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of the same patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2875件
EDDY CURRENT MAGNETIC FIELD DETECTION TYPE PATTERN FOR MEASURING FILM THICKNESS AND METHOD OF MEASURING FILM THICKNESS OF THE SAME例文帳に追加
渦電流磁界検出型の膜厚測定用パターン、及び、その膜厚測定方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND ACID GENERATOR例文帳に追加
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物およびその製造方法、酸発生剤 - 特許庁
FORMING METHOD OF CONDUCTIVE PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC TRANSISTOR EMPLOYING THE SAME例文帳に追加
導電性パターンの形成方法、およびそれを用いた有機トランジスタの製造方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING FINE PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加
微細パターンの形成方法及びこれを用いた半導体発光素子の製造方法 - 特許庁
MONITORING PATTERN OF IMAGING ELEMENT AND METHOD FOR MONITORING PROCESS OF IMAGING ELEMENT UTILIZING THE SAME例文帳に追加
イメージ素子のモニタリングパターン、及びそれを利用したイメージ素子の工程モニタリング方法 - 特許庁
RUGGED PATTERN SHEET AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL SHEET, AND OPTICAL APPARATUS例文帳に追加
凹凸パターンシート及びその製造方法、光学シートの製造方法、並びに光学装置 - 特許庁
EVALUATION PATTERN OF OCCURRENCE STATUS OF HILLOCK, SUBSTRATE PROVIDED WITH THE SAME, AND EVALUATION METHOD例文帳に追加
ヒロックの発生状況の評価パターン及びそれを備えた基板、並びに評価方法 - 特許庁
FORMATION OF PATTERN OF MAGNETORESISTANCE ELEMENT AND MAGNETORESISTANCE ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加
磁気抵抗素子のパターン形成方法およびこのパターン形成方法を用いた磁気抵抗素子 - 特許庁
FORMATION METHOD OF FINE PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加
微細パターンの形成方法及びこれを用いた半導体発光素子の製造方法 - 特許庁
ADJUSTING PATTERN OF INSPECTION CONDITION, AND ADJUSTMENT METHOD OF INSPECTION CONDITION USING THE SAME例文帳に追加
検査条件の調整用パターン、およびそれを用いた検査条件の調整方法 - 特許庁
FORMATION METHOD OF WATER-SOLUBLE RESIN FILM AND FORMATION METHOD OF FINE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
水溶性樹脂被覆の形成方法およびこれを用いた微細パターンの形成方法 - 特許庁
METHOD FOR MEASURING POSITION OF PATTERN ON FRONT AND BACK FACE OF SUBSTRATE AND MEASUREMENT APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加
基板表裏面パターン位置測定方法及びその方法を用いた測定装置 - 特許庁
METHOD OF FORMING FINE PATTERN, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
微細パターンの形成方法及び半導体装置の製造方法並びに半導体装置 - 特許庁
Thus, the nitride film thickness on the upper surface and that on the side surface of the wiring pattern are made the same.例文帳に追加
このようにして、配線パターンの上面と側面の窒化シリコン膜の厚さが同一になるようにする。 - 特許庁
METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN, PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME, DEVICE FOR FORMATION OF RESIST PATTERN, AND HOT PLATE例文帳に追加
レジストパターン形成方法及びそれを用いた半導体装置の製造方法並びにレジストパターン形成装置及びホットプレート - 特許庁
A width of a pattern 30'd or the like positioned at the center of densely formed pattern groups 30a-30g is almost the same as the one before correction.例文帳に追加
密に形成されているパターン群30a〜30gの中央に位置するパターン30′d等の幅は、補正前とほぼ同一となっている。 - 特許庁
Same continuous pattern extracting means 106 detect corresponding ones between the pluralities of patterns of the same shape extracted by the continuous pattern extracting means.例文帳に追加
同一連続パターン抽出手段106は、前記連続パターン抽出手段により抽出された同一形状の複数のパターン同士で対応するもの同士を検出する。 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
MEMBRANE MASK, PATTERN PROCESSING METHOD USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING MEMBRANE MASK例文帳に追加
メンブレンマスク、これを用いたパターン処理方法、およびメンブレンマスクの製造方法 - 特許庁
The same process is repeated to a test pattern set of merged test patterns.例文帳に追加
