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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > nanometer processに関連した英語例文

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nanometer processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 21



例文

To accurately process a micro machining in the order of nanometer.例文帳に追加

ナノメートルオーダーの微細加工を正確に行う。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a metal pattern of a nanometer scale to a one-dimensional or two-dimensional pattern by a single low-temperature process.例文帳に追加

単一の低温プロセスで一次元または二次元パターンへのナノメータースケールの金属パターンの製造のためのプロセスを提供する。 - 特許庁

To obtain a thermoplastic resin composition having nanoparticles with a fullerene skeleton dispersed on a nanometer order by a simple process.例文帳に追加

簡便なプロセスによって、フラーレン骨格を有するナノ粒子がナノメートルオーダーで分散した熱可塑性樹脂組成物を得る。 - 特許庁

To provide a process for producing a ceramic porous body which consists of an inorganic skeleton and is provided with a pore structure having nanometer-scale pore size.例文帳に追加

無機骨格からなるナノメートルスケールの細孔構造を有するセラミックス多孔体を低温で製造する方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a polymer composition for forming a nanometer order fine pattern, and to provide a process for performing a fine processing with the polymer composition.例文帳に追加

ナノオーダーの微細パターンを形成する重合体組成物及び該重合体組成物により微細加工を行う工程を提供する。 - 特許庁


例文

To provide a method excellent in throughput of a process, capable of forming a porous structure with a fair regularity in nanometer order.例文帳に追加

工程のスループットに優れ、かなりの規則性をもったナノメーターオーダーの多孔質構造体を非常に簡便に形成できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of very simply manufacturing a porous structure of the order of nanometer with excellent throughput of a process.例文帳に追加

工程のスループットに優れ、ナノメーターオーダーの多孔質構造体を非常に簡便に形成できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film which has a finely rugged structure of a micrometer order or a nanometer order easily and efficiently given by a simple process and finds application in various fields and its manufacturing process.例文帳に追加

マイクロメートルオーダー、ナノメートルオーダーの微細凹凸構造が簡便な工程で効率よく得られ、種々の分野に使用可能な微細凹凸構造を有する薄膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an organic supramolecule pattern with a dimension of a nanometer or less using self-assembly of organic supramolecules and ultraviolet etching process.例文帳に追加

有機超分子の自己集合及びUVエッチングを用いて数ナノメートル以下の有機超分子パターンを形成する方法を提供することにある。 - 特許庁

例文

To provide a stable three-dimensional microfabrication method in the precision of a nanometer order without using a complicated chemical machining process such as lithography and also without being accompanied with the generation of heat as shown in conventional laser beam machining.例文帳に追加

リソグラフィーのような複雑で化学的な加工プロセスを使用することなく、且つ従来のレーザー加工に見られた熱の発生を伴わないナノメートルオーダー精度の、かつ安定した3次元微細加工方法を提供する。 - 特許庁

例文

Next, a structure shown in figure (e) is obtained by carrying out a deposition process of depositing silicon microcrystal as fine particles of a nanometer size by a PCVD method.例文帳に追加

次に、PCVD法によりナノメータサイズの微粒子であるシリコン微結晶を導電性基板の主表面側に堆積させる堆積工程を行うことで図1(e)に示す構造を得る。 - 特許庁

To reduce driving voltage, and to reduce electric power consumption by forming a hole of nanometer size in the first place in a manufacturing process of a semiconductor element, and increasing the aspect ratio of an emitter by forming the emitter in the hole.例文帳に追加

半導体素子の製造工程でナノメートルサイズのホールをまず形成し、ホール内にエミッタを形成してエミッタのアスペクト比を増加させることにより、駆動電圧を低めて消費電力を低減すること。 - 特許庁

To provide a method determining alignment in polymer liquid crystal by a simple one-stage process and controlling alignment in a nanometer scale.例文帳に追加

高分子液晶における配向を簡単な1段階プロセスによって定められるうえ、ナノメートルスケールにおける配向制御が可能となる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mesoporous inorganic material which has pores of nanometer sizes and a hexagonal structure with pores arranged with three dimensional high regularity and a process to manufacture the mesoporous inorganic material rapidly with high reproducibility.例文帳に追加

