「grating method」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

This reflection type optical signal processing circuit by spectrum filtering method using an arrayed waveguide grating composed of an arrayed waveguide 103 and a slab waveguide 104 is characterized in having a function as a spatial filter 105 capable of modulating an optical signal by affording ruggedness on the focus plane of the slab waveguide 104 for image-forming incident light.例文帳に追加

アレイ導波路１０３とスラブ導波路１０４からなるアレイ導波路格子を用いたスペクトルフィルタリングによる反射型の光信号処理回路において、入射光を結像させる前記スラブ導波路１０４の焦点面に凹凸を設けることで、光信号を変調させることのできる空間フィルタ１０５としての機能を有することを特徴とする。 - 特許庁

In another method, the plural refractive index change parts 4 are formed inside the core part 3 by converging a beam diameter of an ion beam formed by accelerated ions below a width of the refractive index change part 4 for constituting the grating G, and intermittently irradiating the ion beam with shifting an irradiation position to a center axis direction to implant the ions into the core part 3.例文帳に追加

また、他の方法として、加速されたイオンにより形成されるイオンビームのビーム径を、グレーティングＧを構成すべき屈折率変化部４の幅以下に収束させ、光ファイバ１の中心軸方向に照射位置を移動しつつイオンビームを断続的に照射してイオンをコア部３内に注入することにより、コア部３内に当該屈折率変化部４を複数形成する。 - 特許庁

To provide a method for electron-beam lithography by which the increase of a dose is prevented even if when plotting is carried out in the minimum dose stationary time and a low dose region required for a grating, etc., with a three-dimensional structure is satisfactorily formed without the restrictions of plotting patterns to be plotted, and to provide a base material plotted by the same and electron beam lithographic equipment.例文帳に追加

本発明は、描画することのできる描画パターンの制限がなく、最低ドーズ停滞時間にて描画を行なったとしてもドーズ量の増大を防止し、３次元構造の回折格子などに必要とされる低ドーズ領域を良好に形成することができる電子ビーム描画方法及びその方法にて描画された基材並びに電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

The wafer processing method includes the stages of sticking the adhesive film 3 to the reverse surface of a wafer W in a specified sticking direction by using a sticking device while moving the wafer W in one direction, and cutting and dividing the wafer W on which the adhesive film 3 is stuck in a grating shape into a plurality of chips C with adhesive films 3 by using a cutting device 20.例文帳に追加

本発明のウェハ加工方法は，貼付装置を用いて，ウェハＷを一方向に移動させながら，ウェハＷの裏面に接着フィルム３を所定の貼付方向で貼り付ける貼付工程と；切削装置２０を用いて，接着フィルム３が貼り付けられたウェハＷを格子状に切断して，複数の接着フィルム３付きチップＣに分割する切断工程と；を含む。 - 特許庁

A method for changing the refractive index of a Bragg fiber grating includes a step of exposing an element made of germanium silicate glass to a laser radiation; and the laser radiation is selected from a group of a radiation that an argon laser emits, a third higher harmonic of a radiation of a neodymium laser, a radiation of a nitrogen laser, a radiation of a Krypton laser, and a helium laser and has a wavelength from 333 to 364 nm.例文帳に追加

ブラッグファイバー格子の屈折率変更方法は、ケイ酸ゲルマニウムガラスから形成した素子をレーザー放射にさらす工程を含み、当該レーザー放射を、アルゴンレーザーが発する放射、ネオジムレーザーの放射の第３高調波、窒素レーザーの放射、クリプトンレーザーの放射、及びヘリウム−カドミウムレーザーの放射からなる群より選び、当該放射の波長を３３３〜３６４ｎｍの範囲とする。 - 特許庁

A hologram element 306a provided in the optical integrated unit having the tracking error detecting function by three beam method is sectioned into first and second regions 601 and 602 having diffraction directions in a direction that the sub-beams 202, 202b are separated, and diffraction grating patterns using respectively one side and the other side of a circular columns being symmetry respect to a boundary line 603 are provided in respective regions.例文帳に追加

