「space plasma」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a plasma treatment device capable of generating plasma evenly in a treatment space.例文帳に追加

処理空間においてプラズマを均一に立てることが可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Compatibility between ensuring of uniformity of plasma distribution and prevention of gas inflow from the plasma processing space to the plasma producing spaces can be established.例文帳に追加

プラズマ分布の均一性確保とプラズマ処理空間からプラズマ発生空間へのガス流入阻止の両立が図れる。 - 特許庁

A plasma treatment system has this plasma source for efficiently coupling high-frequency energy to plasma in a vacuum treatment space of a vacuum chamber.例文帳に追加

プラズマ処理システムは、真空チャンバーの真空処理空間内のプラズマに高周波エネルギーを効率的に結合させるプラズマ源を有する。 - 特許庁

A surface layer treatment apparatus 1 is provided with a plasma torch T generating the plasma arc P in a space between the cast slab H and the plasma torch T.例文帳に追加

表層処理装置１は、鋳鋼片Ｈとの間にプラズマアークＰを発生させるプラズマトーチＴを備える。 - 特許庁

To provide a plasma generation device having a wide plasma generation space and being capable of performing plasma treatment continuously and uniformly, as well.例文帳に追加

プラズマ生成空間が広く、プラズマ処理を連続かつ均一に行うことができるプラズマ生成装置を提供する。 - 特許庁

By exhausting the reaction space S2 by an exhausting means 12, the plasma space S1 is indirectly exhausted.例文帳に追加

反応空間Ｓ_2 を排気手段１２によって排気することで、プラズマ空間Ｓ_1 を間接的に排気する。 - 特許庁

A plasma space under approximate normal pressure is formed by a pair of electrodes.例文帳に追加

一対の電極にて略常圧のプラズマ空間を形成する。 - 特許庁

PIPE FOR PUMPING SPACE BETWEEN TWO TILEE IN PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

プラズマディスプレイで二つのタイル間の空間をポンピングするための管 - 特許庁

A vacuum chamber 1 has a plasma generating space 11 inside.例文帳に追加

真空チャンバ１は、内部にプラズマ発生空間１１を有している。 - 特許庁

Material gas 20 containing plasma is injected into a space 46.例文帳に追加

プラズマを含む原料ガス２０が空間４６内に噴出される。 - 特許庁

The oxygen-containing plasma is held in the treatment space for a prescribed length of time.例文帳に追加

酸素含有プラズマは、処理空間内で所定時間維持される。 - 特許庁

This plasma generator has a cavity being a discharge space inside.例文帳に追加

プラズマ発生体は、内部に放電空間となる空洞を備えている。 - 特許庁

The plasma treatment method comprises steps of forming a pressure atmosphere with a specified gas in a treatment space in which a target material is put to raise the atmosphere to pressure higher than the outside of the treatment space for generating plasma, and plasma-treating the surface of the target material in the treatment space.例文帳に追加

被処理物が配置された処理空間内を、所定のガスで処理空間外より高く、かつプラズマを発生させる圧力雰囲気にして、処理空間内で、被処理物の表面をプラズマ処理するプラズマ処理方法。 - 特許庁

A recess 140A installed at a dielectric 14 of the plasma forming electrode device is provided with a preliminary discharge space part P1 to make a starting and a maintaining voltage of plasma discharge smaller, a plasma expanded space part P2, and a plasma width expansion limiting space part P3 to limit the width expansion of plasma formed by the plasma expanded space part P2.例文帳に追加

プラズマ生成電極装置の誘電体１４に設けられる窪み１４０Ａは、プラズマ放電の開始および維持電圧を小さくするための予備放電空間部Ｐ１と、プラズマ拡大空間部Ｐ２と、プラズマ拡大空間部Ｐ２により生成されたプラズマの幅拡大を制限するプラズマ幅拡大制限空間部Ｐ３とを備えている。 - 特許庁

In the plasma treatment apparatus in which plasma producing spaces 22 are adjacent to and communicate with a plasma processing space 13, the plasma producing spaces 22 are formed so as to be distributed or the like and a magnetic circuit 25 for confining electrons into each plasma producing space 22 is additionally provided.例文帳に追加

プラズマ発生空間２２がプラズマ処理空間１３に隣接し且つ連通しているプラズマ処理装置において、プラズマ発生空間２２が分散等して形成され、且つプラズマ発生空間２２内に電子を封じる磁気回路２５が付設される。 - 特許庁

The plasma processing device 59 makes different the position of a strong plasma processing space to a substrate 61 in a first plasma processing chamber CB1 and the position of the strong plasma processing space to the substrate 61 in a second plasma processing chamber CB2.例文帳に追加

