「stage measurement」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ROLLING ANGLE MEASUREMENT METHOD AND DEVICE FOR MOVING STAGE例文帳に追加

移動ステージのローリング角度測定方法及び装置 - 特許庁

STAGE POSITION MEASUREMENT AND POSITIONING DEVICE例文帳に追加

ステージ位置計測および位置決め装置 - 特許庁

A jitter measurement stage 30 measures jitter with an output signal of the stage 20 or 40.例文帳に追加

ジッタ測定段３０は、段２０又は４０の出力信号によりジッタを測定する。 - 特許庁

A recessed part where a diaphragm 12 is fixed is provided at a central part 20a of a measurement stage 20, and a lower part electrode 21 is provided inside the measurement stage 20.例文帳に追加

測定ステージ２０の中央部２０ａに、振動板１２を固定する凹部を設け、その測定ステージ２０の内部に下部電極２１を設ける。 - 特許庁

When the workpiece reaches the measuring stage 7, leak current measurement is performed.例文帳に追加

その後、測定ステージ７にワークが到達すると漏れ電流測定を行う。 - 特許庁

To achieve accurate calibration of encoder stage position measurement.例文帳に追加

エンコーダステージ位置測定の正確なキャリブレーションを実現する。 - 特許庁

To improve accuracy of position measurement of a stage in a lithographic apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ装置のステージ位置測定を改善することである。 - 特許庁

To perform positional measurement of a wafer stage by using a two-dimensional encoder.例文帳に追加

２次元エンコーダを用いてウエハステージの位置計測を行う。 - 特許庁

To prevent unbalanced load generated by the probe pressure of a probe unit from acting on a measurement stage by raising a Z-stage by means of a Z-drive source provided on the outside of the measurement stage, by not incorporating the drive mechanism of the Z-stage in the measurement stage.例文帳に追加

Ｚステージの駆動機構を測定ステージに組み込まないようにして、測定ステージの外部にあるＺ駆動源によってＺステージを上昇させることで、プローブユニットの針圧による偏荷重が測定ステージに作用しないようにする。 - 特許庁

Thus, based on measurement results of the slight movement stage position measurement system and the measurement arm position measurement system 72A_0, the position information of the slight movement stage WFS1 in reference to the light axis AX is measured precisely.例文帳に追加

従って、微動ステージ位置計測系と計測アーム位置計測系７２Ａ_０との計測結果に基づいて、光軸ＡＸを基準とする微動ステージＷＦＳ１の位置情報を高精度で計測する。 - 特許庁

In an exposure station 200, positional information of a stage WFS1 for holding a wafer is measured by a first fine movement stage position measurement system including a measurement arm 71A, and in a measurement station 300, positional information of a stage WFS2 for holding a wafer is measured by a second fine movement stage position measurement system including a measurement arm 71B.例文帳に追加

露光ステーション２００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ１の位置情報は、計測アーム７１Ａを含む第１の微動ステージ位置計測系により計測され、計測ステーション３００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ２の位置情報は、計測アーム７１Ｂを含む第２の微動ステージ位置計測系により計測される。 - 特許庁

An exposure apparatus 100 has a third fine movement stage position measurement system which can measure positional information of the stage WFS2 when the stage WFS2 is carried from the measurement station 300 to the exposure station 200.例文帳に追加

露光装置１００は、ステージＷＦＳ２が計測ステーション３００から露光ステーション２００へ搬送される際、このステージＷＦＳ２の位置情報を計測可能な第３の微動ステージ計測系を有する。 - 特許庁

The discharge period between the pre-measurement charging stage 10 and the measuring stage 7 is optimized, whereby the time between start of charging to the workpiece and the leak current measurement is shortened to improve the efficiency of the leak current measurement.例文帳に追加

測定前充電ステージ１０と測定ステージ７との間の放電期間を最適化することにより、ワークに充電を開始してから漏れ電流測定を行うまでの時間を短縮でき、漏れ電流測定の効率向上が図れる。 - 特許庁

MEASUREMENT METHOD AND CORRECTION METHOD OF THE DEVIATION OF ELECTRON BEAM SCANNING AXIS WITH STAGE MOVING AXIS AND STAGE MOVING ERROR IN SCANNING ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加

走査電子顕微鏡における電子ビーム走査軸とステージ移動軸のずれ及びステージの移動誤差の測定方法及び補正方法。 - 特許庁

To achieve a stage apparatus with the small Abbe error in stage apparatuses performing position control on the basis of the result of measurement of laser ranging devices.例文帳に追加

レーザ測長器の測定結果に基づき、位置制御を行うステージ装置において、Ａｂｂｅ誤差の少ないステージ装置を実現すること。 - 特許庁

The aligner has an exposure stage 4 used for executing exposure treatment, and an alignment stage 7 used for executing alignment and measurement.例文帳に追加

