「fine pattern formation」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

MASK PATTERN FOR FINE STRUCTURE FORMATION EXPERIMENT例文帳に追加

微細構造形成実験用マスクパターン - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR FINE PATTERN FORMATION AND FINE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

微細パターン形成用樹脂組成物および微細パターン形成方法 - 特許庁

SILICON-CONTAINING COMPOSITION FOR FINE PATTERN FORMATION例文帳に追加

ケイ素含有微細パターン形成用組成物 - 特許庁

Then, the fine pattern is formed by a pattern formation process.例文帳に追加

次に，パターン形成工程より，ファインパターンを形成する。 - 特許庁

FINE PATTERN TRANSFER MATERIAL COMPOSITION AND FORMATION METHOD OF FINE PATTERN例文帳に追加

微細パターン転写材料用組成物および微細パターンの形成方法 - 特許庁

FORMATION METHOD FOR FINE PATTERN OF SEMICONDUCTOR SURFACE例文帳に追加

半導体表面の微細パターン形成方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING FINE PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING METAL SHEET FOR FORMATION OF FINE PATTERN例文帳に追加

微細パターン形成方法及び微細パターン形成金属シートの製造方法 - 特許庁

ELECTRONIC DEVICE AND FORMATION METHOD OF FINE WIDTH PATTERN例文帳に追加

電子デバイス及び微細幅パターンの形成方法 - 特許庁

FORMATION METHOD FOR HARD MASK PATTERN OF FINE PITCH, AND FORMATION METHOD FOR FINE PATTERN OF SEMICONDUCTOR ELEMENT USING IT例文帳に追加

微細ピッチのハードマスクパターンの形成方法及びそれを用いた半導体素子の微細パターン形成方法 - 特許庁

FINE PATTERN FORMATION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING FINE-PITCH HARD MASK例文帳に追加

微細ピッチのハードマスクを用いた半導体素子の微細パターン形成方法 - 特許庁

To provide a pattern formation method and a pattern formation body that are suitable to formation of a fine and uniform pattern.例文帳に追加

微細かつ均一なパターンの形成に好適なパターン形成方法およびパターン形成体を提供することを目的とする。 - 特許庁

PRODUCTION OF METAL OXIDE AND FORMATION OF FINE PATTERN例文帳に追加

金属酸化物の製造方法及び微細パターンの形成方法 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of easily forming a fine pattern, and a pattern formation device and a template manufacturing method.例文帳に追加

微細パターンを簡便に形成できるパターン形成方法、パターン形成装置、及びテンプレート作製方法を提供する。 - 特許庁

FORMATION METHOD OF WATER-SOLUBLE RESIN FILM AND FORMATION METHOD OF FINE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

水溶性樹脂被覆の形成方法およびこれを用いた微細パターンの形成方法 - 特許庁

To provide a fine pattern formation method for semiconductor elements.例文帳に追加

本発明は半導体素子の微細パターン形成方法を開示する。 - 特許庁

To provide a pattern formation substrate where a fine pattern with a desired aspect ratio, especially, a fine pattern with a large aspect ratio is formed, and a pattern forming method.例文帳に追加

所要のアスペクト比の微細なパターン、特にアスペクト比が大きい微細なパターンを形成を有するパターン形成基板及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, a mold for imprint, and a pattern formed body which are suitable for formation of a fine pattern.例文帳に追加

微細なパターンの形成に好適なパターン形成方法、インプリント用モールド、およびパターン形成体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for pattern formation that can form a pattern which renders the dimension of a trench pattern or a hole pattern, effectively fine, without producing any scum.例文帳に追加

トレンチパターンやホールパターンの寸法を実効的に微細化したパターンをスカムを発生させずに形成する方法の提供。 - 特許庁

To provide a formation method of a hard mask pattern of fine pitch by which pattern formation of fine pitch exceeding the resolution limit in a photo lithography process can be achieved.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程での解像限界を超える微細ピッチのパターン形成を実現可能とする、微細ピッチのハードマスクパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

After the formation of the fine pattern, the auxiliary material 12 is separated from the material 14.例文帳に追加

微細パターンの形成後、被加工材１４から補助材１２を分離させる。 - 特許庁

To simultaneously form a fine line pattern and a thick line pattern using an enhancer mask capable of performing simultaneous formation of a fine isolated line pattern and a dense line pattern.例文帳に追加

微細な孤立ラインパターン及び密集ラインパターンの同時形成が可能なエンハンサマスクを用いて微細ラインパターンと大きいラインパターンとを同時に形成できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for fine pattern formation for suppressing the film thickness of a crosslinked film and causing no development defect in a method of effectively microfabricating a fine resist pattern by using a fine pattern forming material.例文帳に追加

微細パターン形成材料を用いて実効的にレジストパターンを微細化する方法において、架橋膜膜厚を抑え、尚且つ現像欠陥がない微細パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern formation method which facilitates formation of minute ejection ports that eject liquid droplets, and formation of a fine pattern composed of liquid droplets, and to provide a liquid droplet ejector.例文帳に追加

液滴を吐出する吐出口の微細化を容易にして、液滴からなるパターンの微細化を容易にさせたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

To realize formation of a fine pattern or production of a thin plate shaped pattern by a simple process without using a costly photomask, when forming the fine pattern on a substrate or producing the thin plate shaped pattern structure.例文帳に追加

