| 意味 | 例文 |
mBarを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 19件
Suitable deposition temperature for lanthanum oxide is between 160 and 165°C when the deposition temperature is between 1 and 2 mbar.例文帳に追加
酸化ランタンの適切な堆積温度は、堆積圧力が1ミリバールから2ミリバールの間であるとき160℃から165℃の間である。 - 特許庁
Suitable deposition temperatures for yttrium oxide are between 200 to 400°C when the deposition pressure is between 1 and 2 mbar.例文帳に追加
酸化イットリウムの適切な堆積温度は、堆積圧力が1ミリバールから2ミリバールの間であるとき200℃から400℃の間である。 - 特許庁
In this method, freeze-dried protein is reconstituted in a container in which the gas pressure is kept between 1 mbar and the atmospheric pressure.例文帳に追加
この方法は、凍結乾燥タンパク質の再構成を、気体圧力が1mbarと大気圧との間である容器中で行うことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a structure for a combination pump of small size, enabling pumping to be performed from 1,000 mbar down to 10^-8 mbar normally required in some kinds of industries, and suitable for being integrated into vicinity of a vacuum enclosure or a processing chamber.例文帳に追加
真空エンクロージャまたは処理チャンバのすぐ近傍に統合することが可能になるように充分小型であり、また、常圧(1000mbar)から、ある種の工業で通常必要となる高度真空(10^−8mbar)へとポンピングする能力がある複合ポンプ用の新規の構造物を考案すること。 - 特許庁
Moreover, the cleaning structure can be equipped with a gas shutter constituted to adjust a flow of the gas including the hydrogen radical to at least the part of the module, a buffer volume of at least 1 m^3 communicating with the module, and a pump constituted to provide a gas pressure between 0.001 mbar (0.1 Pa) to 1 mbar (100 Pa) to the buffer volume.例文帳に追加
また、浄化構造は、モジュールの少なくとも一部への水素ラジカル含有ガスの流れを調整するように構成されたガスシャッタと、モジュールと連通している少なくとも1m^3のバッファ体積と、バッファ体積に0.001mbar(0.1Pa)と1mbar(100Pa)の間のガス圧力を提供するように構成されたポンプとを備えることができる。 - 特許庁
When the thermal storage medium cannot be heated at a temperature of not lower than its melting point, the emulsification of the emulsion is preferably conducted under a pressure of ≥1,013 mbar in a pressure-resistant sealed vessel.例文帳に追加
蓄熱材の融点以上に加熱できない場合は乳化液を、耐圧性の密閉容器内で1013mbar以上の加圧条件下において乳化を行うことが好ましい。 - 特許庁
Product-sum operation of γ1-γ8 of a form of "(K×M)+(L×Mbar)" is performed with the use of a selector for selecting and outputting either the bit K or L according to the logical value of the bit M.例文帳に追加
「(K・M)+(L・Mbar)」なる形式からなるγ1〜γ8の積和演算を、ビットMの論理値に基づいて、ビットKもしくはLのいずれかを選択して出力するセレクタを用いて実行する。 - 特許庁
To perform stable fuel supply all the time and to prevent misjudgement by equipment regarding fuel pressure by reducing decrease in fuel supply pressure to not greater than 300 mbar in the fuel supply system of a diesel engine.例文帳に追加
ディーゼルエンジンの燃料供給系統で燃料供給圧の低下を300mbar以下に減らし、常に安定した燃料供給を行うと共に燃料圧に係る機器の誤判断を防止する。 - 特許庁
The product-sum operation of y1-y6 consisting of a form of "(K+M)+(L×Mbar)" is executed by using a selector which selects and outputs either of a bit K or L based on a logic value of a bit M.例文帳に追加
「(K・M)+(L・Mbar)」なる形式からなるγ1〜γ6の積和演算を、ビットMの論理値に基づいて、ビットKもしくはLのいずれかを選択して出力するセレクタを用いて実行する。 - 特許庁
In a process (E), a silicon wafer 24 and a silicon wafer 38 are properly positioned and temporarily fixed, and a voltage is applied under pressure between both wafers 24, 38 in the atmospheric pressure of 10-3 mbar or less and at the temperature of 300°C or more.例文帳に追加
工程(E)でシリコンウエハ24とシリコンウエハ38の位置合わせをして仮固定し、雰囲気を10^^-3mbar以下に、温度を300度以上にして、両ウエハ間に加圧しながら電圧を印加する。 - 特許庁
It is desirable that a vacuum degree in the vacuum chamber is higher for removing the minute air bubbles, but the vacuum degree of the vacuum chamber is desirable to be about 1×10^-3 mBar when a relation of output gas from epoxy resin 3 and throughput is considered.例文帳に追加
