「sputtering」に関連した英語例文の一覧と使い方(34ページ目) - Weblio英語例文検索

SPUTTERING TARGET, AND RECORDING MATERIAL OF MAGNETIC RECORDING MEDIUM FORMED FROM THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びそれから形成された磁気記録媒体の記録材料 - 特許庁

OXYGEN-FREE COPPER SPUTTERING TARGET, AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

無酸素銅スパッタリングターゲット材及び無酸素銅スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁

Then, a conductive layer is formed with sputtering, which results in wiring in later patterning.例文帳に追加

次いで、スパッタリングにより、後のパターニングで配線となる導電層を形成する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING ORGANIC LIGHT EMITTING ELEMENT USING FACING TARGET TYPE SPUTTERING DEVICE例文帳に追加

対向ターゲット式のスパッタリング装置を用いた有機発光素子の製造方法 - 特許庁

ELECTROCONDUCTIVE OXIDE SINTERED COMPACT, ITS PRODUCING METHOD AND OBTAINED SPUTTERING TARGET例文帳に追加

導電性酸化物焼結体、その製造方法及び得られるスパッタリングターゲット - 特許庁

SOFT MAGNETIC ALLOY FOR MAGNETIC RECORDING, SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

磁気記録用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 - 特許庁

SINTERED SPUTTERING-TARGET MATERIAL OF Co-Zr-BASED ALLOY AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

Ｃｏ−Ｚｒ系合金焼結スパッタリングターゲット材およびその製造方法 - 特許庁

Vapor deposition, sputtering, or plating or the like is used as a method for forming the electrodes 3, 4.例文帳に追加

電極３，４の形成方法としては、蒸着、スパッタ、めっき等である。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SPUTTERING TARGET OF CU-IN-GA-SE-BASED QUATERNARY ALLOY例文帳に追加

Ｃｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ四元系合金スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

Thereafter, a thin copper film is formed on the silicon nitride layer by sputtering.例文帳に追加

しかる後この窒化珪素変質層の上に銅薄膜をスッパタリング成膜する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING Mo ALLOY POWDER AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

Ｍｏ合金粉末の製造方法およびスパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁

LARGE ELECTRIC POWER PULSED MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND LARGE ELECTRIC POWER ELECTRIC ENERGY SOURCE例文帳に追加

大電力パルス化マグネトロンスパッタリング方法および大電力電気エネルギー源 - 特許庁

TARGET FOR SPUTTERING, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM USING THE SAME AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット、それを用いた透明導電膜及びその製造方法 - 特許庁

To provide a sputtering coil for a plasma chamber in a semiconductor fabrication system.例文帳に追加

半導体製造系におけるプラズマチャンバのためのスパッタ用コイルを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a Ge-Sb-Te sputtering target material.例文帳に追加

Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系スパッタリング用ターゲット材の製造方法を提供する。 - 特許庁

HIGH STRENGTH SPUTTERING TARGET FOR FORMING FLUORESCENT FILM FOR INORGANIC ELECTROLUMINESCENSE ELEMENT例文帳に追加

無機エレクトロルミネッセンス素子用蛍光体膜形成用高強度スパッタリングターゲット - 特許庁

SINGLE POWER SOURCE TYPE SPUTTERING APPARATUS HAVING ANODE SUBJECTED TO MAGNETIC FIELD CONTROL例文帳に追加

磁場制御を施した陽極を備えてなる単一電源型スパッタリング装置 - 特許庁

HIGH-DENSITY SPUTTERING SINTERED TARGET MATERIAL NOT CRACKED EVEN IN HIGH-SPEED FILM FORMING CONDITION例文帳に追加

高速成膜条件でも割れ発生のない高密度スパッタリング燒結ターゲット材 - 特許庁

SOFT MAGNETIC ALLOY FOR MAGNETIC RECORDING, SPUTTERING TARGET MATERIAL AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

磁気記録用軟磁性合金及びスパッタリングターゲット材ならびに磁気記録媒体 - 特許庁

HIGH HARDNESS Ag ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMING REFLECTIVE FILM OF OPTICAL RECORDING MEDIUM例文帳に追加

光記録媒体の反射膜形成用高硬度Ａｇ合金スパッタリングターゲット - 特許庁

Co-Fe-Zr-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF例文帳に追加

Ｃｏ−Ｆｅ−Ｚｒ系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 - 特許庁

HIGH STRENGTH SPUTTERING TARGET FOR FORMING PHOSPHOR FILM IN ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT例文帳に追加

エレクトロルミネッセンス素子における蛍光体膜形成用高強度スパッタリングターゲット - 特許庁

SPUTTERING TARGET ASSEMBLED BODY SUBJECTED TO SOLID PHASE DIFFUSION JOINING AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

