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diffusing methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 513件
To provide a method for manufacturing a cured film, a light diffusing film, a heat conductive film, an electroconductive film or a cured film capable of being applied as a polarizing element which is a cured film having anisotropy in physical properties with respect to light, heat, electricity and the like, by forming a film alone utilizing characteristics of the cured film or forming the cured film on a substrate.例文帳に追加
光、熱、電気等に対する物性が異方性を有する硬化膜であって、その特性を利用して膜単独で、あるいは基体上に硬化膜を形成して、光拡散フィルム、光拡散膜、熱伝導性膜、熱伝導性フィルム、電気伝導性膜、電気伝導性フィルムあるいは偏光素子としての応用が可能な硬化膜の製造方法を提供する。 - 特許庁
This antibacterial, mildewproof and algaproof article comprises an article surface part bearing distributed antibacterial, mildewproof and algaproof ingredients and an article midsection formed at a deeper part than the surface part and practically diffused with no such ingredients; and the method for producing the article comprises diffusing the ingredients from the article surface to the inside of the surface part.例文帳に追加
抗菌・防黴・防藻性物品は抗菌・防黴・防藻性成分が拡散した物品表層部と、この物品表層部よりも深部に形成された前記抗菌・防黴・防藻性成分が実質的に拡散していない物品中央部とを備えるように構成し、その製造方法は抗菌・防黴・防藻性成分を物品表面から表層部の内部に拡散させるように製造する。 - 特許庁
In the method for manufacturing a light diffusing film by applying a coating liquid for an undercoating transparent layer on the surface of a transparent base material to form a base transparent layer, embedding transparent beads in the undercoating transparent layer and applying a coating liquid for a light absorbing layer to form a light absorbing layer, the light absorbing layer is formed by producing metal fine particles.例文帳に追加
透明基材表面に、下塗り透明層用塗布液を塗布して下塗り透明層を形成し、該下塗り透明層に透明ビーズを埋設した後、光吸収層用塗布液を塗布して光吸収層を形成する光拡散フィルムの製造方法であって、光吸収層が金属微粒子の生成により形成されることを特徴とする光拡散フィルムの製造方法である。 - 特許庁
This method comprises a primary impregnating step of impregnating or coating a fibrous structure with an excessive amount of an impregnant and a secondary impregnating step of subsequently bringing the primarily impregnated material obtained in the primary impregnating step into contact with a scraper equipped with an ultrasonic vibrating mechanism, thereby further diffusing the impregnant into the interior of the fibrous structure and simultaneously discharging the excessive impregnant on the surface of the fibrous structure.例文帳に追加
繊維構造物に過剰量の含浸剤を含浸あるいは塗工する一次含浸工程と、その後に一次含浸工程によって得られた一次含浸物に超音波振動機構を備えるスクレイパーを接する二次含浸工程により、さらに繊維構造物の内部に含浸剤を拡散すると同時に、繊維構造物表面の余剰の含浸剤を排出する含浸物の製造方法とした。 - 特許庁
The method for carburizing workpieces having edge parts includes: a plasma carburizing treatment (a carburizing treatment step) of storing workpieces having edge parts into a vacuum furnace, feeding a carburizing gas into the vacuum furnace and performing glow discharge; and the subsequent step (a diffusion step) of diffusing carbon in the surface layers of the workpieces into the workpieces by a neutral or reducing gas plasma treatment including an inert gas represented by argon.例文帳に追加
真空炉内に、エッジ部を有するワークを収容し、該真空炉内に浸炭性ガスを供給してグロー放電するプラズマ浸炭処理(浸炭処理工程)を施した後、引き続きアルゴンに代表される不活性ガスを含む中性あるいは還元性のガスプラズマ処理によりワーク表面層の炭素をワーク内部に拡散させる工程(拡散工程)を有することを特徴とする、エッジ部を有するワークの浸炭方法。 - 特許庁
The manufacturing method of the patterned medium includes a step for forming a pattern of a magnetic film having ruggedness corresponding to a track part, a servo part or a data part on the substrate having a shape having a hole at its center and a step for jetting a gas stream generated by diffusing a liquidized gas to the center hole of the substrate before or after the pattern of the magnetic film is formed.例文帳に追加
中心に孔を有する形状を持つ基板上に、トラックあるいはサーボ部あるいはデータ部に対応する凹凸をなす磁性膜のパターンを形成する工程と、 前記磁性膜のパターンの形成前または形成後に、液状化したガスを拡散させることで生じたガス流を前記基板の中心孔に対して噴射する工程とを含むことを特徴とするパターンド媒体の製造方法。 - 特許庁
In the method of forming the silicon germanium conducting channel 18 under the gate stack 6 of the semiconductor device, comprises the steps of forming a gate stack 6 on a silicon film on an insulating film, growing a silicon germanium film on the silicon film, and forming a silicon germanium conducting channel 18 between the gate stack 6 and the insulating film 2 by heating a semiconductor device and diffusing germanium in the silicon film.例文帳に追加