ここで、真空チャンバー内の真空度が高い程、微小気泡の除去には好ましいが、エポキシ樹脂3からの出ガスやスループットの関係を考慮すると、真空チャンバーの真空度は1×10^−3mBar程度が好ましい。 - 特許庁
A (cold) filling pressure of a filler gas is at least 35 mbar (35 hpa), and the filling pressure is fixed such that an impulse voltage generated in an inductance (12) when an internal temperature-sensitive switch (15) is opened is 1,200 V.例文帳に追加
封入ガスの(冷)封入圧が少なくとも35mbar(35hPa)であり、封入圧は、内部温度感応形スイッチ(15)の開放の際に生ずる前記インダクタンス(12)において発生するインパルス電圧がせいぜい1200Vであるように定められる。 - 特許庁
When a silicon single crystal is pulled up under a hydrogen partial pressure of less than 3 mbar by a Czochralski method, a cooled heat shield is arranged around the single crystal to cool the single crystal using the shield.例文帳に追加
シリコン単結晶体を、チョクラルスキー法により3ミリバール未満の水素部分圧で引き上げるとともに、このとき同時に冷却した熱シールドを単結晶体の周囲に配置し、該単結晶体を熱シールドを用いて冷却する。 - 特許庁
To provide a low-cost vacuum pump comprising a single part, having a compact structure, and occupying only a small area in the vacuum pump to cover the whole pressure range from the atmospheric pressure to the high vacuum of approximately 10^-4 mbar.例文帳に追加
大気圧から約10^-4mbarの高真空に至るまでの全圧力範囲を包含する真空ポンプであって、ポンプが1つの部分からなり、コンパクトな構造を有し、低コストであり、且つ占有床面積の小さい前記真空ポンプを提供する。 - 特許庁
To provide a vacuum pump to cover the whole pressure range from the atmospheric pressure to the high vacuum up to above 10-4 mbar comprising one body, with compact structure, low cost, and small occupied floor area.例文帳に追加
大気圧から約10^-4mbarの高真空に至るまでの全圧力範囲を包含する真空ポンプであって、ポンプが1つの部分からなり、コンパクトな構造を有し、低コストであり、且つ占有床面積の小さい前記真空ポンプを開発する。 - 特許庁
By elevating successively the pressure in the space to the environmental pressure of the atmosphere or an excess pressure in a range of 20-80 mbar, intended lympha stream to a filter member and carrying-out of the metabolism residual products are generated.例文帳に追加
大気の環境圧力又は20−80mbarの範囲にある過圧に空間内の圧力をそれに続いて上昇することによって、フィルタ部材への意図したリンパ流、及び新陳代謝残留生成物の搬出が発生される。 - 特許庁
The manufacturing method comprises controlling a CVD process in such a manner that pressure below 2.0 mBar and methane concentration below 2% can be attained, thereby forming the diamond electrode having a single and uniform layer composed of polyacrystalline diamond of <1 μm grain size and exhibiting Raman quality exceeding 50%.例文帳に追加
CVD工程を20mBar未満の圧力および2%未満のメタン濃度になるように制御することにより、粒子サイズが1μm未満の多結晶ダイヤモンドからなる単一で均一な層を有し、50%を超えるラマン品質を示すダイヤモンド電極を形成する。 - 特許庁
In the container containing the freeze-dried protein, the gas pressure between 1 mbar and the atmospheric pressure is set by introducing air or an inert gas, and water in an amount for the purpose of injection and required to dissolve protein is added.例文帳に追加
凍結乾燥タンパク質を含有する容器において、気体圧力が本発明に従って必要とされる1mbarと大気圧との間にある気体圧力は、空気または不活性ガスを導入することによって設定され、そしてタンパク質を溶解するために必要とされる注射の目的のための量の水が添加される。 - 特許庁
This method for conditioning the DMC catalyst comprises dispersing the DMC catalyst in a starting solvent containing an addition product of an alkylene oxide to the starter compound having an OH value of about 5 to 500 mgKOH/g and a Zerewitinoff active hydrogen atom, under a pressure of about 1 mbar to about 10 bar at a temperature of about 0°C to about 80°C for about 5 minutes to about 4 hours.例文帳に追加
DMC触媒のコンディショニング方法であって、該DMC触媒を、約5〜約500mgKOH/gのOH価を有し、およびツェレビチノフ活性水素原子を有するスターター化合物とアルキレンオキシドとの付加生成物等を含む出発媒体中に、約1mbar〜約10barの圧力下、約0℃〜約80℃の温度にて、約5分〜約4時間分散させることを含む、方法。 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|