基体上に微細パターン形成し、あるいは薄い板状パターン構造を製作する際に、高価なフォトマスクを使用せずに簡単なプロセスでそれらの製作を実現する。 - 特許庁

To form accurately a desired fine width pattern without depending upon the roughness and fineness of pattern distribution irrespective of an extraction or remnant pattern with respect to a formation method of an electron device and a fine width pattern.例文帳に追加

電子デバイス及び微細幅パターンの形成方法に関し、抜きパターンや残しパターンのいずれの場合もパターン分布の粗密に依存せずに所望の微細幅パターンを精度良く形成する。 - 特許庁

To provide a resist for fine pattern formation excellent in both sensitivity and resolution.例文帳に追加

感度、解像性ともに優れた、微細パターン形成用レジストの提供を目的とする。 - 特許庁

FORMATION MATERIAL OF ORIGINAL PLATE FOR FINE PATTERN TRANSFER, ORIGINAL PLATE FOR TRANSFER, AND METHOD FOR MAKING THE SAME例文帳に追加

微細パターン転写用原版の形成材料、転写用原版及びその作製方法 - 特許庁

FORMATION METHOD OF FINE PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加

微細パターンの形成方法及びこれを用いた半導体発光素子の製造方法 - 特許庁

CARBON NANOTUBE GATE FIELD-EFFECT TRANSISTOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND FINE-PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

カーボンナノチューブゲート電界効果トランジスタとその製造方法、及び微細パターン形成方法 - 特許庁

To provide a fine pattern of high development contrast in pattern formation using extreme ultraviolet rays as exposure light.例文帳に追加

露光光に極紫外線を用いるパターン形成において、現像コントラストが高い微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁

To provide a formation method of a fine pattern capable of further improving CD uniformity of a fine pattern having a pitch smaller than a resolution limit.例文帳に追加

解像限界以下のピッチを持つ微細パターンのＣＤ均一性を、より良好にできる微細パターンの形成方法を提供すること - 特許庁

To provide a method of forming a fine pattern in a semiconductor device, which enables the formation of a narrow pattern by preventing the deformation of a photoresist pattern for ArF.例文帳に追加

ArF用フォトレジストパターンの変形を抑え、狭いパターンの形成が可能な半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a water-soluble pattern forming material not dissolving a base resist for achieving formation of a fine separation resist pattern allowing formation of a pattern beyond wavelength limit in micronization of a separation pattern and a hole pattern.例文帳に追加

分離パターン、ホールパターンの微細化において、波長限界を超えるパターン形成を可能とする微細分離レジストパターン形成を実現する、下地レジストを溶解しない水溶性のパターン形成材料を提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer wiring board manufacturing method whereby fine pattern formation is enabled and problems are solved concerning a decrease in value and the delamination of the formed wiring pattern.例文帳に追加

ファインパターンの形成を可能とし、形成された配線パターンの目減りや剥離等の問題を解消する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of processing a fine pattern having a high aspect ratio, a plurality of level difference structures, etc.例文帳に追加

高アスペクト比、複数の段差構造などを有する微細パターンの加工が可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a color filter capable of enhancing a pattern formation limit, and capable of forming a further fine pattern.例文帳に追加

パターン形成限界が向上し、より微細なパターンの形成が可能となるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern in a way that a fine pattern on an HSQ film is maintained even at a high temperature and a pattern formation object having the fine pattern fabricated in a way that it is maintained event at a high temperature.例文帳に追加

ＨＳＱ膜上の微細パターンが高温度でも維持されるようにするパターン形成方法、および高温度でも維持されるように微細パターンが形成されたパターン形成体を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition suitable for use in fine pattern formation with an electron beam or extreme-ultraviolet radiation.例文帳に追加

電子線、極紫外線による微細パターン形成に好適なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a wiring board which secures fine interlayer connection as well as the formation of a fine wiring pattern, and which is highly reliable.例文帳に追加

確実に微細な層間接続でき、微細な配線パターンを形成でき、且つ信頼性の高い多層配線板を提供する。 - 特許庁

To provide a formation method of a fine pattern which can improve uniformity of a pattern finer than the limit of exposure resolution.例文帳に追加

露光解像度の限界より微細なパターンの均一性を改善することができる微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To ensure superior adhesiveness to a substrate in pattern formation by development and to obtain a good fine pattern of a heat resistant resin.例文帳に追加

現像時のパターン形成において基板との優れた接着性が得られ、耐熱性樹脂の良好な微細パターンを得る。 - 特許庁

To provide a pattern formation method using double patterning capable of obtaining a fine pattern having a good shape.例文帳に追加

良好な形状を有する微細なパターンを得ることのできるダブルパターニングを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an element formation method and interconnection formation method, which allows easy and accurate positioning, even if the pattern is a fine pattern or has high aspect ratio.例文帳に追加

微細なパターンやアスペクト比の高いパターンであっても、簡便かつ高精度に位置合わせを行うことが可能な素子形成方法および配線形成方法を提供する。 - 特許庁

To mainly provide a charge application body which enables pattern formation of a fine structure and a fine pattern molding in a semiconductor surface in a simple process.例文帳に追加

本発明は、半導体表面に簡易なプロセスで、微細な構造のパターン形成が可能な電荷付与体、および微細なパターン形成体を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for the formation of a pattern onto a panel substrate, where a process is simple and a fine pattern is formed with satisfactory accuracy.例文帳に追加

工程が簡単で、しかも微細パターン形成の精度も良い、パネル基材へのパターン形成方法及び装置を提供する。 - 特許庁