露光装置は、露光処理を実行するための露光ステージ４とアライメント計測を実行するためのアライメントステージ７を有する。 - 特許庁

To provide a pattern forming member which is suitably employed for measurement of synchronous accuracy between a mask stage and a substrate (substrate stage).例文帳に追加

マスクステージと基板（基板ステージ）の同期精度の計測に好適に用いることができるパターン形成部材を提供する。 - 特許庁

The apparatus 100 includes an original plate stage 5 for holding the original plate 6, a substrate stage 8 for holding the substrate 7 and a measurement unit.例文帳に追加

投影露光装置１００は、原版６を保持する原版ステージ５と、基板７を保持する基板ステージ８と、測定ユニットとを備える。 - 特許庁

Based on output of the head, a slight movement stage position measurement system measures position information of the slight movement stage WFS1.例文帳に追加

ヘッドの出力に基づいて、微動ステージ位置計測系が微動ステージＷＦＳ１の位置情報を計測する。 - 特許庁

Then, based on the detection result at each position, the wafer stage is positioned to the measurement stage.例文帳に追加

そして、それぞれの位置での検出結果に基づいて、ウエハステージを、計測ステージに対して位置決めする。 - 特許庁

The exposure apparatus EX includes a stage apparatus ST composed of a wafer stage WST and a measurement stage MST supported so as to have a six degree of freedom and a main control system MC for controlling the stage apparatus ST.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、６自由度を有するよう支持されたウェハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴからなるステージ装置ＳＴ、及びステージ装置ＳＴを制御する主制御系ＭＣを備える。 - 特許庁

The three-dimensional position of a moving stage 7 for holding a probe, etc. for three-dimensional shape measurement is measured by length measurement interferometers 1 to 6.例文帳に追加

三次元形状測定のためのプローブ等を保持する移動ステージ７の三次元位置を測長干渉計１〜６によって計測する。 - 特許庁

A second divider 103 calculates a measurement of each part of a page at an intermediate stage by dividing the measurement of each part of the page after conversion by the magnification.例文帳に追加

第２除算器１０３は、変換後のページの各部の寸法を倍率で除することにより中間段階のページの各部の寸法を算出する。 - 特許庁

To provide a ripeness measurement apparatus and a ripeness measurement method for correctly obtaining a ripeness even if a fruit is in a previous period of a developing stage.例文帳に追加

果実が生育段階の前期にある場合も、その熟度を正確に把握することができる熟度測定装置及び熟度測定方法を提供する。 - 特許庁

In the beam position detection and light quantity measurement performed by using the respective means, a moving distance of the stage 18 is reduced and a measurement time is shortened.例文帳に追加

この各手段を用いて行うビーム位置検出及び光量測定では、ステージ１８移動距離が短くされ、測定時間が短縮される。 - 特許庁

The adjustment work in a preparation stage before the measurement of the article 1 to be inspected is enabled, by using the reference mirror 63 as the measurement standard for an interference fringe.例文帳に追加

参照ミラー６３を干渉縞の計測基準とすることで、被検物１の計測前の準備段階における調整作業を可能とする。 - 特許庁

A pattern projection device for measurement 6 projects a pattern for measurement 15 on the surface of the work to be machined 20 held on the stage 7.例文帳に追加

計量用パターン投影装置６が、ステージ７上に保持された加工対象物２０の表面上に計量用パターン１５を映し出す。 - 特許庁

The wafer stage WST is accurately driven, in measurement ranges of the encoders 50A, 50B, etc., based on their measurement results.例文帳に追加

ウエハステージＷＳＴは、エンコーダ５０Ａ，５０Ｂ等の計測範囲内では、それらの計測結果に基づいて精度良く駆動される。 - 特許庁

To suppress measurement error caused by acceleration/deceleration of a stage, in a positioning device.例文帳に追加

位置決め装置において、ステージの加減速によって生じる計測誤差を抑える。 - 特許庁

To provide a stage device, capable of being used suitably for a TIS measurement of an alignment microscope.例文帳に追加

アライメント顕微鏡のＴＩＳ計測に好適に用いることができるステージ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a technique useful to high-precision measurement of a position of a stage.例文帳に追加

ステージの位置を高精度に計測するために有用な技術を提供する。 - 特許庁

STAGE POSITION MEASUREMENT METHOD, EXPOSURE METHOD, EXPOSURE SYSTEM, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ステージ位置計測方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a stage system that can make a variety of measurement, equipment adjustment, etc., with high accuracy.例文帳に追加

種々の計測、機器の調整等を高精度に行うことが可能なステージ装置を提供する。 - 特許庁

Measurement light L is made incident on a subject 22 and scanned by an X-Y stage 23.例文帳に追加

