「stage measurement」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

Then measurement results of respective monitors are fed back to an edging controller to control the circuit-dependent variance in the design stage, and the manufacturing yield of the semiconductor device is improved.例文帳に追加

そして、各モニタの測定結果をエッジング制御装置にフィードバックすることで設計段階での回路依存のバラツキを制御し、半導体装置の製造歩留を向上させる。 - 特許庁

The third fine movement stage measurement system includes an encoder system including a plurality of Y heads 96, 97 and a laser interferometer system including laser interferometers 76a-76d.例文帳に追加

第３の微動ステージ計測系は、複数のＹヘッド９６，９７を含むエンコーダシステムとレーザ干渉計７６ａ〜７６ｄを含むレーザ干渉計システムとを含む。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of performing excellent measurement processing to perform accurate exposure processing even when a liquid immersion method is applied to a twin-stage-type exposure apparatus.例文帳に追加

ツインステージ型露光装置に液浸法を適用した場合においても良好に計測処理を行って精度良く露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁

To downsize, reduce weight, and decrease an effect of magnetic field on an electron beam in a stage device applicable to the device intended for inspection or evaluation of semiconductors such as a length measurement SEM.例文帳に追加

測長ＳＥＭのような半導体の検査や評価を目的にした装置に適用可能なステージ装置を小型化、軽量化すると同時に電子線への磁場の影響を低減する。 - 特許庁

Then, after the temperature of the sample S measured by the temperature measurement unit 14g reaches a prescribed temperature, a stage 15, an imaging unit 12, and the control unit operate to measure the Vickers hardness of the sample S.例文帳に追加

そして、温度計測部１４ｇによって計測された試料Ｓの温度が所定の温度に達した後に、ステージ１５、撮像部１２および制御部が動作することで試料Ｓのビッカース硬さを測定する。 - 特許庁

Before inclination adjustment, the solid-state imaging apparatus is loaded on a stage which can move along three axes of XYZ and can also rotate, and XY origin adjustment is performed by imaging the resolution measurement patterns by the imaging apparatus (S110).例文帳に追加

傾斜調整前に、ＸＹＺの３軸への移動が可能であるとともに回転も可能なステージ上に固体撮像装置を載置して、撮像装置で解像度測定パターンを撮像することでＸＹ原点調整を行なう（Ｓ１１０）。 - 特許庁

To provide an exposure device for suppressing the number of correction/driving times of a substrate stage and a substrate chuck before precise measurement and improving device throughput and to provide a control method of the exposure device and a device manufacturing method.例文帳に追加

精密計測前の基板ステージ及び基板チャックの補正駆動回数を抑えて、装置スループットを向上させる露光装置、露光装置の制御方法、及びデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

A detection part 20 detects interference signals based on interference light beams between respective measurement light beams returned to a head part 30 by moving the condensing lens 3 by the moving stage 4 and the reference light beam returned from a reference surface 31.例文帳に追加

検出部２０は、移動ステージ４により集光レンズ３を移動させてヘッド部３０に戻された各測定光と、参照面３１から戻された参照光との干渉光に基づく干渉信号をそれぞれ検出する。 - 特許庁

A controller 30 preliminarily memorizes a coordinate or a vector component of a fixed-point of a stage 10 obtained by measurement with a three-dimensional camera 20 arranged at a first camera point.例文帳に追加

コントローラ３０は、第１のカメラ位置に配置した３次元カメラ２０の測定により取得したステージ１０の定点の座標又はベクトルの成分を記憶しておく。 - 特許庁

To provide a signal processing device for pulse measurement that prevents false detection of a peak even if distortion arises in a bipolar waveform, which is a filter output, caused by a discrepancy of fitting between a time constant of a digital filter in the preceding stage and its input signal.例文帳に追加

前段のデジタルフィルタの時定数とその入力信号とのフィッティングのずれに起因してフィルタ出力であるバイポーラ波形に歪みが生じた場合でも、ピークの誤検出を防止する。 - 特許庁