３ビーム法によるトラッキング誤差検出機能を有する光集積ユニットに設けられるホログラム素子３０６ａは、サブビーム２０２ａ、２０２ｂが離間する方向に、回折方向が異なる第１領域６０１、第２領域６０２に区分され、各領域には境界線６０３に関して対称な円弧列のそれぞれ一方及び他方を用いた回折格子パタンが設けられる。 - 特許庁

In this method for forming the grating in a core by performing a process for irradiating the core of an optical waveguide component 5 with exposure light rays 2 to irradiate the core with interference fringes 4 one or more times, the irradiation position of the interference fringes 4 irradiated at the second time is moved by the integral multiple of the period of the interference fringes 4 from the interference fringes 4 irradiated at the first time.例文帳に追加

本発明は、露光用光２を光導波路部品５のコアに照射し、このコアに干渉縞４を照射する工程を１回以上行い、コアにグレーティングを形成するグレーティングの形成方法であって、１回目に照射された干渉縞４に対して、２回目に照射する干渉縞４の照射位置を、干渉縞４の周期の整数倍移動する構成とする。 - 特許庁

This is a method to move particles 10 by using a device furnished with a substrate 4, a waveguide 2 and a diffraction grating 6 formed on this waveguide, light having wavelength λ is introduced to the inside of the waveguide; and the light transmitted through the waveguide is diffracted toward a medium 14 with the particles arranged on it and having an index of refraction (nsuper).例文帳に追加

本発明は、下層（４）と導波路（２）とこの導波路上に形成された回折格子（６）とを具備してなるデバイスを使用して粒子（１０）を移動させるための方法に関するものであって、−波長（λ）を有した光を、導波路内へと導入し；−導波路を通して伝達された光を、粒子が配置されているとともに屈折率（ｎｓｕｐｅｒ）を有した媒質（１４）に向けて、回折させる。 - 特許庁

To manufacture a reliable polarized light separating element whose final quality has little variance in a method for manufacturing a polarized light separating element equipped with an optical anisotropic membrane having a rugged diffraction grating on an optical transparent base plate by sticking the optical anisotropic membrane on an optical transparent base plate wafer and cutting and dividing the optical transparent base plate into several.例文帳に追加

光学的透明基板上に凹凸状の回折格子を有する光学的異方性膜を備える偏光分離素子を、光学的透明基板ウェハー上に光学的異方性膜を接着し光学的透明基板を複数に切り分けることにより作製する偏光分離素子の作製方法において、最終的な偏光分離素子の品質のばらつきが小さく、信頼性の高い偏光分離素子を作製できるようにする。 - 特許庁

Further, the method of forming the optical waveguide 10 includes: forming the first waveguide core 20 on the surface of the first cladding layer 15; forming the long period grating 30 that is perpendicular to a surface of the first cladding layer 15 on the first waveguide core 20; and forming the second cladding layer 35 on the first cladding layer 15 so as to cover the first waveguide core 20.例文帳に追加

また、第一のクラッド層１５の表面上に第一の導波路コア２０を形成する工程と、前記第一のクラッド層１５の表面に対して垂直な長周期グレーティング３０を前記第一の導波路コア２０に形成する工程と、前記第一の導波路コア２０を覆うように前記第一のクラッド層１５上に第二のクラッド層３５を形成する工程と、を有する光導波路１０を形成する方法を提供する。 - 特許庁

The recognition device is provided with a reflecting position deriving device 12 for obtaining the three-dimensional spatial position information of reflection points of plural spot beams by a diffraction grating method and a related information deriving means 14 for defining plural planes including these detected reflection points, finding out respective normal vectors corresponding to these planes and finding out a vector most orthogonal to these normal vectors as a pipe axis candidate vector.例文帳に追加

回折格子手法により、複数のスポット光の反射点の３次元空間位置情報を得る反射位置導出手段１２を備えるとともに、検出される複数の反射点に関して、これらの反射点を含む複数の平面を定義するとともに、複数の平面に対する法線ベクトルを夫々もとめ、これらの法線ベクトルに対して最も直交するベクトルを管軸候補ベクトルとして求める関連情報導出手段１４を備える。 - 特許庁