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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > etching processingに関連した英語例文

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etching processingの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1235



例文

ETCHING PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

エッチング処理装置 - 特許庁

ETCHING PROCESSING DEVICE例文帳に追加

エッチング処理装置 - 特許庁

ETCHING PROCESSING METHOD例文帳に追加

エッチング処理方法 - 特許庁

ETCHING PROCESSING APPARATUS AND ETCHING PROCESSING METHOD例文帳に追加

エッチング処理装置およびエッチング処理方法 - 特許庁

例文

PLASMA-ETCHING PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

プラズマエッチング処理装置 - 特許庁


例文

ETCHING PROCESSING METHOD AND ETCHING SYSTEM例文帳に追加

エッチング処理方法及びエッチングシステム - 特許庁

ETCHING PROCESSING METHOD AND ETCHING APPARATUS例文帳に追加

エッチング処理方法及びエッチング装置 - 特許庁

PLASMA ETCHING PROCESSING METHOD例文帳に追加

プラズマエッチング加工方法 - 特許庁

ETCHING DEVICE, ANALYZING DEVICE, ETCHING PROCESSING METHOD, AND ETCHING PROCESSING PROGRAM例文帳に追加

エッチング装置、分析装置、エッチング処理方法、およびエッチング処理プログラム - 特許庁

例文

MONITORING DEVICE FOR ETCHING PROCESSING例文帳に追加

エッチング処理のモニター装置 - 特許庁

例文

COMPOSITION FOR ETCHING AND PROCESSING METHOD FOR ETCHING例文帳に追加

エッチング用組成物及びエッチング処理方法 - 特許庁

DRY ETCHING PROCESSING DEVICE, AND DRY ETCHING METHOD例文帳に追加

ドライエッチング処理装置及びドライエッチング方法 - 特許庁

WASHING PROCESSING METHOD AFTER ETCHING例文帳に追加

エッチング後の洗浄処理法 - 特許庁

DRY ETCHING PROCESSING APPARATUS AND PROCESSING METHOD例文帳に追加

ドライエッチング処理装置および処理方法 - 特許庁

SYSTEM FOR PROCESSING EXHAUST GAS OF DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチング排ガス処理装置 - 特許庁

POST-ETCHING PROCESSING METHOD FOR DIELECTRIC ETCHING PROCESS例文帳に追加

誘電エッチングプロセスのためのエッチング後処理方法 - 特許庁

ETCHING METHOD AND PROCESSING METHOD例文帳に追加

エッチング方法および加工方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING METHOD, ETCHING METHOD, PLASMA PROCESSING DEVICE, AND ETCHING DEVICE例文帳に追加

プラズマ処理方法、エッチング方法、プラズマ処理装置およびエッチング装置 - 特許庁

ETCHING METHOD AND CLEANING PROCESSING METHOD例文帳に追加

腐刻方法、清掃処理方法 - 特許庁

ALKALINE ETCHING SOLUTION PROCESSING APPARATUS AND PROCESSING METHOD例文帳に追加

アルカリエッチング液の処理装置及び処理方法 - 特許庁

SINGLE WAFER PROCESSING ETCHING METHOD AND ETCHING DEVICE FOR WAFER THEREOF例文帳に追加

ウェーハの枚葉式エッチング方法及びそのエッチング装置 - 特許庁

ETCHING AGENT FOR SYNTHETIC TEXTILE MATERIAL AND ETCHING PROCESSING例文帳に追加

合成系繊維材料の抜蝕剤および抜蝕加工方法 - 特許庁

GENERAL POST-ETCHING PROCESSING METHOD FOR DIELECTRIC ETCHING PROCESS例文帳に追加

誘電エッチングプロセスのための総合エッチング後処理方法 - 特許庁

DRY ETCHING APPARATUS AND PROCESSING METHOD OF PROCESSING WORK例文帳に追加

ドライエッチング装置及び被加工物の加工方法 - 特許庁

ETCHING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

エッチング方法及び基板処理装置 - 特許庁

PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING SYSTEM AND PLASMA PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁

SILYLATION PROCESSING METHOD, SILYLATION PROCESSING APPARATUS, AND ETCHING PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