テストパタンの併合されたテストパタンセットに対しても、同様の処理を繰り返す。 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
CLEANING LIQUID AND METHOD FOR FORMING METALLIC PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
洗浄液及びこれを用いた半導体素子の金属パターンの形成方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING MINIATURIZED PATTERN AND RESIST SUBSTRATE PROCESSING LIQUID USED FOR THE SAME例文帳に追加
微細化されたパターンの形成方法およびそれに用いるレジスト基板処理液 - 特許庁
TEG PATTERN AND RELIABILITY EVALUATION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
TEGパターンおよびそれを用いた半導体装置の信頼性評価方法 - 特許庁
IMAGE PATTERN MATCHING DEVICE, AND METHOD AND PROGRAM OF THE SAME例文帳に追加
画像パターンマッチング装置、画像パターンマッチング方法および画像パターンマッチング用プログラム - 特許庁
SYNTHETIC RESIN VESSEL WITH CRACK PATTERN ON OUTER SURFACE OF VESSEL BODY, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
ひび割れ模様を有する合成樹脂製容器及びその製造方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF PATTERN FORMATION WITH THE SAME例文帳に追加
液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING REFLECTION PREVENTION FILM AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
反射防止膜形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
ELECTRONIC APPARATUS WITH CASE EMBEDDED WITH TRANSMISSION LINE PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加
伝送線路パターンがケースに埋め込まれる電子装置及びその製造方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
SKIN MATERIAL FOR SEAT OF VEHICLE HAVING UNEVEN PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
凹凸模様を有する車輌の座席用表皮材及びその製造方法。 - 特許庁
TATAMI MAT AND STRAW MAT USED AS SURFACE OF TATAMI MAT PRINTED WITH PATTERN AND DESIGN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
絵柄図柄を印刷した畳および畳表、ならびにその製法 - 特許庁
STAINLESS STEEL ROLL SHEET FOR DECORATION HAVING EMBOSS PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
エンボスパターンを有する装飾用ステンレス鋼ロールシートおよびその製造方法 - 特許庁
RADIATION SENSITIVE POSITIVE COMPOSITION AND MANUFACTURE OF RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法 - 特許庁
Two fluorescent arc tubes have the same arrangement pattern of luminous dots 6.例文帳に追加
2つの蛍光発光管1,2は、発光ドット6の配置パターンが同一である。 - 特許庁
As a synchronizing word 31, the same code pattern is used in each of the radio channels.例文帳に追加
同期ワード31として、各無線チャネルにおいて同一の符号パターンが使用される。 - 特許庁
Naga no onzo was white or light pink with koaoi mon (a type of an arabesque pattern) aya (figure cloth) and the lining was the same color with hirahinu (plain silk) fabric. 例文帳に追加
長御衣は白もしくは紅の小葵文綾で裏は同色平絹。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
A pattern of the same shape as that of the semiconductor element in the regions 12 and the same shape as each other is formed in each of the TEGs 14.例文帳に追加
各TEG14には、素子形成領域12内の半導体素子のパターンと同じ形状で、且つ、相互に同一形状のパターンが形成される。 - 特許庁
A pattern of a lower wiring layer Ma in a monitor mark formation region includes a part having the same pattern width and pattern pitch as a pattern of a lower wiring layer Ma of a function element formation region.例文帳に追加
モニター用マーク形成領域の下層配線層Maのパターンは、機能素子形成領域の下層配線層Maのパターンと同じパターン幅およびパターンピッチを有する部分を含む。 - 特許庁
In picture pattern portions, there are included patches outputted with the same colors and the same gradation values (patches of K08 in a picture pattern portion K201 and K08 in a picture pattern portion K221) at two positions and in character portions, there are included patches outputted with the same colors and the same gradation values at one position.例文帳に追加
