「basic composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

This cleanser composition is characterized by adding 0.01 to 1 pt.wt. of an evaporable basic compound such as tetramethylammonium hydroxide to 100 pts.wt. of a mixture liquid comprising 10 to 95 wt.% of water and 5 to 90 wt.% of an organic solvent having a solubility parameter δ of 8 to 16, such as dipropylene glycol monomethyl ether or propylene glycol monopropyl ether, and substantially not containing a surfactant.例文帳に追加

水１０〜９５重量％及びジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル等の溶解度パラメーターδが８以上１６以下である有機溶媒５〜９０重量％からなる混合液１００重量部に対して、水酸化テトラメチルアンモニウム等の揮発性を有する塩基性化合物を０．０１〜１重量部含有してなり、界面活性剤を実質的に含有しない組成物を洗浄剤として使用する。 - 特許庁

The aqueous paint composition is obtained by using: an amine compound containing a silicon atom as a basic substance for neutralizing a carboxyl group contained in an acrylic resin, and, if necessary, an amine compound not containing any silicon atom and/or ammonia as well; and further a hydrazide and/or semicarbazide derivative as an active hydrogen compound capable of reacting with a carbonyl group contained in the acrylic resin.例文帳に追加

アクリル樹脂が含有するカルボキシル基を中和する塩基性物質としてケイ素原子を含有するアミン化合物、及び必要に応じてケイ素原子を含有しないアミン化合物および／又はアンモニアを併せて用い、さらにアクリル樹脂が含有するカルボニル基と反応する活性水素化合物としてヒドラジド及び／又はセミカルバジド誘導体を用いることを特徴とする水性硬化性組成物。 - 特許庁

(1) The photosensitive resin letterpress composition contains at least a soluble synthetic polymer compound, a photopolymerizable unsaturated compound and a photopolymerization initiator as basic components, wherein the soluble polymer compound is an addition polymer obtained by reacting (A) a 6-9C aliphatic diamine in which a methyl group branches off from a principal chain and (B) a diamine having a piperazine ring with (C) a diisocyanate compound.例文帳に追加

（１） 少なくとも可溶性合成高分子化合物、光重合性不飽和化合物、光重合開始剤を基本成分とする感光性樹脂凸版組成物であって、該可溶性高分子化合物が、(Ａ) 主鎖に対してメチル基が分岐した炭素数が６〜９の脂肪族ジアミン、（B）ピペラジン環を有するジアミン及び(Ｃ)ジイソシアネート化合物との反応で得られる付加重合体であることを特徴とする感光性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide an oxygen absorbent which makes a complex comprising a basic nitrogen-containing compound having an oxygen absorption capacity and a transition metal insoluble in water by a simple method, an oxygen absorbent resin composition in which the oxygen absorbent is incorporated into a thermoplastic resin etc., a laminate using it, and a package.例文帳に追加

酸素吸収能力を有する塩基性窒素含有化合物と遷移金属からなる錯体を簡易な手法で非水溶性化した酸素吸収剤、およびそれを熱可塑性樹脂などに配合した酸素吸収性樹脂組成物、ならびにそれを用いた積層体及び包装体を得ることにあり、さらには、これらの包装体をボイルやレトルト処理にも展開が可能な包装体にすることにある。 - 特許庁

The invention relates to the lubricant composition having improved anticorrosion performance comprising an extreme pressure compound comprising a sulfur-containing compound, an antiwear compound comprising a phosphorous-containing compound, an alkylene amine based friction modifying compound, a dispersant compound containing basic nitrogen, and a diluent or base oil as applicable, wherein any of compounds other than the diluent or base oil can be the same or different compounds.例文帳に追加

硫黄含有化合物を含んで成る極圧化合物、燐含有化合物を含んで成る抗摩耗化合物、アルキレンアミン系摩擦調整用化合物、塩基性窒素を含有する分散性化合物および適宜希釈用油または基油を含んで成っていて前記希釈用もしくは基油以外の化合物のいずれかが同じまたは異なる化合物であってもよい向上した防食性能を示す潤滑剤組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) an acid generating sulfonium slat compound represented by a specified structure, (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units having a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid, (C) a solvent, (D) an organic basic compound and (E) a surfactant having a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造で表される酸を発生するスルホニウム塩化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂、（Ｃ）溶剤、（Ｄ）有機塩基性化合物、及び（Ｅ）特定構造の界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

