p- typeの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9428件
The NMOS transistors T1 and T2 are arranged in a P conductivity-type well, and the P conductivity-type well is arranged on a P conductivity-type substrate.例文帳に追加
NMOS型のトランジスタ(T1,T2)はp導電型のウエル(Wp)に配置されており、このウエル(Wp)はp導電型の基板(Sp)に配置されている。 - 特許庁
A second p-type clad layer 16 is formed in the laser on the first p-type clad layer 13, and has higher carrier concentration than the p-type current block layer 14.例文帳に追加
第2p型クラッド層16は、第1p型クラッド層13上のレーザ部に形成され、p型電流ブロック層14よりも高いキャリア濃度を有する。 - 特許庁
This semiconductor device has a p-type avalanche region 9, formed between adjacent p-type base layers 2 which is deeper than the p-type base layers.例文帳に追加
本発明の半導体装置においては、隣り合うp型ベース層2の間にp型ベース層2よりも深くp型アバランシェ領域9が形成されている。 - 特許庁
A P-type diffusion region 38 for supplying fixed potential to the p-type well 52 is arranged in the P-type well 52 in the predetermined region.例文帳に追加
P型ウエル52に固定電位を供給するためのP型拡散領域38が、前記所定領域においてP型ウエル52中に配置される。 - 特許庁
The field effect transistor is formed on a p-type silicon carbide substrate 11 or a p-type silicon carbide substrate, having a p-type silicon carbide buffer layer 12.例文帳に追加
p型炭化珪素基板11またはp型炭化珪素バッファ層12を有する炭化珪素基板上に形成してなる電界効果トランジスタ。 - 特許庁
To provide a laser diode epitaxial wafer wherein p-type carrier concentration in a p-type AlGaInP cladding layer is uniform and diffusion of p-type impurities is reduced.例文帳に追加
p型AlGaInPクラッド層中のp型キャリア濃度が均一でp型不純物の拡散が少ないレーザダイオード用エピタキシャルウエハを提供する。 - 特許庁
To provide a nitride semiconductor device being capable of reducing a contact resistance between a p-type contact layer and a p-type electrode and having the p-type electrode.例文帳に追加
P型コンタクト層とP型電極との間のコンタクト抵抗を低減し得るP型電極を有する窒化物半導体装置を提供する。 - 特許庁
In a p-type clad layer 16, a first p-type clad layer 16A comprising a single layer, and a second p-type clad layer 16B comprising a superlattice structure are formed.例文帳に追加
p型クラッド層16内に、単層からなる第1p型クラッド層16Aと、超格子構造からなる第2p型クラッド層16Bが設けられている。 - 特許庁
In the semiconductor layer constituting the percutaneous treatment member layer 10, N type or P type or both N type and P type semiconductor powder is mixed in an adhesive or the like, and a P type semiconductor layer 3, an N type semiconductor layer 5 or the semiconductor layer of mixed N type and P type are stacked.例文帳に追加
経皮治療部材層10を構成する半導体層は、接着剤等にN型またはP型または両者混合の半導体パウダーを混入させ、P型半導体層3、N型半導体層5、またはN型とP型とを混合させた半導体層としてこれらを積層する。 - 特許庁
An n-type clad layer 3 consisting of n-type AlGaN, a light emitting layer 4, a p-type clad layer 5 consisting of p-type AlGaN, and a p-type contact layer 6 consisting of p-type GaN, are sequentially laminated on the n-type contact layer 2, so that part of the n-type contact layer 2 is exposed.例文帳に追加
n型コンタクト層2の一部を露出させるように、n型コンタクト層2の上には、n型のAlGaNからなるn型クラッド層3と、発光層4と、p型のAlGaNからなるp型クラッド層5と、p型のGaNからなるp型コンタクト層6とが順次積層されている。 - 特許庁
A first n-type layer, second n-type layer, third n-type layer, active layer having a multiple quantum well structure, a first p-type layer, second p-type layer, third p-type layer and p-type contact layer are laminated in the order on an n-type contact layer and this light-emitting element has a double heterostructure.例文帳に追加
n型コンタクト層の上に、第一のn型層と、第二のn型層と、第三のn型層と、多重量子井戸構造を有する活性層と、第一のp型層と、第二のp型層と、第三のp型層と、p型コンタクト層とが順に積層され、ダブルへテロ構造を有する。 - 特許庁
