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basic compositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 772件
Disclosed is the gas generator composition comprising fuel of 5 to 60 mass% and an oxidizer of 40 to 95 mass%, wherein as the oxidizer, basic magnesium nitrate is contained by ≥60 mass%.例文帳に追加
燃料5〜60質量%と酸化剤40〜95質量%を含有しており、前記酸化剤として塩基性硝酸マグネシウムを60質量%以上含んでいるガス発生剤組成物。 - 特許庁
The functional composition comprises at least one polyfunctional Michael acceptor, at least one polyfunctional Michael donor and at least one weakly basic catalyst.例文帳に追加
少なくとも1種類の多官能性マイケル受容体と、少なくとも1種類の多官能性マイケル供与体と、少なくとも1種類の弱塩基性触媒とを含む官能性組成物が提供される。 - 特許庁
This wettable granular agrochemical composition comprises an active agrochemical ingredient having ≥60 ppm solubility in water at 30°C, a water soluble basic ingredient, an anion surfactant and an oil-absorbing carrier.例文帳に追加
30℃における水溶解度が60ppm以上である農薬活性成分、塩基性水溶性成分、アニオン界面活性剤および吸油性担体を含有してなる粒状水和性農薬組成物。 - 特許庁
The compound is compounded with an aromatic borate compound, an organic palladium compound and a basic inorganic or organic compound (and an organic phosphorus compound), to form a curable fluorine-containing polyether composition together.例文帳に追加
この化合物に、芳香族ボロン酸エステル化合物、有機パラジウム化合物、塩基性の無機または有機化合物(および有機リン化合物)を配合して硬化性含フッ素ポリエーテル組成物を形成させる。 - 特許庁
To stably and continuously generate excitated oxygen over a long time with high reaction efficiency, by controlling the composition of the basic hydrogen peroxide solution of an excited oxygen generator for chemically excitated oxygen - iodine laser.例文帳に追加
化学励起酸素—沃素レーザ用励起酸素発生装置の塩基性過酸化水素溶液の組成を制御して、高い反応効率で連続的に長時間安定して励起酸素を発生する。 - 特許庁
This resin composition comprises 5 to 100 pts.wt., preferably 10 to 50 pts.wt., of fly ash having average particle size of 10 μm or smaller in addition to a basic formulation to 100 pts.wt. of the vinyl chloride resin.例文帳に追加
塩化ビニル樹脂100重量部に対し、基本的な配合材とともに平均粒径10μm以下のフライアッシュを5〜100重量部、好ましくは10〜50重量部配合してなる。 - 特許庁
In step 2-1, the silica dispersion is added to an aqueous basic substance solution which is prepared so that when mixed with the silica dispersion, it gives a polishing composition with a pH of 8-12 and silica concentration of 10-30 wt.%.例文帳に追加
ステップ2−1では、混合後のpHが8〜12となり、シリカ濃度が10〜30重量%となるように調製した塩基性物質水溶液に対して、シリカ分散液を添加する。 - 特許庁
In this case, for the basic composition, the antimony oxide is set to 0.2-1.2 mol%, the mixture is set to 0.02-0.1 mol%, the mixing weight ratio of the titanium oxide and the boric acid is set to 20:80-80:20.例文帳に追加
ここで、基本組成に対して、酸化アンチモン0.2〜1.2mol%と、混合物0.02〜0.1mol%であり、酸化チタンとホウ酸の混合割合は、重量比で20:80〜80:20の範囲である。 - 特許庁
The magnetic carrier core material for an electrophotographic developer is manufactured from an iron-based oxide whose basic composition is iron and oxygen, and adjusted so that the average valence number of the iron is 2.57-2.67.例文帳に追加
基本組成が鉄と酸素である鉄系酸化物であって、当該鉄の平均原子価数が2.57〜2.67となるよう調整された電子写真現像剤用の磁性キャリア芯材を作製した。 - 特許庁
A photosensitive composition containing a compound for generating an acid by irradiation with a beam of active light or a radiation, a specific basic compound having a polar group, a specific basic compound having no polar groups, and a specific surfactant, and a pattern forming method using the same are provided.例文帳に追加
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、極性基を有する特定の塩基性化合物、極性基を有さない特定の塩基性化合物、及び、特定の界面活性剤を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁
The problem to be solved has been attained by providing a human basic fibroblast growth factor having amino acid sequence Ala-Gly-Ser- at N-terminus, substantially free from any kind of human basic fibroblast growth factors having different N-terminal amino acid sequences and it's composition.例文帳に追加
上記課題は、異なるN末端アミノ酸配列を有するヒト塩基性繊維芽細胞増殖因子のどの種も実質的に含んでいない、N末端にアミノ酸配列Ala−Gly−Ser−を有するヒト塩基性繊維芽細胞増殖因子およびその組成物を提供することにより達成された。 - 特許庁
The resin composition preferably comprises 0.1 to 50 wt.% of the polyamine or its derivative, 0.05 to 25 wt.% of the basic functional group-having organic pigment derivative or the basic functional group-having triazine derivative, and the thermoplastic resin and the acidic substituent-having resin in a total amount of 25 to 99.85 wt.%.例文帳に追加
また、ポリアニリンまたはその誘導体0.1〜50重量%および塩基性官能基を有する有機色素誘導体または塩基性官能基を有するトリアジン誘導体が0.05〜25重量%および熱可塑性樹脂と酸性置換基を有する樹脂との計が25〜99.85重量%からなる上記樹脂組成物。 - 特許庁
The present invention relates to (1) the basic medicine having properties scarcely having chemical decomposition under acidic pH in an aqueous solution, compared with conditions under neutral or basic pH in the aqueous solution, while the medicine is dissolved in water in the presence of water and chemically decomposed and (2) a stabilized medicinal composition containing an anionic polymer not forming a salt in a contact state.例文帳に追加
1)水分存在化で溶解して化学的に分解するが、水溶液中では中性又は塩基性pH下と比較して酸性pH下で化学的分解が少ない特性を有する塩基性薬物、及び2)塩を形成していないアニオン性高分子を接触状態で含有してなる安定化された医薬組成物 - 特許庁
The composition is a modified high molecular compound, a backbone polymer of which is a resin including a repeating unit included in a high polymer compound contained in the first and second binding agents as a basic unit, and as a branch polymer of which, modified materials with adhesion performance are arranged in places of the basic unit of the backbone polymer.例文帳に追加
この組成物は、第1結着剤、第2結着剤に含有する高分子化合物中に含まれる繰返し単位を基本単位として含んだ樹脂を幹重合体とし、幹重合体の基本単位のところどころに接着性能を有する変性物質が枝重合体として配列した変性高分子化合物である。 - 特許庁
A fluxing agent is added at ≤10wt% to 100wt% glaze composition composed of a KNaO-MgO-CaO-Al_2O_3-SiO_2-based basic glaze in which basic components consists of 0.1 to 0.4 KNaO, 0.2 to 0.6 MgO and the balance CaO expressed by Seger formula and metal oxides consisting of tin oxide and antimony oxide.例文帳に追加
ゼーゲル式で表して、塩基性成分が、KNaO:0.1〜0.4、MgO:0.2〜0.6、CaO:残部からなるKNaO−MgO−CaO−Al_2O_3−SiO_2系基礎釉と、酸化スズ、酸化アンチモンからなる金属酸化物と、からなる釉薬組成物100wt%に対し、10wt%以下の溶融剤を添加する。 - 特許庁
The catalyst composition for polyester polymerization useful for producing a polyethylene terephthalate by subjecting a dicarboxylic acid and a diol to condensation polymerization comprises at least one of basic magnesium carbonate, magnesium hydroxide, magnesium acetate, zinc carbonate, basic zinc carbonate, zinc hydroxide and zinc acetate.例文帳に追加
ジカルボン酸とジオールを縮重合してポリエチレンテレフタレート樹脂を製造する際に使用する触媒組成物が、塩基性炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、酢酸マグネシウム、炭酸亜鉛、塩基性炭酸亜鉛、水酸化亜鉛又は酢酸亜鉛の少なくとも一種を含むことを特徴とするポリエステル重合用触媒組成物。 - 特許庁
The display-coating composition is prepared by mixing an organic solvent with a carbon-black aqueous dispersion which is obtained by allowing an organic coloring-matter derivative having a basic functional group or a triazine derivative having a basic functional group to be adsorbed to carbon black under an acidic range of pH 3-7 in water with a media-type dispersing machine.例文帳に追加
カーボンブラックと、塩基性官能基を有する有機色素誘導体または塩基性官能基を有するトリアジン誘導体とを、水中でpHが3〜7の酸性領域でメディア型分散機を用いて吸着処理したカーボンブラックの水性分散体に有機溶剤を配合したディスプレイコーティング用組成物。 - 特許庁
