「n process」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

wait [n] Wait for the specified process and return its termination status. 例文帳に追加

wait [n]指定されたプロセスを wait し、その終了ステータスを返します。 - JM

PROCESS FOR PRODUCING N-ALKYL-tert-BUTYLAMINE例文帳に追加

Ｎ−アルキル−ｔｅｒｔ−ブチルアミンの製造法 - 特許庁

PROCESS FOR PRODUCING FREE-STANDING III-N LAYER, AND FREE-STANDING III-N SUBSTRATE例文帳に追加

自立ＩＩＩ−Ｎ層の製造方法および自立ＩＩＩ−Ｎ基板 - 特許庁

PROCESS FOR PRODUCING D-N-CARBAMOYL-ALPHA-AMINO ACIDS例文帳に追加

Ｄ−Ｎ−カルバモイル−α−アミノ酸の製造法 - 特許庁

If n specifies a non-existent process or job, the return status is 127. 例文帳に追加

nが存在しないプロセスやジョブを指定している場合、返却ステータスは 127 になります。 - JM

To provide a simpler process for preparing N-benzylamine.例文帳に追加

Ｎ−ベンジルアミンのより簡易な製法を提供すること。 - 特許庁

The voltage-to-current conversion circuit includes a high-voltage manufacturing process N-type MOS field-effect transistor, a low-voltage manufacturing process N-type MOS field-effect transistor, a low-voltage manufacturing process amplifier, and an electric resistance.例文帳に追加

電圧電流転換回路は高電圧製造工程N型MOS電界効果トランジスター、低電圧製造工程N型MOS電界効果トランジスター、低電圧製造工程増幅器、電気抵抗を提供する。 - 特許庁

The opening 18a of the exhaust duct 18 is provided between the process cartridge N and the fixing means I.例文帳に追加

排気ダクト18の開口18a は、プロセスカートリッジN と定着手段I の間に設けられている。 - 特許庁

If you do not plan to start a new process instance, keep the default N/A value. Name. 例文帳に追加

新しいプロセスのインスタンスを開始しない場合は、デフォルトの「 N/A 」の値にしておきます。 - NetBeans

An interpolation/contour process circuit 220 processes a signal in block units of n×m (N>n, M>m), and the image data after the size conversion is subjected to the format process by the circuit 220.例文帳に追加

サイズ変換後の画像データはｎ×ｍ（Ｎ＞ｎ，Ｍ＞ｍ）のブロック単位で信号処理する補間／輪郭処理回路２２０でフォーマット処理される。 - 特許庁

To a problem of n-th Markov process, when n is unknown, the learning is performed by combining prediction models of m-th Markov process (provided n>m) with one another.例文帳に追加

ｎ次マルコフ過程の問題に対して、ｎが未知であるとき、ｍ次マルコフ過程の予測モデル（但し、ｎ＞ｍ）を組み合わせることで、学習を行なう。 - 特許庁

An n-type impurity region is formed in an n^- epitaxial layer 2 by implanting ions into the n^- epitaxial layer 2 (the first process).例文帳に追加

ｎ^-エピタキシャル層２にイオン注入し、ｎ^-エピタキシャル層２内にｎ型不純物領域を形成する（第１工程）。 - 特許庁

METHOD FOR CARRYING OUT BATCH BACK EXTRACTION OF ACTINOID ION OF 3 OR 4 VALENCY IN SEPARATION PROCESS SOLVENT INTO HIGH-CONCENTRATION NITRIC ACID SOLUTION BY N, N, N', N'-TETRAETHYL GLYCOL AMIDE例文帳に追加

Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルジグリコールアミドにより分離プロセス溶媒中の３，４のアクチノイドイオンを高濃度の硝酸溶液に一括逆抽出する方法 - 特許庁

In this process, F_1, F_2<F≤F_3 when the pressure of transferring is expressed by F, N_1, N_2<N≤N_3 when the number of motor steps is expressed by N.例文帳に追加