プラズマ処理装置５９は、第１プラズマ処理チャンバーＣＢ１での基板６１に対する強プラズマ処理空間の位置と、第２プラズマ処理チャンバーＣＢ２での基板６１に対する強プラズマ処理空間の位置と、をずらす。 - 特許庁

The substrate processing apparatus includes a reaction tube 203 having an inner space sectioned by a barrier wall 236 into a film forming space and a plasma generating space 237.例文帳に追加

基板処理装置は、内部空間が隔壁２３６により成膜空間とプラズマ生成空間２３７とに区画される反応管２０３を有している。 - 特許庁

In the plasma processing apparatus for processing a substrate to be processed, a space for plasma excitation and a plasma gas introducing path for the same are separated from each other by a porous medium such as a porous ceramic material, thereby: preventing the plasma excitation in the plasma introducing path; and exciting uniform plasma of high density in a desired plasma excitation space.例文帳に追加

被処理基板を処理するプラズマ処理装置において、プラズマを励起するための空間と、プラズマを励起するためのプラズマガス導入経路を多孔質媒体、たとえば多孔質セラミック材料で分離することにより、前記プラズマガス導入経路でのプラズマの励起を防止して、所望のプラズマ励起空間において高密度かつ均一なプラズマを励起させることが可能とする。 - 特許庁

The atomizing part 2 and the plasma generation part 3 are arranged so that a space where mist 2a generated by the atomizing part 2 stays and a space where plasma 3a generated by the plasma generation part 3 stays overlap with each other.例文帳に追加

霧化部２とプラズマ生成部３とは、霧化部２によって生成される霧２ａが滞在する空間とプラズマ生成部３によって生成されるプラズマ３ａが滞在する空間とが互いに重なるように配置する。 - 特許庁

Accordingly, it is possible to keep the electrons of inductively coupled plasma formed by the high-frequency antenna 106 to be confined inside the plasma-generating space, thereby increasing the plasma electron concentration, while suppressing the rise in the plasma electron temperature.例文帳に追加

これにより，高周波アンテナ１０６により形成された誘導結合プラズマの電子をプラズマ生成空間内に閉じ込めることができるので，プラズマの電子温度の上昇を抑えながら，プラズマ電子密度を高めることができる。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for adjusting the characteristic of plasma in a plasma treatment system including a plasma generation assembly which treats a substrate by generating primary inductive coupled plasma from process gas in a treatment space.例文帳に追加

処理スペース内のプロセス・ガスから１次誘導結合プラズマを生成して、基板を処理するプラズマ生成アセンブリを含むプラズマ処理システム内で、プラズマの特徴を調整する装置および方法。 - 特許庁

The process gas of the supply source 2 of a normal pressure plasma etching apparatus M is converted to the plasma gas within a plasma discharge space 1a, and this plasma is blown to a processing object W.例文帳に追加

常圧プラズマエッチング装置Ｍの供給源２のプロセスガスをプラズマ放電空間１ａにてプラズマ化し、被処理物Ｗに吹付ける。 - 特許庁

The plasma treatment device 1 comprises a plasma generation unit 10 including a pair of electrodes 12, 12, to form a discharge space.例文帳に追加

プラズマ処理装置１は、放電空間を形成する一対の電極１２，１２を含むプラズマ生成ユニット１０を備えている。 - 特許庁

To realize a high-density plasma by confining a plasma in a space between electrodes without diffusing it in a processing chamber.例文帳に追加

プラズマを処理室内に拡散させず，電極間空間内に閉じこめて高いプラズマ密度を実現させる。 - 特許庁

The plasma processing apparatus 1 is provided with a grounded conductive container 10 which regulates the inner space 4 for performing plasma processing.例文帳に追加

プラズマ処理装置１は、プラズマ処理を行なうための内部空間４を規定し、接地されている導電性の容器１０を備える。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus capable of suppressing generation of plasma except a processing space between an upper electrode and a lower electrode.例文帳に追加

上部電極と下部電極の間の処理空間以外でのプラズマの発生が抑制されるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The plasma space forming surface of the electrode 11 of the plasma surface processor is covered with the dielectric member 13 as a solid dielectric layer.例文帳に追加

プラズマ表面処理装置の電極１１のプラズマ空間形成面を固体誘電体層としての誘電部材１３で覆う。 - 特許庁

This plasma processing device 1 is provided with a plasma generation unit 10 including a pair of electrodes 11 and 12 for forming the discharge space 14.例文帳に追加

プラズマ処理装置１は、放電空間１４を形成する一対の電極１１，１２を含むプラズマ生成ユニット１０を備えている。 - 特許庁

To effectively remove a depot entering a corner or a gap between steps facing a plasma space in a plasma treatment apparatus.例文帳に追加