計測光Ｌを被検体22に入射させ、Ｘ−Ｙステージ23により走査させる。 - 特許庁

OPTICAL CHARACTERISTICS MEASURING METHOD, OPTICAL CHARACTERISTICS MEASUREMENT SYSTEM, AND STAGE USED FOR SYSTEM例文帳に追加

光学特性測定方法、光学特性測定システム及びこのシステムに用いるステージ - 特許庁

The measurement light L is made incident on a subject 22 and scanned by an X-Y stage 23.例文帳に追加

計測光を被検体22に入射させ、Ｘ−Ｙステージ23により走査させる。 - 特許庁

CORRECTION METHOD OF POSITION MEASUREMENT SYSTEM IN DUAL STAGE AREA LITHOGRAPHIC APPARATUS例文帳に追加

デュアルステージエリアリソグラフィ装置における位置測定システムの補正方法 - 特許庁

To provide an X-Y stage system capable of reducing a length-measurement error due to air fluctuation by including a length-measurement light path tube mechanism for adequately covering a length-measurement light path of a laser interferometer in its X-Y stage having a position length measurement part moving in X/Y directions by the laser interferometer.例文帳に追加

レーザー干渉計による位置測長部位がＸＹ方向に運動するＸＹステージにおいて、レーザー干渉計の測長光路を十分に覆う測長光路筒機構を備えることで空気揺らぎによる測長誤差を低減できるＸＹステージ装置を提供する。 - 特許庁

Thereby, the reference beam and the measurement beam are not influenced by vibration, so that the position measurement of the reticle stage RST can be highly accurately performed, and further the reticle stage can be highly accurately moved.例文帳に追加

これにより、参照ビームと計測ビームとが振動の影響を受けることがないため、レチクルステージの位置計測を高精度に行うことができ、ひいては、レチクルステージを高精度に移動することが可能となる。 - 特許庁

A lithographic projection apparatus is further comprised of a contactless position measuring device for performing the position measurement of the stage, and a first pump for generating a conditioned gas flow in a volume between the measuring device and said stage for improving the position measurement.例文帳に追加

リソグラフィ投影機器は、ステージの位置計測を実施する非接触位置計測装置と、計測装置とステージの間のボリュームの調整されたガス流を生成して位置計測を改善する第１ポンプとをさらに備える。 - 特許庁

To provide a projection aligner for improving contrast or overlaying precision by reducing the difference in a measurement error amount of a dimensional measurement device and improving synchronization precision between a light-shielding plate, an original stage and a substrate stage.例文帳に追加

測長器の計測誤差量の差を低減し、遮光プレートと原版ステージと基板ステージの同期精度を改善させることで、コントラストやオーバーレイ精度を向上させる投影露光装置を提供する。 - 特許庁

Then, a washing/thickness measurement stage 22 is provided between the back grinder 10 and mount section 108, where the washing/thickness measurement stage 22 measures the thickness of the wafer 26 after the back grinding machining by a capacitance sensor 92.例文帳に追加

そして、バックグラインダ１０とマウント部１０８との間に、裏面研削加工後のウェーハ２６の厚みを静電容量センサ９２で測定する洗浄・厚み測定ステージ２２を設けている。 - 特許庁

The scanning exposure apparatus 300 includes a mask 10 for measurement which is disposed on a first stage 325 and has a measurement pattern, a first measuring unit 20 disposed on a second stage 345, and a control unit 350.例文帳に追加

本発明の走査露光装置３００は、第１ステージ３２５に配置され測定パターンを有する測定用マスク１０と、第２ステージ３４５に配置される第１測定部２０と、制御部３５０とを備える。 - 特許庁

To provide a heating temperature program, capable of calculating optimum heating time for a stage of drying and a stage of ashing of a sample, without having to depend on the experience of an analyst, and capable of obtaining optimum measurement with accuracy through minimum times of measurement.例文帳に追加

分析者の経験に頼らずに試料の乾燥段階および灰化段階の最適な加熱時間を求め、最低限の測定回数で最適な測定精度を得られる加熱温度プログラムを提供。 - 特許庁

A measurement beam LB is projected on a measurement surface (scale) 39Y_2 provided partially on an upper surface of a stage WST from a Z head 72a, and a reflected beam from the measurement surface is received to measure Z-axial surface position information on the measurement surface at a projection point of the measurement beam LB.例文帳に追加

Ｚヘッド７２ａからステージＷＳＴの上面の一部に設けられた計測面（スケール）３９Ｙ_2に計測ビームＬＢを投射し、その計測面からの反射ビームを受光して、計測ビームＬＢの投射点における計測面のＺ軸方向に関する面位置情報を計測する。 - 特許庁