「insulating-layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

The multilayer charge storing layer consists of a tunnel insulating film, a trap insulating film and a blocking insulating film which are successively laminated.例文帳に追加

多層電荷貯蔵層は順次に積層されたトンネル絶縁膜、トラップ絶縁膜およびブロッキング絶縁膜で構成される。 - 特許庁

The opening of the insulating case 1 is packed with insulating resin, and an insulating resin layer 6 is formed on the back side of the circuit board.例文帳に追加

絶縁ケース１の開口部に絶縁樹脂を充填して回路基板の裏面側に絶縁樹脂層６を形成する。 - 特許庁

The conductor layer is brought into contact with the interlayer resin insulating layer across the roughening layer, so that conductor layer and interlayer resin insulating layer never peel off each other, even under the heat cycle conditions and high temperature, high pressure, and high humidity conditions.例文帳に追加

また、導体層は粗化層を介して層間樹脂絶縁層と密着するため、ヒートサイクル条件や高温、高圧、高湿度条件でも導体層と層間樹脂絶縁層との剥離が生じない。 - 特許庁

Since the conductor layer is closely in contact with the interlayer resin insulating layer via the roughened layer, exfoliation between the conductor layer and the interlayer resin insulating layer is not generated under heat cycle condition and high temperature, high pressure and high humidity condition.例文帳に追加

また、導体層は粗化層を介して層間樹脂絶縁層と密着するため、ヒートサイクル条件や高温、高圧、高湿度条件でも導体層と層間樹脂絶縁層との剥離が生じない。 - 特許庁

FINFET is formed over an SOI (Silicon On Insulator) substrate composed of a substrate layer 1S, a buried insulating layer BOX (Buried Oxide) formed over the substrate layer 1S, and a silicon layer formed over the buried insulating layer BOX.例文帳に追加

基板層１Ｓと、基板層１Ｓ上に形成された埋め込み絶縁層ＢＯＸと、埋め込み絶縁層ＢＯＸ上に形成されたシリコン層からなるＳＯＩ基板上にＦＩＮＦＥＴが形成されている。 - 特許庁

The substrate 10 for the suspension comprises a metal substrate 1, an insulating layer 2 formed on the metal substrate 1, a wiring layer 3 formed on the insulating layer 2, and a cover layer 4 covering the wiring layer 3.例文帳に追加

サスペンション用基板１０は金属基板１と、金属基板１に上形成された絶縁層２と、絶縁層２上に形成された配線層３と、配線層３を覆うカバー層４とを備えている。 - 特許庁

Subsequently, an insulating layer is formed on the channel layer CL and the epitaxial layer EL, and then part of the insulating layer is eliminated to form side wall spacers (SWS) on side walls of the epitaxial layer EL.例文帳に追加

次いで、チャネル層ＣＬ上およびエピタキシャル層ＥＬ上に絶縁膜を形成した後、その絶縁膜の一部を除去し、エピタキシャル層ＥＬの側壁に側壁スペーサＳＷＳを形成する。 - 特許庁

At first, an effective layer is formed on a substrate, a gate insulating layer having a center area, a shield area and an extension area defined on the surface is formed on the effective layer, and a gate layer is formed on the gate insulating layer.例文帳に追加

まず基板上に有効層を形成し、有効層上に、表面上にセンターエリア、遮蔽エリア、延伸エリアが定義されたゲート絶縁層を形成し、そのゲート絶縁層上にゲート層を形成する。 - 特許庁

The semiconductor element S comprises a semiconductor layer 20 opposing a gate electrode 12 while sandwiching an insulating layer 14, and a characteristics control layer 22 interposed between the insulating layer 14 and the semiconductor layer 20.例文帳に追加

半導体素子Ｓは、絶縁層１４を挟んでゲート電極１２に対向する半導体層２０と、絶縁層１４と半導体層２０との間に介在する特性制御層２２とを有する。 - 特許庁

CONSTRUCTION METHOD FOR HEAT INSULATING LAYER, AND CONSTRUCTION EQUIPMENT FOR USE IN IT例文帳に追加

断熱層施工方法とその方法に用いる施工装置 - 特許庁

Lastly, the insulating film 37 is flattened by inter-layer CMP.例文帳に追加

最後に、層間ＣＭＰによって、絶縁膜３７を平坦化する。 - 特許庁

An insulating layer 15 is an anode oxide film of the lower electrode 11.例文帳に追加

絶縁層１５は、下電極１１の陽極酸化膜である。 - 特許庁

INSULATING LAYER, ELECTRONIC DEVICE, FIELD EFFECT TRANSISTOR, AND POLYVINYLTHIOPHENOL例文帳に追加

絶縁層、電子デバイス、電界効果トランジスタ及びポリビニルチオフェノール - 特許庁

FORMATION METHOD OF INSULATING LAYER, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

絶縁層の形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

INSULATING LAYER WITH PROTECTIVE FILM AND METHOD FOR PRODUCING WIRING BOARD例文帳に追加

保護フィルム付き絶縁層並びに配線基板の製造方法 - 特許庁

The insulating layer 2 has an arithmetic surface roughness of ≤100 nm.例文帳に追加

絶縁層２の算術表面粗さが１００ｎｍ以下である。 - 特許庁

Then, an opening 5 is formed at the first insulating layer 3a.例文帳に追加

次に、第１絶縁層３ａに開口部５が形成される。 - 特許庁

SEPARATOR WITH HEAT-RESISTANT INSULATING LAYER, AND NONAQUEOUS ELECTROLYTE SECONDARY BATTERY例文帳に追加

耐熱絶縁層付きセパレータ及び非水電解質二次電池 - 特許庁

A first single-crystal semiconductor layer is disposed over an insulating substrate.例文帳に追加