ナノメートルサイズの孔径を有し、細孔配列が三次元高規則性を有するヘキサゴナル構造のメソポーラス無機材料と、そのメソポーラス無機材料を迅速に製造するとともに、かつ、高い再現性を有するメソポーラス無機材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method, patterning is directly applied to the organic thin film formed on a substrate, based on a mask having micro apertures with a scale of micron to nanometer by a dry etching process or vacuum ultraviolet radiation.例文帳に追加

ミクロンからナノメータースケールの微細開口を有するマスクをもとに、基板上に形成された有機物薄膜をドライエッチングプロセスまたは真空紫外光照射により直接パターニングを行なうことを特徴とする有機薄膜の製造方法とそれによる有機薄膜。 - 特許庁

After catalyst metal particles of a nanometer size are formed as separated on a substrate by an etching process (step 30), high purity carbon nanotubes perpendicularly arranged on the substrate are grown by a thermochemical vapor phase vapor deposition method using a carbon source gas (step 40).例文帳に追加

蝕刻工程を用いて基板上に分離されたナノサイズの触媒金属粒子を形成した(30段階)後、カーボンソースガスを用いた熱化学気相蒸着法で基板に垂直整列された高純度のカーボンナノチューブを成長させる(40段階)。 - 特許庁

To provide a manufacturing process for an acrylate resin composition, capable of giving the acrylate resin composition in which an organized phyllosilicate is dispersed finely in a nanometer size and which has an excellent transparency and also is imparted with flame retardancy, and the like.例文帳に追加

有機化層状珪酸塩がナノメートルサイズで微分散され、優れた透明性を有するとともに、難燃性等の特性が付与されたアクリル酸エステル系樹脂組成物を得ることができるアクリル酸エステル系樹脂組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method for flattening a ceramic substrate by using a porous material matching the requirement for the adhesion strength of a film layer in the succeeding process, a buffer layer (2) and a porous nanometer structural layer (10) are formed on the substrate (30).例文帳に追加

後続の膜層付着力の要求に符合する多孔性材料を利用したセラミック基板の平坦化方法において、基板(30)の上に順にバッファ層(20)及び多孔ナノメータ構造層(10)を形成することを特徴とする、多孔性材料を利用したセラミック基板の平坦化方法としている。 - 特許庁

Its manufacturing method includes a film forming process of forming a hydrophobic polymer film 5 by blending a hydrophobic polymer material with the inorganic filler of nanometer size, a molding process of forming the thermosetting resin composition by blending a thermosetting resin material with a hardening agent and molding it to form the thermosetting resin composition, and an absolute contact process of forming the hydrophobic polymer film on the surface of the thermosetting resin composition.例文帳に追加

その製造方法は、疎水性高分子材料にナノメートルサイズの無機充填材を配合して疎水性高分子皮膜を形成する皮膜形成工程と、熱硬化性樹脂の原料に硬化剤を配合してモールドし熱硬化性樹脂組成物を形成するモールド工程と、前記熱硬化性樹脂組成物の表面に前記疎水性高分子皮膜を設ける密着工程とからなるものである。 - 特許庁

In a process for forming the silicon nanocrystal structure, a nanometer-thick silicon thin film comprising silicon crystallites and amorphous silicon is formed on the substrate by heating the substrate to a predetermined temperature in a plasma-treatment chamber, controlling the atmosphere inside the chamber to achieve a vacuum atmosphere containing at least a hydrogenated silicon gas and a hydrogen gas and applying a high-frequency electric field.例文帳に追加

基板をプラズマ処理チェンバ内で所定の温度にした後、プラズマ処理チェンバ内を少なくとも水素化シリコンガスと水素ガスとを含む減圧雰囲気に制御し、高周波電界を印加してナノメータスケール厚のシリコン微結晶とアモーファスシリコンからなるシリコン薄膜を基板上に形成する。 - 特許庁

例文

With this configuration, multi-atom layer step of about 3 nm in height are present in parallel each other in the Si wafer before bonding in micro size, and the step acts as a minute degassing hole in nanometer size at the stacked interface, so the gas generated at the interface in thermal process for raising adhesiveness is released effectively outside a wafer.例文帳に追加

上記構成によって、接着前のSiウェーハはミクロに見れば高さが3nm程度の多原子層ステップがお互い平行に存在し、重ね合わせた界面でこのステップがナノメートルサイズの微細なガス抜き穴として働くため、密着を高めるための熱処理時に界面で発生するガスがウェーハ外に効果的に抜ける。 - 特許庁

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