This positive photoresist composition contains (A) a sulfonic acid generating compound represented by a specified structure, (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid, (C) a solvent, (D) an organic basic compound and (E) a surfactant with a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造で表されるスルホン酸を発生する化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂、（Ｃ）溶剤、（Ｄ）有機塩基性化合物、及び（Ｅ）特定構造の界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

A composition including one or more of the following: a basic zinc carbonate, a copper zinc carbonate hydroxide, a layered complex hydroxide, a hydroxy complex, a phyllosilicate containing a Zn^2+ ion, a zinc hydroxide acetate, a zinc carbonate hydroxide, a zinc hydroxide chloride, a zinc copper carbonate hydroxide, a zinc hydroxide lauryl sulfate, a zinc hydroxide nitrate, a zinc hydroxide sulfate and mixtures thereof is provided for protecting glassware from surface corrosion during automatic dishwashing.例文帳に追加

塩基性炭酸亜鉛、炭酸水酸化亜鉛銅、層状複水酸化物、ヒドロキシ複塩、Ｚｎ2＋イオンを含有するフィロケイ酸塩、水酸化酢酸亜鉛、炭酸水酸化亜鉛、水酸化塩化亜鉛、炭酸水酸化銅亜鉛、水酸化ラウリル硫酸亜鉛、水酸化硝酸亜鉛、水酸化硫酸亜鉛及びこれらの混合物の１つ以上を含む組成物が、自動食器洗いの間にガラス製品を表面腐食から保護するために提供される。 - 特許庁

The semiconductor wafer polishing composition uses an active silic acid solution obtained by removing alkali from a silic acid alkaline solution, and colloidal silica formed of a nitrogen containing basic compound composed of one kind or more of ethylenediamine, diethylenediamine, imidazole, methyl imidazole, piperidine, morpholine, arginine, and hydrazine as main components, and contains a quaternary ammonium hydroxide, whereby pH at 25°C is prepared to 8.5-11.0.例文帳に追加

珪酸アルカリ水溶液からアルカリを除去して得られた活性珪酸水溶液と、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、イミダゾール、メチルイミダゾール、ピペリジン、モルホリン、アルギニンおよびヒドラジンのいずれか１種類以上である窒素含有塩基性化合物によって製造されるコロイダルシリカを主成分とし、水酸化第４アンモニウムを含有することで、２５℃におけるｐＨが８．５〜１１．０に調製されていることを特徴とする半導体ウエハ研磨用組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing repeating units including a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generated the acid when irradiated with active light or radiation, an organic solvent which dissolves the above components, an organic basic compound and at least one selected from a fluorine- and/or silicon-containing surfactant and a nonionic surfactant.例文帳に追加

特定の構造を含有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、上記成分を溶解する有機溶剤、有機塩基性化合物、並びにフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤、及びノニオン系界面活性剤のうち少なくとも１種を含有する事を特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The detergent composition comprises an aqueous solution containing an acid type anionic surfactant and an oil component or is prepared by adding a basic compound to an aqueous solution containing an acid type anionic surfactant and an oil component, wherein the acid type anionic surfactant can be a mixture of an anionic surfactant and an acid, and the oil component preferably contains a sugar-fatty acid ester, and preferably further contains polyvinylpyrroridone.例文帳に追加

酸型アニオン界面活性剤と油分とを含む水溶液からなる洗浄剤組成物、また酸型アニオン界面活性剤と油分とを含む水溶液に、塩基性化合物を添加してなる洗浄剤組成物であり、前記酸型アニオン界面活性剤が、アニオン界面活性剤と酸とを混合し得られるものでもよく、前記油分がショ糖脂肪酸エステルを含むことが好ましく、さらに、ポリビニルピロリドンを含むことが好ましい。 - 特許庁

This oxide fine particle-containing resin composition is obtained by mixing (A) silicon oxide fine particles and/or metal oxide fine particles with (B) an organic polymer having a silicon atom bonded with hydrolyzable group and/or hydroxy group in an organic solvent and in the presence of a basic compound, an acidic compound or a metal chelate compound, and dispersing the (A) the oxide fine particles in the organic solvent.例文帳に追加