A p-type buffer layer 12, a p-type semiconductor layer 14, an n-type semiconductor layer 16, a p-type semiconductor layer 18, an n-type semiconductor layer 20, and an n-type semiconductor layer 30 serving as a light absorbing layer are successively laminated on a p-type substrate 10 to form a pnpn structure.例文帳に追加
p形基板10上に、p形バッファ層12,p形半導体層14,n形半導体層16,p形半導体層18,n形半導体層20、光吸収層であるn形半導体層を順次積層し、pnpn構造を作る。 - 特許庁
The n-type region where the p-type anode region 3 is not formed is an n-type drift region 2.例文帳に追加
このpアノード領域3が形成されないn領域がnドリフト領域2である。 - 特許庁
A conductivity type of the low-concentration doped regrowth layer 13 is an undope type or a p type.例文帳に追加
低濃度ドーピング再成長層13の導電型はアンドープもしくはp型とする。 - 特許庁
The thickness of gate insulating films of a load type P-type MOS and a drive type N-type MOS is 4 nm or less.例文帳に追加
負荷型P型MOS及び駆動型N型MOSのゲート絶縁膜厚は、4nm以下である。 - 特許庁
A P-type region 4 and an N-type region 5a are formed in a P-type well 2, a P-type region 7a and an N-type region 8 are formed in an N-type well 3, and an N-type region 6 is formed straddling both the wells 2 and 3.例文帳に追加
P型ウェル2内にはP型領域4,N型領域5aが、N型ウェル3内にはP型領域7a,N型領域8がそれぞれ形成され、両ウェル2及び3にまたがってN型領域6が形成されている。 - 特許庁
A (P^+)-type embedded layer 55 in contact with the bottom of this P-type well area 52 is formed, and an N-type embedded layer 56 which is formed partially interposed with this (P^+)-type embedded layer 55 and electrically separates the P-type well area 52 from the P-type single crystal silicon substrate 50 is formed.例文帳に追加
このP型ウエル領域52の底部に接するP+型埋め込み層55、このP+型埋め込み層55に部分的に重畳して形成され、P型ウエル領域52を単結晶シリコン基板50から電気的に分離するN型埋め込み層56を設ける。 - 特許庁
A p-type drain region 330 and the second p-type base region 420 are connected electrically.例文帳に追加
p型ドレイン領域330と第2のp型ベース領域420とは電気的に接続されている。 - 特許庁
A p-type base layer 20 is divided into a plurality of p-type base regions 9, 10, and 12 using trenches 21.例文帳に追加
トレンチ21によりp型ベース層20を複数のp型ベース領域9,10,12に分割する。 - 特許庁
P-TYPE FIRE ALARM FACILITY, AND ITS FIRE DETECTOR例文帳に追加
P型火災報知設備およびその火災感知器 - 特許庁
The thickness of a P-type silicon layer 21a is made as thick as a depletion layer on the side of the P-type silicon layer 21.例文帳に追加
また、P型シリコン層21aの厚さをP型シリコン層21側の空乏層の厚さと同等にする。 - 特許庁
The first p-type body region 50a and the first p-type base region 220 are connected electrically.例文帳に追加
第1のp型ボディ領域50aと、第1のp型ベース領域220とは、電気的に接続されている。 - 特許庁
A P-type material is a disc-shaped liquid crystal material for forming columns 5 on a P-type surface layer 7.例文帳に追加
p型物質は、コラム5をp型表面層7上に形成する円盤状液晶物質である。 - 特許庁
The separation region 3 is formed by connecting a p-type embedded diffusion layer with the p-type diffusion layer.例文帳に追加
分離領域3は、P型の埋込拡散層とP型の拡散層とが連結して形成されている。 - 特許庁
The p layer 3 consists of p-type poly-Si:H, the n layer 5 consists of n-type poly-Si:H.例文帳に追加
p層3は、p型poly−Si:Hからなり、n層5は、n型poly−Si:Hからなる。 - 特許庁
By this setup, P-type layers 117a and 117b are formed on the surface of the P-type semiconductor substrate 111.例文帳に追加
これにより、P型半導体基板111表面にp型層117a,117bが形成される。 - 特許庁
The impurity concentration of the p-type connection layer 13B is smaller than that of the p-type embedded layer 13A.例文帳に追加
p−型接続層13Bの不純物濃度はp型埋め込み層13Aのそれより小さい。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR FORMING p-TYPE SEMICONDUCTOR LAYER例文帳に追加
p型半導体層の形成方法および装置 - 特許庁
In this case, the p-type window layer 8 is pasted on the p-type clad layer 7 by thermo-compression bonding.例文帳に追加