絶縁基板に第１の単結晶半導体層を配置する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING TUNNELING INSULATING LAYER OF NONVOLATILE MEMORY DEVICE例文帳に追加

不揮発性メモリ素子のトンネリング絶縁膜を形成する方法 - 特許庁

The groove portions 105 are formed until reaching an insulating layer 101.例文帳に追加

溝部１０５は、絶縁層１０１に到達するまで形成する。 - 特許庁

HEAT-INSULATING LAYER FORMING MATERIAL FOR TENT AND TENT THEREWITH例文帳に追加

テント用の断熱層形成材及び断熱層を有するテント - 特許庁

The gate insulating film 5 is formed on the channel layer 3a.例文帳に追加

チャネル層３ａの上にはゲート絶縁膜５が形成される。 - 特許庁

A glass layer 1 is formed on the formed insulating resin 3.例文帳に追加

形成した絶縁樹脂３の上にガラス層１を形成した。 - 特許庁

Amorphous fluorine plastic is employed for the gate insulating layer 3.例文帳に追加

ゲート絶縁層３としては、アモルファスフッ素樹脂が用いられる。 - 特許庁

The second gate insulating layer functions as a so-called back gate.例文帳に追加

第２のゲート電極層は、所謂バックゲートとして機能する。 - 特許庁

A lower layer wiring 12 is formed in an interlayer insulating film 10.例文帳に追加

層間絶縁膜１０内に下層配線１２が形成される。 - 特許庁

DRAINAGE JOINT BACKUP MATERIAL FOR HEAT-INSULATING COMPOSITE PANEL WITH VENTILATION LAYER例文帳に追加

通気層付き断熱複合パネル用の排水目地バックアップ材 - 特許庁

In this method, an insulating layer GI is formed on the surface of a semiconductor substrate S.例文帳に追加

半導体基板Sの表面に、絶縁層GIを形成する。 - 特許庁

The base insulating layer 41 is bent along a bent portion B1.例文帳に追加

ベース絶縁層４１は、折曲部Ｂ１に沿って折曲される。 - 特許庁

The reflection layer 7 is optionally formed on a gate insulating film 13.例文帳に追加

反射層７は、ゲート絶縁膜１３上に形成してもよい。 - 特許庁

Further, the coil component has an insulating layer 3 covering the side conductors 2a.例文帳に追加

またその側部導体２ａを覆う絶縁層３を有する。 - 特許庁

A conductor pattern 10b is formed on an insulating layer 10a.例文帳に追加

絶縁層１０ａ上に導体パターン１０ｂを形成する。 - 特許庁

A base insulating layer 2 is formed on the metal substrate 1.例文帳に追加

金属基板１上には、ベース絶縁層２が形成されている。 - 特許庁

MULTI-LAYER FILM AND VACUUM HEAT INSULATING STRUCTURE USING THIS例文帳に追加

多層フィルムおよびこれを用いてなる真空断熱構造体 - 特許庁

This insulating paperboard contains at least one layer of cellulose fibers.例文帳に追加

絶縁板紙は、セルロース繊維の少なくとも１つの層を含む。 - 特許庁

Lastly, the support substrate 11 is peeled from the insulating layer 1.例文帳に追加

最後に、絶縁層１から支持基板１１が引き剥がされる。 - 特許庁

The first insulating layer 4 is set to 5 or lower in relative permittivity ε.例文帳に追加

第１の絶縁層４は、誘電率εを５以下とする。 - 特許庁

A thermally insulating layer (15) is formed between the substrate (11) and the pattern (12).例文帳に追加

上記基板（11）とパターン（12）との間に熱絶縁層（15）を設ける。 - 特許庁

ADHESIVE FILM FOR INTERLAYER INSULATING LAYER AND MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

層間絶縁層用接着フィルム及び多層プリント配線板 - 特許庁

A first insulating layer 3a is formed on a cathode electrode 2.例文帳に追加

カソード電極２上に第１絶縁層３ａが形成される。 - 特許庁

In the semi-insulating semiconductor embedded layer, Fe is doped.例文帳に追加

半絶縁性半導体埋込層には、Ｆｅがドープされている。 - 特許庁

An unevenness 5 is formed on the surface of the cover insulating layer 4.例文帳に追加

カバー絶縁体層４の表面に凹凸５が形成される。 - 特許庁

The electronic parts have the heat-resistant coating film or a heat-resistant insulating pattern as a surface protective layer or an interlayer insulating layer.例文帳に追加

前記の耐熱性塗膜または耐熱性絶縁パターンを表面保護層または層間絶縁層として有する電子部品。 - 特許庁

The electronic parts have the above heat-resistant coating film or a heat-resistant insulating pattern as a surface protective layer or an interlayer insulating layer.例文帳に追加

前記の耐熱性塗膜または耐熱性絶縁パターンを表面保護層または層間絶縁層として有する電子部品。 - 特許庁