この工程では、転写圧Ｆは、Ｆ_1 ，Ｆ_2 ＜Ｆ≦Ｆ_3 ，モータステップ数Ｎは、Ｎ_1 ，Ｎ_2 ＜Ｎ≦Ｎ_3 である。 - 特許庁

PROCESS FOR PREPARATION OF N-1 PROTECTED N RING NITROGEN-CONTAINING CYCLIC POLYAMINE AND PRODUCT THEREOF例文帳に追加

Ｎ−１保護したＮ環窒素含有環式ポリアミンの調製のためのプロセスおよびその生成物 - 特許庁

PROCESS FOR PREPARING N,N'-DIMETHYLPERYLENE-3,4,9,10- TETRACARBOXYLIC DIIMIDE IN TRANSPARENT PIGMENT FORM例文帳に追加

透明顔料形態としてのＮ，Ｎ’—ジメチルペリレン—３，４，９，１０—テトラカルボン酸ジイミドを調製する方法 - 特許庁

W(C, N)-WB-BASED COMPOUND MATERIAL AND ITS FORMING PROCESS例文帳に追加

Ｗ（Ｃ，Ｎ）−ＷＢ系複合体及びその製造方法 - 特許庁

To provide a method which includes a process of receiving N pieces of input streams.例文帳に追加

方法は、Ｎ個の入力ストリームを受け取る工程を含む。 - 特許庁

A first process difference between a resist dimension by a lithographic process and a process dimension by a dry etching process is calculated in a N-gate portion.例文帳に追加

Ｎ型ゲート部に対して、リソグラフィ工程によるレジスト寸法とドライエッチ工程による加工寸法との第１の加工差を算出する。 - 特許庁

To provide an industrially suitable method for producing a 4-N-sustituted aminoterahydropyrane from the corresponding 4-(N-arylmethyl-N-substituted) aminotetrahydropyran in high yield under mild conditions by a simple process.例文帳に追加

本発明の課題は、温和な条件下、簡便な方法によって、4-(N-アリールメチル-N-置換)アミノテトラヒドロピランから、4-N-置換アミノテトラヒドロピランを高収率で製造できる、工業的に好適な4-N-置換アミノテトラヒドロピランの製法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a new process for producing an N-((N-methyl-N-((2-isopropyl-4-thyazolyl)methyl)amino)carbonyl)-amino acid derivative.例文帳に追加

新規なＮ−（（Ｎ−メチル−Ｎ−（（２−イソプロピル−４−チアゾリル）メチル）アミノ）カルボニル）−アミノ酸誘導体の製造方法の提供。 - 特許庁

After the second process, n^+ impurity regions 3 and 5 are formed at regions overlapped with the n-type impurity region by implanting ions into the n-type impurity region in the n^- epitaxial layer 2 (the third process).例文帳に追加

第２工程後、ｎ^-エピタキシャル層２におけるｎ型不純物領域にイオン注入し、ｎ型不純物領域と重なる領域にｎ^+不純物領域３および５を形成する（第３工程）。 - 特許庁

After the first process, the n^- epitaxial layer 2 is annealed at a temperature of 1,200°C or more and a melting point of the n^- epitaxial layer 2 or less (the second process).例文帳に追加

第１工程後、１２００℃以上ｎ^-エピタキシャル層２の融点以下の温度でｎ^-エピタキシャル層２をアニールする（第２工程）。 - 特許庁

After the third process, the n^- epitaxial layer 2 is annealed at a temperature of 1,200°C or more and a melting point of the n^- epitaxial layer 2 or less (the fourth process).例文帳に追加

第３工程後、１２００℃以上ｎ^-エピタキシャル層２の融点以下の温度でｎ^-エピタキシャル層２をアニールする（第４工程）。 - 特許庁

To provide a novel and efficient production process for N,N'-di- substituted naphthalenediimide.例文帳に追加