To reduce the number of measurement man-hours in a design stage of an internal combustion engine, in a spark ignition type internal combustion engine in which a mechanical compression ratio, intake valve closing timing, and throttle opening can be changed.例文帳に追加

機械圧縮比、吸気弁閉弁時期及びスロットル開度を変更可能な火花点火式内燃機関において、内燃機関の設計段階における計測工数を減少させる。 - 特許庁

To reduce exposure amount for a worker by cladding by welding high corrosion resistance welding material to the inner surface by work of one stage in a preventive maintenance method for an ICM (neutron measurement) housing.例文帳に追加

ＩＣＭハウジングの予防保全方法において、内面に高耐食性の溶接材料を１段階の作業で肉盛り溶接することにより作業者の被爆量を低減する。 - 特許庁

Position information on a wafer stage WST is measured by using: wafer X interferometers 18X_1, 18X_2, a wafer Y interferometer 18Y, etc., and encoders 50A, 50B, etc. with excellent short-term stability of measurement values in comparison with those of the interferometers.例文帳に追加

ウエハステージＷＳＴの位置情報は、ウエハＸ干渉計１８Ｘ_１，１８Ｘ_２、ウエハＹ干渉計１８Ｙ等と、該干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダ５０Ａ，５０Ｂ等とを用いて計測される。 - 特許庁

In measuring, a predetermined voltage is applied to each of the input and output terminals of the delay elements of the n-th stage from an external measurement apparatus via the input terminal selecting circuit 102 and the output terminal selecting circuit 103.例文帳に追加

測定時には、ｎ段目の遅延要素の入力端子及び出力端子に、入力端子選択回路１０２及び出力端子選択回路１０３を介して外部測定装置からそれぞれ所定の電圧が印加される。 - 特許庁

To provide an entire circumference-coiled cyclone separator to be installed in the pre-stage for a measurement apparatus for dusts in air and capable of separating the dusts with a diameter of ≥2.5 μm at a high efficiency.例文帳に追加

大気中に浮遊する粉塵の測定装置の前段に取り付けるサイクロンであって、２．５ミクロンの粒径で高性能で分粒することが可能な全円周型のサイクロンの構造を提供する。 - 特許庁

The position of the probe pin 110b and the position of the stage probe pin 150 are vertically moved up and down to bring the probe pin 110b into contact with the chip, thereby making a measurement.例文帳に追加

プローブピン１１０ｂの位置とステージプローブピン１５０の位置とを垂直方向で上下に移動させプローブピン１１０ｂとチップとを接触させることにより、測定が行われる。 - 特許庁

In a pre-printing stage, a colorimetry of an image on the reference sheet is performed and an image file in a device-independent color space is produced from the measurement result.例文帳に追加

印刷前段階において、参照枚葉紙の画像を色彩測定し、この測定結果から、デバイスインディペンデントな色空間における画像ファイルを生成する。 - 特許庁

A measured value receiving and processing part 104 receives shape measurement information of a steel plate after rolling, from a measuring device for measuring the shape of the steel plate after rolling which is a steel plate after rolling in a rolling stage.例文帳に追加

測定値受信処理部１０４は、圧延工程により圧延処理後の鋼板である処理後鋼板の形状を計測する計測装置から処理後鋼板の形状計測情報を受信する。 - 特許庁

The stage WST is moved along the X axis and a difference between measured values of both the heads 66_7 and 66_0 is found at each of measurement points set at predetermined intervals along the X axis.例文帳に追加

ステージＷＳＴをＸ軸方向に移動させ、Ｘ軸方向に所定間隔で設定された計測点毎に、両ヘッド６６_7，６６_0の計測値の差分を求める。 - 特許庁

This calibrating procedure is suitably implemented when an exposure device is started, for a first lot, etc., to calibrate the measurement precision of the sensor heads, thereby guaranteeing high stage driving control.例文帳に追加