上記酸化物微粒子含有樹脂組成物は、有機溶媒中、塩基性化合物、酸性化合物または金属キレート化合物の存在下で、（Ａ）ケイ素酸化物微粒子および／または金属酸化物微粒子、および（Ｂ）加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を含有するシリル基を有する有機重合体を混合して、前記酸化物微粒子（Ａ）を有機溶媒中に分散させることにより得られる。 - 特許庁

This aqueous resin composition for a coating for can manufacturing comprises a thermosetting aqueous resin dispersion obtained by carrying out radical polymerization of an aqueous dispersion prepared by dispersing a mixture of ethylenically unsaturated monomers in an aqueous medium using an aqueous acrylic polymer having carboxy groups and cross-linking functional groups other than the carboxy groups in the presence of an aqueous resin having carboxy groups and obtained by neutralizing a part or all of the carboxy groups with a basic compound.例文帳に追加

カルボキシル基およびカルボキシル基以外の架橋性官能基を有する水性アクリル重合体を用いて、エチレン系不飽和単量体の混合物を水性媒体中に分散させた水性分散液を、カルボキシル基を有し、カルボキシル基の一部ないし全部を塩基性化合物で中和して得られる水性樹脂の存在下でラジカル重合させて得られる熱硬化性水性樹脂分散体を含んでなる製缶塗料用水性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which is alkali-insoluble or slightly alkali-soluble, is made alkali- soluble by the action of the acid and contains at least one aromatic ring and an acid decomposable group and (C) a basic compound which contains an optionally substituted ≥9C aliphatic hydrocarbon group in its molecule.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる少なくとも１つの芳香環及び酸で分解し得る基を含有する樹脂、及び（Ｃ）分子内に少なくとも炭素数９以上の置換又は無置換の脂肪族炭化水素基を含有する塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing acid decomposable alicyclic olefin repeating units with a specified structure, anhydride repeating units with a specified structure and acid decomposable acrylic repeating units with a specified structure and having a dissolution rate in an alkali developing solution increased by the action of the acid and a nitrogen-containing basic compound having no aromatic ring.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸分解性脂環オレフィン系繰り返し単位、特定構造の無水物系繰り返し単位、及び特定構造の酸分解性アクリル系繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び芳香族基を有さない含窒素塩基性化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

More specifically, I strongly support the view that, by the Singapore Meetings, we reach concrete agreement on ad hoc quota increases for significantly underrepresented members selected by appropriate criteria as the first step toward credible quota reform. At the same time, we should firmly agree to tackle the issues of the size and composition of the Executive Board, an increase in the number of basic votes, and the review of the quota formulas, all of which will require extensive discussions within a longer-term framework. 例文帳に追加

具体的には、我が国は、本年9月の総会までに、適切な基準により選び出された、過小代表度の著しい加盟国のアド・ホック増資によるクォータ配分見直しにつき具体的に合意し、改革に向けた第一歩をまず踏み出すとともに、複雑な調整を要すると目されるIMF理事会の規模及び構成の見直し、基礎票の引上げ並びにクォータ計算式の見直しに中長期的な課題として取り組むことにつき明確に合意すべきと考えます。 - 財務省

This polypropylene resin composition is characterized as comprising 40-98 wt.% of a polypropylene resin (A), 1-30 wt.% of basic magnesium sulfate fibers having 7-10 μm average fiber length of fibers contained in primary fibers and ≤10 wt.% ratio of primary fibers containing fibers having ≥20 μm fiber length and surfaces treated with montan wax and 1-30 wt.% of talc (C).例文帳に追加

ポリプロピレン系樹脂（Ａ）４０〜９８重量％、一次繊維に含まれる繊維の平均繊維長が７〜１０μｍであり、繊維長が２０μｍ以上である繊維を含む一次繊維の比率が１０重量％以下であり、モンタン蝋を用いて表面が処理された塩基性硫酸マグネシウム繊維（Ｂ）１〜３０重量％、および、タルク（Ｃ）１〜３０重量％を含有することを特徴とするポリプロピレン系樹脂組成物およびその樹脂組成物を用いて得られる射出成形体。 - 特許庁