Ｎ，Ｎ’−ジ置換−ナフタレンジイミドを収率良く得ることが可能な新規な製造方法を提供すること。 - 特許庁

PROCESS FOR PRODUCING N-PYRROLIDONE GRAFT POLYMER COMPOSITION AND N-PYRROLIDONE GRAFT POLYMER COMPOSITION例文帳に追加

Ｎ−ピロリドン系グラフト重合体組成物の製造方法及びＮ−ピロリドン系グラフト重合体組成物 - 特許庁

To provide a method for producing N,N',N"-trihydroxyisocyanuric acid from easily available inexpensive raw materials simply in a short process.例文帳に追加

入手しやすい安価な原料から短い工程で簡易にＮ，Ｎ′，Ｎ″−トリヒドロキシイソシアヌル酸を製造できる方法を提供する。 - 特許庁

The process comprises a reaction of an N-phenoxycarbonyl-L-valine with an N-methyl-N-((2-isopropyl-4-thyazolyl)methyl)amine at room temperature in THF.例文帳に追加

Ｎ−フェノキシカルボニル−Ｌ−バリンとＮ−メチル−Ｎ−（（２−イソプロピル−４−チアゾリル）メチル）アミンをＴＨＦ中で室温にて反応させる。 - 特許庁

The picture coding method including an N×N two-dimensional DCT, quantizing of the DCT coefficient and coding of the quantized DCT coefficient uses a DCT coefficient quantizing method, such that the input to a quantizing process takes a value of the DCT coefficient multiplied by N, and the DCT coefficient multiplied by N is quantized.例文帳に追加

N×Nの２次元DCTと、DCT係数の量子化と、量子化DCT係数の符号化とを含む画像符号化方法において、量子化処理への入力がDCT係数をN倍した値であり、N倍のDCT係数を対象として量子化処理を行うこと特徴とするDCT係数の量子化方法を用いる。 - 特許庁

To provide a display device which can process the video signal of n+k bits per pixel by using a data driving part capable of decoding the video signal of n bits per pixel.例文帳に追加

一画素当たりnビットの映像信号が解読可能なデータ駆動部を用いて一画素当たりn＋kビットの映像信号を処理可能なディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁

In the case the objective grain size is defined as n (μm) (where, 1≤n≤5), in the first process, the mixed powder is pulverized preferably into a grain size distribution of n/10 to n (μm).例文帳に追加

目的粒子径をｎ（μｍ）（ただし、１≦ｎ≦５）としたとき、第１工程において、混合した粉末を、ｎ／１０〜ｎ（μｍ）の粒度分布に粉砕するとよい。 - 特許庁

To provide a reactor and a reaction process, in each of which a toxic chemical substance containing one or more of N,N-dimethylformamide, acrylonitrile and acetonitrile can surely be decomposed economically.例文帳に追加

N,N-ジメチルホルムアミド、アクリロニトリル、アセトニトリルの１種以上を含む有害化学物質の分解反応について、確実かつ経済的な反応器と反応プロセスを提供する。 - 特許庁

Calculational display coordinates (m, n)-(m+1, n+1) of display points are determined by a rendering process of a display pattern, and coordinates (x, y) of a display dot to be actually displayed are determined.例文帳に追加

まず、表示パターンのレンダリング処理によって計算上の表示点の表示座標(m,n)〜(m+1,n+1)を求めると共に、実際に表示すべき表示ドットの座標(x,y)を求める。 - 特許庁

The picture decoding method including decoding the quantized DCT coefficient, inverse quantizing of the decoded quantized DCT coefficient and the N×N two-dimensional inverse DCT uses an inverse quantizing-inverse DCT method, such that the output of an inverse quantizing process takes a DCT coefficient multiplied by N, and rules are defined for restoring a DCT coefficient at a specified accuracy from the DCT coefficient multiplied by N in the reserve DCT process.例文帳に追加