To obtain an adhesive composition that is produced by preparing a small number of basic copolymers each commonly useful as a copolymer constituting an adhesive composition and that can regulate adhesion properties according to a use when the obtained copolymer is used as an adhesive.例文帳に追加
本発明の目的は、粘着剤組成物を構成する共重合体として、共通して使用できる少数の基礎的共重合体を準備しておき、これを粘着剤として使用する際、用途に応じて粘着特性を調節することができる粘着剤組成物を提供することにある。 - 特許庁
Provided are the pigment dispersion composition comprising (a) a diketopyrrolopyrrole-based pigment, (b) a pigment derivative having at least one group selected from an acidic group and a basic group, and (c) a diaryldiketopyrrolopyrrole having at least one substituent; and a color filter containing the pigment dispersion composition.例文帳に追加
(a)ジケトピロロピロール系顔料と、(b)酸性基および塩基性基から選択される少なくとも1種の基を有する顔料誘導体と、(c)少なくとも一つの置換基を有するジアリールジケトピロロピロール化合物と、を含む顔料分散組成物、および、該顔料分散組成物を含有するカラーフィルタ。 - 特許庁
A method for laminating an ink composition on a sheet, which is characterized by printing a moisture indicator ink composition comprising at least an ink binder, the coloring agent that develops color by work of a developer made of a basic substance under the presence of moisture, and a pH adjuster.例文帳に追加
少なくともインキバインダー、水分の存在下で塩基性物質からなる顕色剤の働きかけで発色する着色剤及びpH調整剤を含有する水分インジケーターインキ組成物を、該顕色剤を含有するシートに印刷することを特徴とするシートへのインキ組成物の積層方法。 - 特許庁
The low-smoke emission resin composition is prepared by compounding 100 pts.wt. resin composition comprising a polyamide resin (A) and a rubber-reinforced styrene resin (B) with 5-100 pts.wt. salt (C) (except ammonium polyphosphate) formed from a polyphosphoric acid and a nitrogen-containing basic compound.例文帳に追加
ポリアミド樹脂(A)とゴム強化スチレン系樹脂(B)からなる樹脂組成物100重量部に対してポリ燐酸と含窒素塩基性化合物から構成される塩(但し、ポリ燐酸アンモニウム塩を除く)(C)5〜100重量部を配合してなる低発煙性樹脂組成物。 - 特許庁
A linear prediction composition part 105 performs linear prediction composition, when the signal component of the basic frequency is removed, by use of a signal component generated by the band extension processing of the band generation determination part 103 to generate a signal component of the band to be extended.例文帳に追加
線形予測合成部105は、基本周波数の信号成分が除去されている場合に、帯域生成判別部103の帯域拡張処理で生成した信号成分を用いて線形予測合成を行って、拡張する帯域の信号成分を生成する。 - 特許庁
This resin composition is a composition of the basic silica powder and a resin.例文帳に追加
シリカ粉体の表面が塩基性物質で処理された塩基性シリカ粉体において、シリカ粉体1m^2に対してへキサメチルジシラザン(HMDS)等の塩基性物質が0.05〜5μmole塩基当量で処理されたことを特徴とする塩基性シリカ粉体、その製造方法、及び該塩基性シリカ粉体と樹脂との組成物。 - 特許庁
The polyamide resin composition contains one or more metal compounds in an amount of 1-15 wt.% relative to the polymer composition; wherein the metal compounds are selected from the group consisting (a) a hydrotalcite and (b) divalent or trivalent hydroxide, oxide, and basic salt of metal other than hydrotalcites.例文帳に追加
ポリアミド樹脂組成物が、(a)ハイドロタルサイトと(b)ハイドロタルサイト以外の2価もしくは3価の金属の水酸化物、酸化物、及び塩基性塩よりなる群から選ばれる1種又は2種以上の金属化合物を、ポリマー成分に対して1〜15重量%含有する。 - 特許庁
The alkali developing solution for a color photosensitive composition contains: (A) a nonionic surfactant containing (A-1) polyoxyalkylene monostyrylphenylether and (A-2) polyoxyalkylene distyrylphenylether, in a mass ratio [(A-1)/{(A-1)+(A-2)}] of 0.2 to 0.9; and (B) a basic composition containing (B-1) potassium hydroxide.例文帳に追加
(A-1)ポリオキシアルキレンモノスチリルフェニルエーテルと、(A-2)ポリオキシアルキレンジスチリルフェニルエーテルとを、質量比[(A-1)/〔(A-1)+(A-2)〕]が0.2から0.9の範囲で含む(A)非イオン性界面活性剤、及び、(B-1)水酸化カリウムを含む(B)塩基性組成物、を含有する着色感光性組成物用アルカリ現像液。 - 特許庁