絵柄部では、同一色同一階調値で出力されたパッチを2カ所(絵柄部K201のK08と、絵柄部K221のK08のパッチ)とし、文字部では、同一色同一階調値で出力されたパッチを1カ所とする。 - 特許庁
IRREGULAR PATTERN FORMATION SHEET, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, PROCESS SHEET ORIGINAL PLATE FOR DUPLICATING THE IRREGULAR PATTERN FORMATION SHEET AND OPTICAL ELEMENT例文帳に追加
凹凸パターン形成シートおよびその製造方法、凹凸パターン形成シート複製用工程シート原版、光学素子 - 特許庁
In an approximate pattern calculation step, a lithographic target having the same corresponding relationship as an approximate value of the above corresponding relationship is calculated as an approximate pattern.例文帳に追加
前記対応関係の近似値と同じ対応関係を有したリソグラフィターゲットを近似パターンとして算出する。 - 特許庁
To provide a cylindrical fabric with a novel shape or pattern and to provide a method for knitting the same capable of designing the novel shape or pattern.例文帳に追加
新規な形状や柄を表現することなどが可能な、筒状編地およびその編成方法を提供する。 - 特許庁
The demarcations obtained by dividing the original pattern profile 1 are divided into several groups in such a manner where the adjacent demarcations are restrained from being divided into the same groups, and parts of the original pattern profile 1 belonging to the demarcations of the same group are formed into a pattern profile, so that a plurality of the pattern profiles can be obtained.例文帳に追加
そして、分割後における各区画を、隣接する区画同士が同一グループとならないようにグループ分けして、同一グループの区画に属する原パターン形状1の部分を一つのパターン形状とすることで、前記複数のパターン形状を得るようにする。 - 特許庁
On a photomask substrate, a comparison pattern on a mask whole or a part of which is substantially the same as a circuit pattern on the mask, and an inspection pattern on the mask whole or a part of which is substantially the same as a measurement pattern on the mask are adjacently provided.例文帳に追加
フォトマスク基板上にマスク上回路パターンと全体もしくは一部が実質的に同一のマスク上比較パターンおよびマスク上測定パターンと全体もしくは一部が実質的に同一のマスク上検査パターンを近接して設ける。 - 特許庁
After the lapse of a prescribed period, the variation of both the left and right pattern streams 11 and 13 is simultaneously stopped with the mutually same pattern 14, and the ready-to-win game state occurs.例文帳に追加
所定期間を経た後、左右両図柄列11,13の変動を互いに同一の図柄14で同時に停止させ、リーチ遊技状態を発生させる。 - 特許庁
In the case the finger print pattern coincides with the contained pattern, the user is required to input a kind of command by way of the same interface system.例文帳に追加
指紋パターンが格納されているパターンと一致する場合には、ユーザは同一のインターフェースシステムを介してある種のコマンドを入力することが所要される。 - 特許庁
According to a literature of early Muromachi period, the pattern was the Kiri, take, hoo mon (the design of paulownia, bamboo and phoenix), which was the same as Korozen no goho (a cloth that an emperor put on when he or she performed an important ritual), and the pattern was first weaved and then dyed. 例文帳に追加
室町時代初期の書によると、文様は黄櫨染御袍と同様の桐竹鳳凰文であり、文様を織ってから後染めした。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
A first pattern fusing part 28 fetches pattern data including the oblique wiring pattern and via cell pattern from the layout data to compose the patterns of every same layer number followed by fusing in different parts.例文帳に追加
第1図形融合部28は、レイアウトデータから斜め配線図形及びビアセル図形を含む図形データを取込んで同一レイヤ番号毎に図形を合成して重なる部分で融合する。 - 特許庁
Then a pattern that has the same substitution object bit with the previous pixel and the lowest degree of influence is extracted from variation patterns, and the pixel value of the pixel of interest is replaced with the pattern.例文帳に追加
そして変化パターンから置換対象ビットが前画素と同じであり且つ影響度が最も低いパターンを抽出し、注目画素の画素値をそのパターンに置き換える。 - 特許庁
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