本発明は、半導体デバイスのゲートスタック6の下方にシリコンゲルマニウム伝導チャネル18を形成する方法において、ゲートスタック6を絶縁膜上のシリコン膜の上に形成し、シリコン膜上にシリコンゲルマニウム膜を成長させ、半導体デバイスを加熱して、ゲルマニウムをシリコン膜中に拡散させ、シリコンゲルマニウム伝導チャネル18をゲートスタック6と絶縁膜2との間に形成する工程を有する方法を提供する。 - 特許庁
The method for agrochemical application includes carrying a powdery or granular agrochemical stored inside an agrochemical applicator on an air flow generated by the agrochemical applicator from the application port of the agrochemical applicator to the front of the air blasting port of a blower, scattering the agrochemical, carrying the scattered agrochemical on the air flow sent from the air blasting port of the blower and diffusing and applying the agrochemical to facilities for cultivating or storing crops.例文帳に追加
農薬散布機の内部に収容した粉状又は顆粒状の農薬を、農薬散布機の散布口から送風機の送風口の前面へと農薬散布機で発生させた空気流に乗せて飛散させ、飛散させた農薬を、送風機の送風口から送出される空気流に乗せて作物を栽培又は貯蔵する施設内に拡散させて散布する農薬の散布方法である。 - 特許庁
The method and the apparatus for washing the filter medium of the solid-liquid separator which has the filter medium consisting of inorganic materials, such as ceramics and metals is characterized in that the surface of the filter medium is washed with gaseous ozone by diffusing the gaseous ozone and bringing it into contact with the surface of the filter medium.例文帳に追加
セラミック、金属等の無機質の材質からなる濾過体を有する固液分離装置において、前記濾過体の濾過面にオゾンを散気、接触させることにより、オゾンガスを用いてその濾過面を洗浄することを特徴とする固液分離装置の濾過面洗浄方法、又は洗浄装置であって、オゾンガスの強力な酸化力によりきょう雑物を酸化分解して、濾過面の目詰まりを有効に防止する。 - 特許庁
A method of forming this semiconductor device includes forming a dummy metal gate layer including work function metals directly on a base insulating film, diffusing the work function metals into the base insulating film by annealing, removing the dummy metal gate layer by wet etching, respectively forming high-permittivity gate insulating films 213, 213 on base insulating films 211, 212, and forming metal gates 214, 215 on the high-permittivity gate insulating films 213.例文帳に追加
半導体装置の形成方法は、仕事関数メタルを含むダミーメタルゲート層をベース絶縁膜の直上に形成することと、アニーリングによって仕事関数メタルをベース絶縁膜中に拡散させることと、ウェットエッチングによってダミーメタルゲート層を除去することと、ベース絶縁膜211、212上に高誘電率ゲート絶縁膜213、213を形成することと、高誘電率ゲート絶縁膜213上にメタルゲート214、215を形成することと、を含む。 - 特許庁
A method of fabricating a raised source/drain CMOS device, includes preparing a silicon substrate; depositing a layer of gate oxide; forming a gate placeholder; forming a raised source/drain region; implanting, activating and diffusing ions in the raised source/drain region to form a source region and a drain region; and replacing the gate placeholder with gate material.例文帳に追加
積み上げソース/ドレインCMOSデバイスを製造する方法は、シリコン基板を準備する工程と、ゲート酸化物層を堆積させる工程と、ゲートプレースホルダーを形成する工程と、積み上げソース/ドレイン領域を形成する工程と、上記積み上げソース/ドレイン領域中でイオンの注入、活性化および拡散を行なって、ソース領域およびドレイン領域を形成する工程と;上記ゲートプレースホルダーとゲート材料とを取り換える工程とを含む。 - 特許庁
A method of diffusing impurities into crystal silicon particles has process of forming silica glass containing impurities for a second conductive semiconductor on the surface of crystal silicon particles by introducing an impurity gas containing oxygen while inputting a great amount of first conductive crystal silicon particles into a diffusion pipe to make stir and process of forming a second conductive silicon layer by making impurities diffuse on the surface of the crystal silicon.例文帳に追加
結晶シリコン粒子への不純物の拡散方法は、拡散管内に多数の第1導電型の結晶シリコン粒子を入れて攪拌させながら酸素を含んだ不純物ガスを導入することによって、結晶シリコン粒子の表面に第2の導電型用の不純物を含有した珪酸ガラスを形成する工程と、結晶シリコン粒子の表面に不純物を拡散させて第2の導電型のシリコン層を形成する工程とを有する。 - 特許庁
The coating liquid forms a coating film for diffusing a phosphor dopant for forming a phosphor diffusion layer on a silicon crystal substrate by the ink jet coating method in a manufacturing process of a crystalline solar cell contains a phosphorus compound and a silicon compound as solutes, and contains an alcohol of which the number of carbon atoms is ≥6 as a solvent in a rate of ≥50 wt.% of the whole solvent amount in the coating liquid.例文帳に追加
結晶系太陽電池の製造工程において、リン拡散層形成用のリンドーパント拡散用塗布膜をインクジェット塗布法によりシリコン結晶基板に形成するための塗布液であり、溶質としてリン化合物およびケイ素化合物を含有し、かつ溶媒として炭素数6以上のアルコールを前記塗布液中の全溶媒量に対して50重量%以上含有することを特徴とするリンドーパント拡散用塗布液により、上記の課題を解決する。 - 特許庁
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