A composition ratio 8 is determined according to a high frequency component evaluation value of a luminance signal of a received non-stereoscopic image from an upper image high frequency component evaluation section 2 and a lower image high frequency component evaluation section 3, and the three kinds of the basic depth models are composited in accordance with the composition ratio 8.例文帳に追加
上部の高域成分評価部2と下部の高域成分評価部3からの入力非立体画像の輝度信号の高域成分評価値の値に応じて合成比率8を決定し、その合成比率8に応じて3種類の基本奥行きモデルを合成する。 - 特許庁
This hot melt adhesive composition comprises a structural unit excluding a reactive unsaturated bond, and includes a resin composition having a heat reversible cross-link formed by reacting a basic metal compound and a polyurethane resin having a carboxyl and excluding ester bond.例文帳に追加
ホットメルト接着剤組成物は、反応性不飽和結合を含まない構造単位からなり、カルボキシル基を有し、かつエステル結合を含まないポリウレタン樹脂と、塩基性金属化合物とを反応させて、前記該カルボキシル基部に熱可逆的架橋結合を形成させた樹脂組成物を含む。 - 特許庁
A surfactant containing a specified nonionic surfactant and a fluorine-containing surfactant is incorporated into a basic composition comprising an alkali-soluble novolak type resin and a quinonediazido-containing compound to obtain the objective positive type photoresist composition.例文帳に追加
アルカリ可溶性ノボラック型樹脂と、キノンジアジド基含有化合物とからなる基本組成に対し、界面活性剤を含有させたポジ型フォトレジスト組成物において、該界面活性剤が特定の非イオン界面活性剤とフッ素系界面活性剤を含むことからなるポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁
The hard mask composition for a resist underlayer film is a composition comprising a polymer produced from an end-methoxy dimethylpolysiloxane and polymethoxysilane, an acid or basic catalyst containing an anthrylmethylmethacrylate-acrylic acid copolymer, and an organic solvent.例文帳に追加
レジスト下層膜用ハードマスク組成物に関し、末端メトキシジメチルポリシロキサンとポリメトキシシランから生成する重合体、アンスリルメチルメタクリレート・アクリル酸共重合体酸或いは塩基性触媒、そして有機溶媒を含む組成物を特徴とするレジスト下層膜用組成物を提供する。 - 特許庁
To obtain a room temperature curable organopolysiloxane composition for clean rooms which releases no basic materials, causes no contact point troubles and is excellent in preservation stability and adhesiveness by making the composition to contain a specific diorganopolysiloxane and an acidic filler.例文帳に追加
塩基性物質を放出せず、また接点障害を起こすことがなく、しかも保存安定性、接着性共に優れた、特にクリーンルーム用シーリング材や電気電子用接点部材周辺に用いる材料として好適な、脱アルコール型の室温硬化性シリコーン組成物を提供する。 - 特許庁
This water-based coating material composition comprises an aqueous resin dispersion (C) obtained by polymerizing an unsaturated monomer mixture (B) comprising a carboxyl group-containing unsaturated monomer, a hydroxy group-containing unsaturated monomer and another unsaturated monomer in an organic solvent containing a benzoguanamine resin (A) to provide a resin composition, neutralizing the resin composition with a basic compound and dispersing the neutralized resin composition into water.例文帳に追加
ベンゾグアナミン樹脂(A)を含有する有機溶剤中でカルボキシル基含有不飽和単量体、水酸基含有不飽和単量体及びその他の不飽和単量体からなる不飽和単量体混合物(B)を重合して得られる樹脂組成物を塩基性化合物で中和した後、水中に分散してなる水性樹脂分散体(C)を含有してなることを特徴とする水性塗料組成物。 - 特許庁
When setting a camera to a request photographing mode, deciding a composition, and fully pushing the shutter button 26, the attitude of the camera body 12 at the instant is detected by an attitude detection sensor 152, and is stored in EEPROM 118 as a basic attitude.例文帳に追加
依頼撮影モードに設定し、構図を決め、シャッターボタン26を全押しすると、そのときのカメラボディ12の姿勢が姿勢検出センサ152によって検出され、基本姿勢としてEEPROM118に記憶される。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a radiation and suitable for use as a chemically sensitized resist excellent in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape.例文帳に追加