この較正手続きを、露光装置の起動時、ロット先頭時等に、適宜実行して、センサヘッドの計測精度を較正し、高いステージ駆動制御を保障する。 - 特許庁

A lottery portion 303 performs a stage migration lottery on the basis of information presenting the number of rounds measured by the measurement portion 302 and information presenting the content of the jackpot of the main control unit.例文帳に追加

抽選部３０３は、計測部３０２によって計測されたラウンド数を示す情報と、主制御部の大当たりの内容を示す情報とに基づいて、ステージ移行抽選をおこなう。 - 特許庁

In addition, it is also provide with an X linear motor 4 and a Y linear motor 5 as a driving mechanism for driving the stage, and the controller controls the driving mechanism, on the basis of the corrected measurement result of the laser interferometers 3x and 3y.例文帳に追加

また、前記ステージを駆動する駆動機構であるＸリニアモータ４とＹリニアモータ５をさらに備え、前記コントローラは前記補正したレーザ干渉計３ｘ，３ｙの計測結果に基づいて前記駆動機構を制御する。 - 特許庁

To evaluate nondestructively the degree of damage of a heat-insulating coating film with high measurement sensitivity from an initial stage of operation of equipment on which the heat-insulating coating film is formed.例文帳に追加

測定感度が高く、遮熱コーティング皮膜を形成した機器の運転の初期段階から遮熱コーティング皮膜の損傷程度を非破壊的に評価することを可能にする。 - 特許庁

Then, by using the measurement values of the two pairs of Y heads and the pair of X heads, a position of the wafer stage within a two-dimensional plane is stably and highly-accurately measured.例文帳に追加

そして、２つのＹヘッド対と１つのＸヘッド対の計測値を用いてウエハステージの２次元平面内での位置を、安定かつ高精度に計測する。 - 特許庁

A measuring part 5 is provided in a preceding stage of a fabricating part 3, and the length of a building material to be input into the fabricating part 3 is measured in the measuring part 5, and measurement data of the building material length is supplied to a management part 6.例文帳に追加

加工部３の前段に測定部５を設け、この測定部５で加工部３に投入される建材４の長さを実測し、建材長の実測データを管理部６へ供給する。 - 特許庁

A raw material feed control system performs in-line measurement of raw gas mixture to be fed via a vaporizer/mixer 6 so as to deposit an organic metal thin film (e.g., PZT film) of the target composition by an FTIR analyzer 11 in a preceding stage of a CVD apparatus 8.例文帳に追加

目標組成の有機金属薄膜（例、ＰＺＴ膜）を形成すべく、気化器・混合器６を経て供給される原料混合ガスをＣＶＤ装置８前段でＦＴＩＲ分析計１１によりインライン測定する。 - 特許庁

To provide a projection system that prevents an increase in delay time that occurs between a time point at which a level sensor makes measurement and a time point at which a substrate stage moves in an on-the-fly leveling process.例文帳に追加

オンザフライレベリングで、レベルセンサの測定と基板ステージの移動との間に生じる遅延時間の増加を防ぐ投影システムを提供する。 - 特許庁

On each measurement stage 15, a sensor unit 12 is fixed by being sandwiched between the prism and the path member 20 to bring a flow path 16 into pressure contact with the sensor unit 12.例文帳に追加

各測定ステージ１５は、プリズムと流路部材２０とによってセンサユニット１２を挟持固定し、センサユニット１２に流路１６を圧接させる。 - 特許庁

When the variation of the arterial volume of the peripheral site is equal or more than a predetermined ratio of a standard value at the initial stage of measurement, the servocontrol and the determining process of blood pressure are continued (step S210-S218).例文帳に追加

末梢部位の動脈容積の変化量が、測定初期時の基準値の所定比率以上であれば、サーボ制御および血圧の決定処理は継続される（ステップＳ２１０〜Ｓ２１８）。 - 特許庁

A range selector selects a power monitor stage that provides a measurement signal showing input light power from the one or more power monitor stages.例文帳に追加

