳に追加
ベース層と埋込絶縁層と活性層が順に積層されている積層基板を利用して形成されている半導体装置において、活性層を厚膜化することなく埋込絶縁層と活性層の境界に多結晶半導体領域を形成することができる技術を提供する。 - 特許庁
ACTIVE ENERGY RAY-CURABLE RESIN COMPOSITION, ACTIVE ENERGY RAY-CURABLE COATING MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PROTECTIVE LAYER例文帳に追加
活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、活性エネルギー線硬化型塗料および保護層の形成方法 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|