放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本性能に優れた化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To realize a resist composition having high transparency with respect to far-ultraviolet rays and radiation and moreover, superior in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern shape and line edge roughness.例文帳に追加
遠紫外線及び放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチ耐性、パターン形状及びラインエッジラフネス等のレジストとしての基本特性が優れたレジスト組成物を実現できるようにする。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically amplified resist excelling particularly in depth of focus (DOF) and capability of substantially decreasing development defects, while maintaining excellent basic performance as a resist.例文帳に追加
レジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、特に、焦点深度(DOF)に優れ、かつ現像欠陥が著しく低減された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
The photopolymerizable composition contains (A) an ethylenically unsaturated compound, (B) a dye having a structure containing heteroatoms bonded by way of a polymethine chain as the basic structure and having a substituent provided with an aminovinyl bond which forms an aminium cation by resonance in each dye molecule on the polymethine chain and (C) a photopolymerization initiator.例文帳に追加
下記の(A)成分、(B)成分、及び(C)成分を含有してなる光重合性組成物、及び、支持体表面に該光重合性組成物の層が形成されてなる光重合性平版印刷。 - 特許庁
In the server 300, odor basic element component specifying information in a plurality of terminals 200 existing in the odor generation system 1, odor specifying information, and composition information are stored in association with one another.例文帳に追加
この際、サーバ300には、匂い発生システム1に存在する複数の端末200における匂い基本要素成分特定情報、匂い特定情報、および配合情報が互いに関連付けられて格納されている。 - 特許庁
To provide an epoxy resin composition for sealing an optical semiconductor excellent in mounting reliability by achieving the reduction of moisture absorbing properties and a coefficient of thermal expansion of a cured resin while maintaining excellent transparency as basic performance.例文帳に追加
基本性能となる優れた透明性を維持した上で、硬化物の低吸湿化、低熱膨張率化を達成して、実装信頼性に優れる光半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a chemically amplified positive resist composition which attains cost reduction without impairing basic performances such as sensitivity and resolution, ensures small ruggedness due to stationary waves and improves pattern profile, particularly line edge roughness.例文帳に追加
感度、解像度などの基本的な性能を落とさずにコストが低減され、また定在波による凹凸が小さく、パターンプロファイル、特にラインエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
The photopolymerizable composition contains (A) an ethylenically unsaturated compound, (B) a dye having a structure with heteroatoms bonded through a polymethine chain as the basic structure, having an amino substituent which generates an aminium cation by resonance in each dye molecule on the polymethine chain and having an organic counter anion and (C) a photopolymerization initiator.例文帳に追加
下記の(A)成分、(B)成分、及び(C)成分を含有してなる光重合性組成物、及び、支持体表面に該光重合性組成物の層が形成されてなる光重合性平版印刷。 - 特許庁
This one-part moisture-curing urethane composition consists essentially of an isocyanate group-terminated urethane prepolymer and is obtained by adding (A) a compound having 6.0-9.0 solubility parameter value and/or (B) a compound having at least one basic structure represented by the formula (wherein, n is 0-3) in the molecule thereto.例文帳に追加
本発明の一液型湿気硬化性ウレタン系組成物は、イソシアネート基末端ウレタンプレポリマーを主成分とし、(A)溶解度パラメーター値6.0〜9.0の化合物および/または(B)分子中に式: - 特許庁
