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「memory B-cell」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索


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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > memory B-cellの意味・解説 > memory B-cellに関連した英語例文

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memory B-cellの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 64



例文

The cell word lines WL0 to WL31 are fine-processed up to the limit of the exposure processes of an exposing apparatus, denoting distance between lines as "A" and width of line as "B", for example, in the NAND memory unit MU.例文帳に追加

たとえば、NAND型メモリユニットMUにおいて、セルワードラインWL0〜WL31は、ライン間距離を“A”、ライン幅を“B”とし、露光装置の露光限界まで微細加工されている。 - 特許庁

When a copy command is provided, a page's worth of data is read from a block A in the memory cell and is stored in a page buffer, and the stored page's worth of data is written in a block B.例文帳に追加

copyコマンドが与えられると、メモリセルのブロックAより1ページ分のデータを読み出して,ページバッファへ格納され、格納された1ページ分のデータをブロックBに書き込む。 - 特許庁

The nonvolatile semiconductor memory comprises a memory cell array region 210 where a plurality of memory cells 100, having two MONO memory cells 108A and 108B controlled by a word gate 104 and control gates 106A and 106B, are arranged in directions A and B, and fist and second select regions 220 and 222.例文帳に追加

不揮発性半導体記憶装置は、ワードゲート104とコントロールゲート106A,106Bにより制御される2つのMONOSメモリセル108A,108Bを有するメモリセル100を、方向A,Bにそれぞれ複数配列してなるメモリセルアレイ領域210と、第1,第2の選択領域220,222とを有する。 - 特許庁

A memory cell 20 which has a data memory element, a first switch having a first port (A) used for accessing the data memory element during read or write processing and a second switch having a second port (B) used for accessing the data memory element during the read or write processing is provided.例文帳に追加

上記課題は、データ記憶素子と、読み出し又は書き込み処理中に前記データ記憶素子をアクセスする為に用いられる第一のポート(A)を有する第一のスイッチと、読み出し又は書き込み処理中に前記データ記憶素子をアクセスする為に用いられる第二のポート(B)を有する第二のスイッチとを有するメモリセル20により解決される。 - 特許庁

例文

As shown in the cross-sectional diagram 1 (b), a bit line BLUn comprises extension parts 16A and 16N extending in the column direction along the memory cells 10, and a contact plug 14 connected to an access transistor of each memory cell (not shown in the Fig.) formed in an Si substrate 15.例文帳に追加

図1(b)の断面図に示すように、ビット線BLUnは、メモリセル群10に沿って列方向に延びる延伸部16Aおよび16Bと、Si基板15に形成された各メモリセルのアクセストランジスタ(不図示)に接続されたコンタクトプラグ14とを有している。 - 特許庁


例文

Next, a difference between the first and the second output voltages (A, B) in the prescribed input voltage is read out in the first and the second input/output characteristics, stability and asymmetry of the SRAM transistors constituting the SRAM memory cell are determined.例文帳に追加

次に、第1および第2の入出力特性において、所定の入力電圧における第1および第2の出力電圧の差(A,B)を読み出し、SRAMメモリセルを構成するSRAMトランジスタの安定性と非対称性を判断する。 - 特許庁

The memory medium comprising a cell capable of recording three or more types of multi-values with a principle of (a) only a Meissner effect or (b) the Meissner effect and a tunnel effect of the electron only by a single (1) or by a combination of (1) and (2) is formed.例文帳に追加

(1)のみの単独による、又は、(1)及び(2)の組合せによる、(a)マイスナー効果のみ、又は、(b)マイスナー効果及び電子のトンネル効果の両者を原理とする、3種類以上の多値を記録できる素子から構成される、メモリー媒体を作成する。 - 特許庁

In the semiconductor device having a memory cell capacity 40 and the antifuse 20A, the antifuse 20A has at least two or more insulating elements A and B which are formed simultaneously with the capacity 40 and electrically connected in series.例文帳に追加

メモリセル容量40及びアンチヒューズ20Aを有する半導体装置において、前記アンチヒューズは、前記メモリセル容量と同時に形成され電気的に直列に配置された少なくとも2つ以上の絶縁素子A,Bを有している。 - 特許庁

The main amplifier 22 practices the differential amplification of the data of one side output parts (nodes (a) and (c)) of the preamplifiers 20 and 21 and the main amplifier 23 practices the differential amplification of the data of the other side output parts (nodes (b) and (d)) to detect and amplify data in the designated memory cell.例文帳に追加

メインアンプ22はプリアンプ20、21の一方の出力部(ノードa,c)のデータを、メインアンプ23はプリアンプ20、21の他方の出力部(ノードb,d)のデータをそれぞれ差動増幅し、指定されたメモリセルにおけるデータの検出、増幅を行う。 - 特許庁

例文

Also, the sense amplifier 40 is provided with a data latch circuit A 45 and a data latch circuit B 46 holding respectively and independently data of a memory cell MC amplified by the amplifier 40 and connected to two different word line WL or returning held data to the sense amplifier 40 again.例文帳に追加

また、センスアンプ40には、同アンプ40によって増幅された異なる2本のワード線WLに接続されたメモリセルMCのデータを各々独立に保持し、あるいはそれら保持したデータをセンスアンプ40に再び戻すデータラッチ回路(A)45及びデータラッチ回路(B)46が備えられている。 - 特許庁

例文

A control gate portion (b) has a floating gate 7b which is formed in an N well layer 23 formed in a P-type semiconductor layer common to the memory cell portion (a) and capacity-coupled to the N well layer 23 via the gate oxide film 6b.例文帳に追加

コントロールゲート部bは、メモリセル部aと共通のP型の半導体層内に形成されるNウェル層23内に形成され、ゲート酸化膜6bを介してNウェル層23に容量結合されるフローティングゲート7bを備える。 - 特許庁

Data is written to the floating gate 6a by turning the memory cell (a) on by controlling the potential of the floating gate 6c, and data is erased through the floating gate 6b by turning the data erasing section (b) on by controlling the potential of the floating gate 6c.例文帳に追加

フローティングゲート6cの電位を制御してメモリセルaをオンにすることにより、フローティングゲート6aにデータを書き込み、フローティングゲート6cの電位を制御してデータ消去部bをオンにすることにより、フローティングゲート6bを通じてデータを消去する。 - 特許庁

In a peripheral circuit region B (other than a memory cell region A, in which several memory cells having the transistor 3 and capacitor 8 are included), a second insulation layer 9, which is formed at the same time as the columnar insulation member 8a of the capacitor 8 and is identical with the columnar insulation member 8a which are equal in height and material, is provided.例文帳に追加

MOSトランジスタ3とキャパシタ8とを有するメモリセルを複数含むメモリセル領域A以外の周辺回路領域Bには、第1絶縁層5上に、キャパシタ8の柱状絶縁部材8aと同時に形成され同等の高さを持ち同一の絶縁材料からなる第2絶縁層9が設けられている。 - 特許庁

例文

In an asteroid curve represented by a bit line magnetic field H_x generated by a write bit line current I_B and a word line magnetic field H_y generated by a write word line current I_W, manufacturing variations and a design margin are taken into consideration to assume an asteroid curve AC_out outside all memory cell asteroid curves (located with a hatched area of Figure).例文帳に追加

書込ビット線電流I_Bにより発生するビット線磁界H_xと書込ワード線電流I_Wにより発生するワード線磁界H_yとにより表されるアステロイド曲線において、製造ばらつきと設計マージンを考慮し、全メモリセルのアステロイド曲線(図中ハッチング領域内に収まる)よりも外側にアステロイド曲線AC_outを想定する。 - 特許庁

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