プラズマ処理装置においてプラズマ空間に臨む角部または段差部の隙間に入り込むデポを効果的に取り除くこと。 - 特許庁

The plasma source coil uniformly forms plasma in a prescribed space by impressing power from a power source.例文帳に追加

電源からの電力を印加されて所定の反応空間内にプラズマを均一に形成させるためのプラズマソースコイルである。 - 特許庁

A pair of electrodes 11 and 12 of a plasma generation part 10 is opposed to each other in a facing direction, and a plasma generation space 19 is formed therebetween.例文帳に追加

プラズマ生成部１０の一対の電極１１，１２を対向方向に対向させ、これらの間にプラズマ生成空間１９を形成する。 - 特許庁

The electrode 31 of the plasma processing device is extended in a direction perpendicular to the direction extending from a plasma space 30a to a base material W.例文帳に追加

プラズマ処理装置の電極３１は、プラズマ化空間３０ａから基材Ｗへ向かう方向とは直交する方向に延びている。 - 特許庁

As a result, a disk-like plasma is formed in the SE plasma space 7, and the entire surface of the substrate 2 is uniformly etched by sputtering.例文帳に追加

その結果、ＳＥプラズマ空間７には円盤状のプラズマが形成され、基板２の表面全体が均一にスパッタエッチングされる。 - 特許庁

Electrons and exciton by the plasma generated in the preliminary electric discharge regions 16-1, 16-2 can be supplied directly to the plasma processing space 15.例文帳に追加

この予備放電領域１６-１,１６-２で発生されたプラズマによる電子や励起種をプラズマ処理空間１５に直接供給できる。 - 特許庁

A unit for plasma treatment 100 provided with a water plasma generator 10 is installed on the loading space of a truck P.例文帳に追加

トラックＰの荷台上に、水プラズマ発生装置１０を備えたプラズマ処理用ユニット１００を設置する。 - 特許庁

An object 9 to be processed is exposed on the plasma 6 by blowing the plasma 6 to the object 9 from the space 3.例文帳に追加

このプラズマ６を放電空間３から被処理物９に吹き付けることによって被処理物９をプラズマ６に曝露させる。 - 特許庁

As a result, the flux line 20 is uniformly distributed in the plasma chamber 2 over its wide range to form uniform plasma in a wider space range.例文帳に追加

その結果、磁束線２０がプラズマ室２内の広い領域に均一に分布し、均一なプラズマをより広い空間領域に形成することができる。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device uniformizing the density of plasma in the horizontal surface direction in a treatment space, and to provide a top plate used in it.例文帳に追加

処理空間の水平面方向におけるプラズマ密度を均一化させることが可能なプラズマ処理装置及びこれに用いる天板を提供する。 - 特許庁

A plasma density adjusting member 20 is fixed to an inner wall of the chamber 2 between the plasma formation space 9 and the stage 10.例文帳に追加

プラズマ密度調整部材２０を、プラズマ生成空間９と基台１０との間のチャンバ２内壁に固設する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device, capable of efficiently carrying out plasma treatment on a plurality of treating surfaces using simple equipment requiring small space.例文帳に追加

複数の被処理面を、小さいスペースで簡単な設備を用いて効率よくプラズマ処理することができる、プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

A plasma-generating assembly 16 is coupled with the process chamber 14 for creating a plasma in the process space 26.例文帳に追加

プラズマ生成アセンブリ（１６）は、反応室（１４）に結合され、プロセス空間（２６）内でプラズマを発生させる。 - 特許庁

A magnetic field generating means 4 applies a varying magnetic field in the plasma generating space 11 and gives fluctuation to a plasma.例文帳に追加

磁場発生手段４はプラズマ発生空間１１内に、変動する磁場を印加し、プラズマに揺らぎを与える。 - 特許庁

In the plasma processing apparatus, a hermetically sealed plasma processing space is formed by using a base platform 21 and a cover member 22.例文帳に追加

基台２１と蓋部材２２により、密閉されたプラズマ処理空間を形成するプラズマ処理装置。 - 特許庁

To provide a plasma treatment method, by which two or more surfaces to be treated can be efficiently treated with plasma using a simple facility within a compact space.例文帳に追加

複数の被処理面を、小さいスペースで簡単な設備を用いて効率よくプラズマ処理することができる、プラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To prevent corrosion of an inner wall forming a lead-in flow channel of a case by a plasma beam from a discharge space in a plasma processing device.例文帳に追加

プラズマ処理装置において、放電空間からのプラズマ光により筐体の導入流路を画成する内壁が腐食するのを防止する。 - 特許庁