To provide a curable resin composition which has such basic physical properties of a sealing material as weatherability, and adhesiveness and which has no tackiness after curing and can maintain a low stainable property over a long period since the application initiation.例文帳に追加
耐候性や接着性等のシーリング材としての基本物性を有し、硬化後の表面タックがなく、かつ、施工初期から長期にわたって低汚染性を維持することができる硬化性樹脂組成物の提供。 - 特許庁
The black curable composition contains (A) an inorganic pigment, (B) a chain resin having a solvent-compatible moiety and a pigment-adsorbing moiety having an acid group or a basic group, (C) a polymerization initiator, and (D) a polymerizable compound.例文帳に追加
(A)無機顔料、(B)親溶剤性部と、酸基又は塩基性基を有する顔料吸着部とを含む鎖状の樹脂、(C)重合開始剤、及び(D)重合性化合物、を含有する黒色硬化性組成物。 - 特許庁
The heat-resistant resin composition is formed by blending (A) a polyamideimide resin obtained by reacting a diisocyanate compound with an aromatic tribasic acid anhydride and sebacic acid in a polar solvent, (B) a basic compound and (C) water.例文帳に追加
(A)極性溶媒中で、ジイソシアネート化合物と芳香族三塩基酸無水物及びセバシン酸とを反応させて得られるポリアミドイミド樹脂と(B)塩基性化合物と(C)水とを配合してなる耐熱性樹脂組成物。 - 特許庁
The positive electron beam or X-ray resist composition contains (a) a compound which generates an acid when irradiated with radiation, (b) a compound having cationic polymerizing function and (c) an organic basic compound.例文帳に追加
(a)放射線の照射により酸を発生する化合物、 (b)カチオン重合性の機能を有する化合物 (c)有機塩基性化合物 を含有することを特徴とするポジ型電子線又はX線レジスト組成物。 - 特許庁
To provide a urethane resin composition having good heat resistance, hydrolytic resistance, etc., by maintaining basic characteristics inherent in a polyurethane resin as well, having excellent workability, and suitable for moisture-proof insulation treatment of electric/electronic parts.例文帳に追加
ポリエレタン樹脂の有する基本特性を維持した上で、耐熱性、耐加水分解性等が良好で、作業性にも優れた電気・電子部品の防湿絶縁処理に適したウレタン樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
This anion-type electrodeposition coating material is formed by dispersing into water a coating material composition containing (A) a microparticulate titanium oxide, (B) a water-based resin containing hydroxyl group and carboxyl group, (C) a crosslinker and (D) a basic compound.例文帳に追加
微粒子酸化チタン(A)、水酸基及びカルボキシル基を含有する水性樹脂(B)、架橋剤(C)、塩基性化合物(D)を含有する塗料組成物を水中に分散させてなることを特徴とするアニオン型電着塗料。 - 特許庁
The basic material is obtained from a resin composition mainly comprising a base polymer containing 10-40 wt.% of an acrylic rubber or acrylic rubber/methyl methacrylate resin graftmer to a polyolefin-based polymer, for example, a polymer alloy of polypropylene and ethylene-propylene copolymer.例文帳に追加
ポリプロピレンとエチレン−プロピレンコポリマーとのポリマーアロイなどのポリオレフィン系ポリマーにアクリルゴムまたはアクリルゴム/メチルメタクリレート樹脂グラフトマーを10〜40wt%含むベースポリマーを主体とする樹脂組成物から基材を得る。 - 特許庁
This pharmaceutical composition for ophthalmic use is compounded of a glucide having a basic ring structure in which four glucoses are cyclically coupling with one another in a specified coupling scheme and/or a derivative of the glucide.例文帳に追加
グルコース4個が特定の結合様式で環状に結合した基本環状構造を有する糖質及び/又はその誘導体を配合した眼科用医薬組成物を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁
Lithium-transition metal composite oxides of a layered rock salt structure have a basic composition of LiMeO2 (Me is one or more selected from Ni and Co), and crystals thereof are grown in the c-axis direction to a desired degree.例文帳に追加
基本組成をLiMeO_2(MeはNi、Coから選ばれる1種以上)とする層状岩塩構造リチウム遷移金属複合酸化物をその結晶がc軸方向に所定の程度成長したものとする。 - 特許庁
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