「microfabricating」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of electrode for secondary battery, capable of easily microfabricating an electrode active material.例文帳に追加

電極活物質を容易に微細化することができる二次電池用電極の製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce the width of an element isolation layer but ensure the depth of the element isolation layer in microfabricating a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の微細化に際して、素子分離層の幅を縮小しながらも、その深さを確保する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive positive composition having a resolution capable of microfabricating a subquarter micron pattern and high sensitivity.例文帳に追加

サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁

To form a favorable line pattern when microfabricating width dimensions of a line and a space using a sidewall imprint technology.例文帳に追加

側壁転写技術を用いてライン及びスペースの各幅寸法を微細化した場合に、良好なラインパターンを形成する。 - 特許庁

To effectively improve light condensation efficiency of a solid imaging element by microfabricating the element and solving accompanying elicited problem points about an in-layer lens.例文帳に追加

素子の微細化と共に顕在化する層内レンズの問題点を解消し、固体撮像素子の集光効率を効果的に改善する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave control element capable of efficiently controlling propagation characteristics of an electromagnetic wave by utilizing structure formed by microfabricating a metal material.例文帳に追加

金属材料を微細加工した構造体を利用して、効率的に電磁波の伝搬特性を制御することができる電磁波制御素子を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device having high-breakdown voltage and high quality transistor characteristics by stabilizing a trench shape and microfabricating the trench.例文帳に追加

トレンチ形状の安定化、トレンチの微細化を図ることにより、高耐圧・高品位なトランジスタ特性を有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A microchip 2 is obtained by microfabricating TFTs and elements for pixels on a silicon wafer by the IC process which enables dense formation and then dividing the TFTs and elements into a prescribed form.例文帳に追加

マイクロチップ２は、凝集形成が可能なＩＣプロセスによってシリコンウェハ上に微小に形成された画素用ＴＦＴや素子を所定形状に分割して得る。 - 特許庁

To provide a wiring board that satisfies characteristics required for a wiring board such as strength, low thermal expansion coefficient, or the like by microfabricating the arrangement pitch of conductive through holes formed in the wiring board.例文帳に追加

配線基板に形成される導通スルーホールの配置ピッチを微細化し、配線基板に要請される強度、低熱膨張係数等の特性を満足する配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for fine pattern formation for suppressing the film thickness of a crosslinked film and causing no development defect in a method of effectively microfabricating a fine resist pattern by using a fine pattern forming material.例文帳に追加

微細パターン形成材料を用いて実効的にレジストパターンを微細化する方法において、架橋膜膜厚を抑え、尚且つ現像欠陥がない微細パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device having a large margin for a misaligned masks and capable of microfabricating element regions other than a memory element region, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

フォトリソグラフィでのマスクの合わせズレに対するマージンが大きく、メモリ素子以外の他の素子領域を微細化することが可能な半導体装置の製造方法及び、半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a piezoelectric film element capable of microfabricating a piezoelectric film layer in a short time by wet etching and selectively stopping microfabrication in a lower electrode layer.例文帳に追加

ウェットエッチングにより圧電膜層を短時間で微細加工することを可能とし、下部電極層において選択的に加工を停止することを可能とした圧電膜素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a substrate with a built-in semiconductor device capable of microfabricating the interval of connection terminals which electrically connects a semiconductor integrated circuit included in a semiconductor device with a wiring pattern (re-wiring).例文帳に追加

半導体装置の有する半導体集積回路と配線パターン（再配線）とを電気的に接続する接続端子の間隔の微細化が可能な半導体装置内蔵基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical filter which attains the optical properties close to those of the conventional multilayer film filter by microfabricating a substrate to allow the transmitted light to have a refractive index distribution and which has high reliability.例文帳に追加

基板に微細加工を施し、透過光に対する屈折率分布を構築することによって、従来の多層膜フィルタに近い光学特性を実現し、高い信頼性を有する光学フィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a long life of a probe pin capable of microfabricating easily the probe pin, and capable of selecting optionally an abrasion-resistant metal such as nickel and tungsten to provide a fine contact head of high abrasion resistance.例文帳に追加

本発明はプローブピンの微細化が容易に達成でき、ニッケルやタングステン等の耐摩耗性金属を任意に選択して微細で且つ接触ヘッドの高耐摩耗性を併有する長寿命のプローブピンを提供する。 - 特許庁

To provide a printed wiring board which is capable of coping with requests for increasing the density of and microfabricating wiring patterns and for sure mounting of minute components.例文帳に追加