尚、このp型ウインドウ層8は、p型クラッド層7上に熱圧着によって貼り付けられている。 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING P-TYPE DIFFUSION LAYER, METHOD FOR MANUFACTURING P-TYPE DIFFUSION LAYER AND METHOD FOR MANUFACTURING SOLAR CELL例文帳に追加
p型拡散層形成組成物、p型拡散層の製造方法及び太陽電池セルの製造方法 - 特許庁
To achieve high performance of an oxide film as a p-type conductive film and a p-type transparent conductive film.例文帳に追加
p型の導電膜及びp型の透明導電膜としての酸化物膜の高性能化を図る。 - 特許庁
Meanwhile, an ohmic electrode 10 is formed on the rear surface of the P-type substrate 2, which makes contact with the P-type layer 1.例文帳に追加
一方、P型基板2の裏面にはオーミック電極10を形成しP型層1にコンタクトをとる。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING P-TYPE GALLIUM NITRIDE SEMICONDUCTOR, AND LIGHT-EMITTING ELEMENT USING P-TYPE GALLIUM NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
P型窒化ガリウム系半導体の製造方法及びP型窒化ガリウム系半導体を用いた発光素子 - 特許庁
Also, one portion of the p-type electrode 9 is in ohmic contact with the p-type contact layer 7.例文帳に追加
また、p側電極9の一部は、p型コンタクト層7とオーミック接続された状態で接している。 - 特許庁
P-TYPE DIFFUSION LAYER FORMING COMPOSITION, P-TYPE DIFFUSION LAYER MANUFACTURING METHOD AND SOLAR BATTERY CELL MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
p型拡散層形成組成物、p型拡散層の製造方法、及び太陽電池セルの製造方法 - 特許庁
P-TYPE OXIDE SEMICONDUCTOR AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
p型酸化物半導体およびその製造方法 - 特許庁
A solar battery 10 has a p-type first semiconductor layer and a p-type second semiconductor layer 16.例文帳に追加
太陽電池10が、p型の第1の半導体層とp型の第2の半導体層16とを備える。 - 特許庁
The P-type isolation region 2 has the bottom face, reaching the upper face of the P-type impurity diffusion layer 3.例文帳に追加
P型分離領域2は、P型不純物拡散層3の上面に達する底面を有している。 - 特許庁
A first p-type clad layer 96a in a p-type clad layer 96 provided on the active layer 15 comprises a p-type nitride semiconductor containing aluminum and gallium and a second p-type clad layer 96b comprises a similar p-type nitride semiconductor having a band gap larger than that of the first p-type clad layer 96a.例文帳に追加
活性層(15)上に設けられるp型クラッド層96のうち、第1のp型クラッド層(96a)をアルミニウムとガリウムを含むp型窒化物半導体で形成し、第2のp型クラッド層(96b)を同様のp型窒化物半導体であるが、第1のp型クラッド層(96b)よりもバンドギャップの大きいもので形成する。 - 特許庁
The p-type semiconductor layer includes a p-side contact layer contacting the electrode.例文帳に追加
前記p形半導体層は、前記電極に接するp側コンタクト層を含む。 - 特許庁
The p-type semiconductor regions 40 are exposed on bottom surfaces 6c of the grooves 2.例文帳に追加
p型半導体領域40は、溝2の底面6cにおいて露出している。 - 特許庁
By these processes, hydrogen content in a clad layer 506 of p-type (Al0.7Ga0.3)0.5In0.5P is lowered.例文帳に追加
これにより、p型(Al_0.7Ga_0.3)_0.5In_0.5Pクラッド層506中の水素含有量を低減する。 - 特許庁
On the surface of an N type layer 22, a P+ type layer 26 is formed.例文帳に追加
N型層22の表面にはP+型層26が形成されている。 - 特許庁
A p-type gate region 103 is provided on the n-type channel region 203.例文帳に追加
N型チャネル領域203上にP型ゲート領域103がある。 - 特許庁
An N-type region 60 is arranged in the P-type well 52 to reach the N-type layer 51 beneath the P-type diffusion region 38.例文帳に追加
N型領域60が、P型拡散領域38の下方においてN型層51に到達するように、P型ウエル52中に配置される。 - 特許庁
The deep n-type well and the p-type substrate are coupled to ground.例文帳に追加
深いn型ウェルおよびp型基板は接地電位点に接続する。 - 特許庁
By having n-type carriers included in the n-type layer 2b diffuse into the p-type layer 2a, a compensation region 2c is formed in the portion of the p-type layer 2a, which is present in the vicinity of the interface between the p-type layer 2a and the n-type layer 2b.例文帳に追加
n型層2b中のn型キャリアがp型層2a中に拡散することにより、p型層2aとn型層2bとの界面近傍のp型層2a中に補償領域2cが形成される。 - 特許庁
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