また、量子化DCT係数の復号と、復号量子化DCT係数の逆量子化と、N×Nの２次元逆DCTとを含む画像復号方法において、逆量子化処理の出力がN倍のDCT係数であり、逆DCT処理にてN倍のDCT係数を規定精度のDCT係数に復元する規則が定義されていることを特徴とする逆量子化・逆DCT方法を用いる。 - 特許庁

Then, similarly, grating 20i (i=2-N) is subsequently manufactured by the hydrogen addition process 1, grating formation process and heating process.例文帳に追加

以降同様に、水素添加工程、グレーティング形成工程および加熱工程によりグレーティング２０_i（ｉ＝２〜Ｎ）を順次に作製する。 - 特許庁

To provide a process for preparation of N-1 protected N ring nitrogen-containing cyclic polyamines, and products thereof.例文帳に追加

Ｎ−１保護したＮ環窒素含有環式ポリアミンの調製のためのプロセスおよびその生成物の提供。 - 特許庁

To provide an efficient production process for a natural type N-acetyl- D-glucosamine that is usable as a food product.例文帳に追加

食品として利用可能な天然型N−アセチル−D−グルコサミンを効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁

To easily understandably display a process of determining a solution of an n order polynomial.例文帳に追加

ｎ次多項式の解を求める課程を分かり易く表示させること。 - 特許庁

PREPARATION PROCESS OF TETRA N-BUTYL AMMONIUM BROMIDE HYDRATE BASED HEAT ACCUMULATOR SLURRY例文帳に追加

臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム水和物系蓄熱材スラリーの製造方法 - 特許庁

A control unit 11 of the processor includes n process controllers 21.例文帳に追加

本発明のプロセッサの制御ユニット１１は，ｎ個のプロセスコントローラ２１を含む。 - 特許庁

A debugging control means 12, 22 of each node 1, 2-1 to 2-n collects process information executed on its own node, and stores it into a process information storage part 141, 241.例文帳に追加

各ノード1,2-1〜2-nのデバッグ制御手段12,22は、自ノード上で実行されるプロセスのプロセス情報を収集し、プロセス情報記憶部141,241に格納する。 - 特許庁

M×n characters of a character number necessary for the priority order are extracted from a character string analysis result by a kanji Index production process 106, and are two-dimensionally arranged in m rows n columns to produce the kanji Index.例文帳に追加

文字列解析結果から漢字Index生成プロセス１０６により優先順に必要な文字数m×n文字を抽出し，m行n列に２次元に配置して漢字Indexを作成する。 - 特許庁

The method for forming frozen noodle comprises a charging process of charging boiled-up noodle N into a container C, a vibration process of vibrating the container C charged with the noodle N, a freezing process of freezing the noodle N while charged in the container C, and a taking-out process of taking out the noodle N frozen in the freezing process from the container C.例文帳に追加

茹で上げ麺Ｎを、容器Ｃに投入する投入工程と、前記麺Ｎが投入された前記容器Ｃを振動させる振動工程と、前記容器Ｃに投入された状態で前記麺Ｎを冷凍する冷凍工程と、前記冷凍工程において冷凍された前記麺Ｎを前記容器Ｃから取り出す取り出し工程とを含む。 - 特許庁

N+ type embedded layers (6A and 6B) are formed while being superimposed on an N-type well area 2B and the bottom of an N-type collector layer 4 by the same process.例文帳に追加

Ｎ＋型埋め込み層（６Ａ、６Ｂ）は、同一工程にてＮ型ウエル領域２Ｂ及びＮ型コレクタ層４の底部に重畳して形成される。 - 特許庁

The process for producing free-standing III-N layer comprises depositing at least one first III-N layer 15 by means of molecular beam epitaxy on an Li(Al, Ga)O_x substrate 7, where 1≤x≤3.例文帳に追加

Li(Al, Ga)O_X基板（１≦ｘ≦３）７上に、分子線エピタキシ法により少なくとも１つの第一のIII-N層１５を堆積させる工程を備える。 - 特許庁