本発明は配線パターンの高密度化・微細化の要求及び微小な部品の確実な実装に応えることができるとともに製造コストの大幅な低減を図ることができるプリント配線基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a solid-state imaging apparatus that minimizes influences of attenuation and diffraction of light even if wiring is present in a path of light, and also improves sensitivity and prevents color mixing while microfabricating pixels.例文帳に追加

光の経路に配線が存在する場合でも、光の減衰や回折の影響を最小限に留め、画素の微細化を図ると同時に感度の向上、混色の防止を図ることのできる固体撮像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a microfabrication processing agent capable of selectively microfabricating a high permittivity film only and a microfabrication processing method using the same when a substrate is microfabricated where the high permittivity film and a silicone oxide film are laminated.例文帳に追加

高誘電率膜及びシリコン酸化膜が積層された基板を微細加工する際に、高誘電率膜のみを選択的に微細加工することが可能な微細加工処理剤及びそれを用いた微細加工処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a core substrate where wiring density is improved by microfabricating a wiring pattern of signal lines, etc. to be formed in a wiring layer in a built-up high-density printed board, and to provide a high-density printed board using the core substrate.例文帳に追加

ビルドアップ高密度プリント配線板において、配線層内に形成する信号線等の配線パターンを微細化することが可能となり、配線密度が向上するコア基板、及びそれを用いた高密度プリント配線板を提供することである。 - 特許庁

To provide an etching method, a polishing method and a fabricating method of silicon carbide capable of etching and polishing the surface of silicon carbide, microfabricating and removing silicon carbide efficiently under low temperature conditions of several hundreds degree.例文帳に追加

数百度程度の低温条件において、炭化珪素表面のエッチング及び研磨や炭化珪素の微細加工及び除去を容易に且つ効率良く行うことができる、炭化珪素のエッチング方法、研磨方法及び加工方法を提供すること。 - 特許庁

The microfabricating method for inverting and transferring the uneven pattern of the substrate to a product to be processed by pressing the substrate to the surface of the product to be processed has a process of determining the conditions for processing by pressing the substrate to the product to be processed.例文帳に追加

原版を被加工物の表面に押し付けることにより、該被加工物に前記原板の凹凸のパターンを反転させて転写する微細加工方法は、前記被加工物に前記原版を押し付けることにより加工のための条件を決定する工程を有する。 - 特許庁

The manufacturing method for nano composite material includes at least microfabricating base material at least by blending the base material and nano fine grain with average grain size of 1-500 nm, and implementing mutual high dispersion of the microfabricated base material and the nano fine grain.例文帳に追加

少なくとも、母材、及び平均粒径１〜５００ｎｍのナノ微粒子を混合することにより、少なくとも前記母材を微細化し、且つ、当該微細化した母材及び前記ナノ微粒子が互いに高分散したナノ複合材料を製造することを特徴とする、ナノ複合材料の製造方法。 - 特許庁

Thus, by microfabricating the TFTs or the like for pixels to be mounted on the substrate on the silicon wafer by the IC process which enables dense formation, a large size device for the film forming process is made unnecessary and the energy relating to the production by the large size device is significantly decreased.例文帳に追加

こうして、上記基板に搭載する画素用ＴＦＴ等を、凝集形成が可能なＩＣプロセスによってシリコンウェハに微小に形成することによって、大型の成膜プロセス装置を不必要にし、上記大型の装置による生産に関わるエネルギーを大幅に削減する。 - 特許庁

To provide a magnetic transfer master body which maintains vertical symmetry of magnetic transfer waveform without changing L/S ratio of a magnetic pattern when microfabricating the magnetic transfer body, to provide a magnetic transfer unit thereof, magnetic recording medium manufactured by using the magnetic transfer unit, and magnetic recording system using the magnetic recording medium.例文帳に追加

磁気転写マスタ体の微細加工時における磁気パターンのＬ／Ｓ比を変えずに磁気転写波形の上下対称性を維持できる磁気転写マスタ体、磁気転写装置、この磁気転写装置を用いてつくられる磁気記録媒体、およびこの磁気記録媒体を用いた磁気記録装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In microfabricating the resist pattern by contracting the intervals of the photoresist pattern by disposing the water soluble resin coating on the photoresist pattern formed on the substrate surface, subsequently heat treating it and thoroughly removing the water soluble resin, a water soluble polymer and a water soluble amine is introduced into the water soluble resin coating.例文帳に追加

基板表面に形成したホトレジストパターン上に水溶性樹脂被覆を設けたのち、熱処理することによりホトレジストパターン間隔を収縮させ、次いで前記水溶性樹脂を完全に除去してレジストパターンを微細化するに当り、前記水溶性樹脂被覆中に水溶性ポリマー及び水溶性アミンを含有させる。 - 特許庁