シリル化処理方法、シリル化処理装置およびエッチング処理システム - 特許庁

ETCHING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD例文帳に追加

エッチング装置および基板処理方法 - 特許庁

PROCESSING METHOD AND PLASMA ETCHING METHOD例文帳に追加

処理方法およびプラズマエッチング方法 - 特許庁

WET ETCHING METHOD OF PROCESSING OBJECT SUBSTRATE例文帳に追加

被加工基板の湿式エッチング方法 - 特許庁

ELECTRIC DISCHARGE PROCESSING HEAD FOR CHEMICAL ETCHING SUPPORT SYSTEM例文帳に追加

化学エッチング支援放電加工ヘッド - 特許庁

CIRCULATION THERMOSTATIC WET ETCHING DEVICE AND WET ETCHING PROCESSING TANK例文帳に追加

循環恒温式ウエットエッチング装置及びウエットエッチング処理槽 - 特許庁

METHOD FOR ETCHING SILICON OXIDE, SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND ETCHING DEVICE例文帳に追加

酸化シリコンのエッチング方法、基板処理方法、及びエッチング装置 - 特許庁

ETCHING AGENT FOR SYNTHETIC FIBER MATERIAL, ETCHING PROCESSING METHOD AND ETCHING PROCESSED SYNTHETIC FIBER MATERIAL例文帳に追加

合成系繊維材料の抜蝕剤、抜蝕加工方法及び抜蝕加工合成系繊維材料 - 特許庁

METHOD OF PROCESSING IN ETCHING DIELECTRIC LAYER例文帳に追加

誘電体層をエッチングする処理方法 - 特許庁

METHOD OF ETCHING PROCESSING OF TUNNEL JUNCTION ELEMENT例文帳に追加

トンネル接合素子のエッチング加工方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING METHOD AND PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

プラズマエッチング方法及びプラズマ処理装置 - 特許庁

PLASMA ETCHING PROCESSING APPARATUS, PLASMA ETCHING PROCESSING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

プラズマエッチング処理装置、プラズマエッチング処理方法、および半導体素子製造方法 - 特許庁

ETCHING PROCESSING APPARATUS AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

エッチング処理装置及びエッチング処理方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING DEVICE AND METHOD OF PLASMA ETCHING例文帳に追加

プラズマ処理装置及びプラズマエッチング方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PLASMA ETCHING METHOD例文帳に追加

プラズマ処理装置およびプラズマエッチング方法 - 特許庁

(d) The first etching mask layer 12 is removed by wet etching processing.例文帳に追加

第1エッチングマスク層12をウェットエッチング処理により除去する(d)。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING METHOD AND HIGH-SPEED PLASMA ETCHING APPARATUS例文帳に追加

プラズマ処理方法、高速プラズマエッチング装置 - 特許庁

ETCHING APPARATUS FOR PROCESSING GLASS SUBSTRATE OR WAFER例文帳に追加

ガラス基板またはウエハー処理用エッシング装置 - 特許庁

ETCHING METHOD AND METHOD OF PROCESSING PHOTOMASK BLANK例文帳に追加

エッチング方法及びフォトマスクブランクの加工方法 - 特許庁

ULTRAVIOLET-CURING RESIST COMPOSITION FOR GLASS ETCHING AND GLASS ETCHING PROCESSING METHOD例文帳に追加

ガラスエッチング用紫外線硬化型レジスト組成物及びガラスエッチング処理方法 - 特許庁

To provide an etching processing apparatus and an etching processing method for fine-adjusting the etching process conditions so as to attain a desired finished dimension while suppressing variations in the pattern finish dimensions.例文帳に追加

エッチング処理条件を微調整して、パターン完成寸法のばらつきを押さえつつ所望の完成寸法を得る。 - 特許庁

ETCHING METHOD, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

エッチング方法、プラズマ処理装置及び記憶媒体 - 特許庁

PLASMA PROCESSING SYSTEM FOR DAMAGE-FREE DRY ETCHING OF WAFER例文帳に追加

ダメージのないウェハードライエッチングのプラズマ処理装置 - 特許庁

例文

ETCHING PROCESSING METHOD OF PIEZOELECTRIC WAFER, AND PIEZOELECTRIC DEVICE例文帳に追加

圧電ウエハのエッチング加工方法および圧電デバイス - 特許庁




  
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