固相拡散接合されたスパッタリングターゲット組立体およびその製造方法 - 特許庁

OXIDE SINTERED COMPACT, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, SPUTTERING TARGET AND SEMICONDUCTOR THIN FILM例文帳に追加

酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタリングターゲット、半導体薄膜 - 特許庁

NIOBIUM OXIDE SINTERED COMPACT, ITS MANUFACTURING METHOD AND SPUTTERING TARGET USING THE SAME例文帳に追加

酸化ニオブ焼結体とその製造方法及びこれを用いたスパッタリングターゲット - 特許庁

AG ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMING SEMITRANSPARENT REFLECTION FILM OF OPTICAL RECORDING MEDIUM例文帳に追加

光記録媒体の半透明反射膜形成用Ａｇ合金スパッタリングターゲット - 特許庁

The metal nitride layer is formed by sputtering the metal in the nitrogen gas.例文帳に追加

該チッ化金属層は、金属を窒素ガス中でスパッタリングすることで形成される。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR SPUTTERING SILICON FILM USING MIXTURE GAS OF HYDROGEN例文帳に追加

水素ガス混合気を用いてシリコン膜をスパッタリングするシステムおよびその方法 - 特許庁

The Nb material constituting the sputtering target contains hydrogen of a range from 1 to 1,000 ppm.例文帳に追加

スパッタリングターゲットを構成するＮｂ材は1〜1000ppmの範囲の水素を含有する。 - 特許庁

The obtained ingot or sintered compact is worked, so as to produce a sputtering target.例文帳に追加

得られたインゴットまたは焼結体を加工してスパッタリングターゲットを作製する。 - 特許庁

The passivation film is formed by a reactive pulse DC sputtering method.例文帳に追加

反応性パルスＤＣスパッタリングを行うことによりパッシベーション膜を形成する。 - 特許庁

COMPOSITE TARGET FOR SPUTTERING AND MANUFACTURING METHOD OF TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリング複合ターゲット及びこれを用いた透明導電膜の製造方法 - 特許庁

Further, the sputtering target material for depositing the Ag alloy film with the above composition is also provided.例文帳に追加

また、上記組成のＡｇ合金膜形成用スパッタリングターゲット材である。 - 特許庁

ZINC OXIDE SINTERED COMPACT, SPUTTERING TARGET COMPOSED OF THE SAME, AND ZINC OXIDE THIN FILM例文帳に追加

酸化亜鉛焼結体、それから成るスパッタリングターゲットおよび酸化亜鉛薄膜 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット、および前記ターゲットを用いた磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁

To prevent spalling and scattering of deposits generating from the side face of a sputtering target.例文帳に追加

スパッタリングターゲットの側面から発生する堆積物の剥離・飛散を防止する。 - 特許庁

SINTER, SPUTTERING TARGET AND MOLDING DIE, AND PRODUCTION PROCESS OF SINTERED COMPACT例文帳に追加

焼結体、スパッタリングターゲット及び成形型並びに焼結体の製造方法 - 特許庁

The sputtering electric power source generates Penning discharge between the cylindrical targets.例文帳に追加

前記スパッタ電源は前記円筒状ターゲット間にペニング放電を発生させる。 - 特許庁

Moreover, the glass thin film 10 is formed by using an evaporation method or a sputtering method.例文帳に追加

また、ガラス薄膜１０を蒸着法またはスパッタリング法により成膜する。 - 特許庁

In addition, multicomponent films are coated on a substrate by way of magnetron co-sputtering.例文帳に追加

そしてマグネトロン同時スパッタリングによって複合膜を基板上に成膜する。 - 特許庁

ELECTRICALLY CONDUCTIVE CERAMIC SINTERED COMPACT AND SPUTTERING TARGET AS WELL AS MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

導電性セラミックス焼結体及びスパッタリングターゲット並びにその製造方法 - 特許庁

HIGH-STRENGTH SPUTTERING TARGET FOR DEPOSITING PHOSPHOR FILM IN ELECTROLUMINESCENT ELEMENT例文帳に追加

エレクトロルミネッセンス素子における蛍光体膜形成用高強度スパッタリングターゲット - 特許庁

To produce a sputtering target suitable for attaining a large size.例文帳に追加

大型化に適したスパッタリング用ターゲットおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, it is preferable that the metal film is formed by a sputtering method.例文帳に追加

また、金属膜がスパッタリング法により形成されたものであることが好ましい。 - 特許庁

ZINC-OXIDE-BASED SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND ZINC-OXIDE-BASED THIN FILM例文帳に追加

酸化亜鉛系スパッタリングターゲット、その製造方法、および酸化亜鉛系薄膜 - 特許庁