ある実施形態では、範囲選択器は、上記１つ以上のパワーモニタステージのうちのどれが入力光パワーを示す測定信号を供給していくかを選択する。 - 特許庁

To provide an X-ray inspection device, which photographs fluorescent X-ray images of an object to be measured being on various positions, by moving an X-ray detector or a stage, while preventing the object to be measured and an X-ray measurement optics from being damaged.例文帳に追加

Ｘ線測定光学系と被測定物との破損を防止しつつ、Ｘ線検出器又はステージを移動させることにより、様々な位置の被測定物の透視Ｘ線像を撮影できるＸ線検査装置を提供する。 - 特許庁

In addition, the system inputs the measurement data to first neural networks 22A and 22B provided at every spot and predicts a traffic jam by inputting the outputted results of the networks 22A and 22B to a second-stage neural network 23.例文帳に追加

またこれらの計測データを各地点毎に設けた第１のニューラルネットワーク２２に入力し、出力結果を第２段のニューラルネットワーク２３に入力して交通渋滞の予測を行う。 - 特許庁

By obtaining the difference between the obtained measurement results D1, D2, the displacement amount of the pattern 21 itself in the X axis direction is canceled out, and the amount of variation of the position of the stage 1 during movement at each position in the X axis direction is calculated.例文帳に追加

そして、得られた測定結果Ｄ１，Ｄ２の差分をとることにより、パターン２１自体のＸ軸方向の変位量を相殺し、移動中のステージ１の各位置におけるＸ軸方向についての位置の変化量を算出する。 - 特許庁

The θ-directional direction of the chucks 10a, 10b is detected from measurement results and based upon the detection result, the chucks 10a, 10b are rotated in the θ direction by the third stage 17 to position the substrate 1 in the θ direction.例文帳に追加

測定結果からチャック１０ａ，１０ｂのθ方向の傾きを検出し、検出結果に基づき、第３のステージ１７によりチャック１０ａ，１０ｂをθ方向へ回転して、基板１のθ方向の位置決めを行う。 - 特許庁

The variation Δh of the wafer stage 4 generated after setting a temperature is obtained by non-contact measuring instruments 6b and 6c, and a value H at the beginning of the measurement is corrected.例文帳に追加

非接触の測定器６ｂ，６ｃで温度設定後に生じるウェハステージ４の変化量Δｈを求め、当初測定された値Ｈに対する補正を行う。 - 特許庁

In measurement, the NchMOSFET N1 and N2 are turned on to actuate the driver stage 2, the output part 3, and the buffer chain 5 as a ring oscillator comprising differential amplification circuits of eight stages.例文帳に追加

そして、測定時にＮｃｈＭＯＳＦＥＴＮ１及びＮ２をオン状態にし、ドライバ段２、差動出力部３、及びダミーバッファチェーン５を８段の差動増幅回路からなるリング発振器として動作させる。 - 特許庁

The measurement of the AC power flowing in the wafer allows the fault of the thin film to be monitored with high accuracy and the fault to be found at an early stage at low cost, without newly adding a monitor of the film forming device.例文帳に追加

このウェハを流れる交流電力測定で薄膜異常を精度よく監視し、早期に異常を発見することを、新たに成膜装置の監視装置を追加することなく低コストにできる。 - 特許庁

When injection is continuously carried out at short injection time intervals like multiple stage injection, pressure rise due to injection induces pressure vibration by resonance or the like in the measurement chamber 202, and an end surface of the bellows 20 vibrates.例文帳に追加

多段噴射のように短い噴射時間間隔で連続して噴射が実施されると、噴射による圧力上昇が計測室２０２内で共振等により圧力振動になり、ベローズ２０の端面が振動する。 - 特許庁

To provide a precise and reliable parallelism measurement method and a precise and reliable parallelism adjustment method by measuring the parallelism between a bonding head and a substrate retention stage in the same state as an actual bonding.例文帳に追加

実際のボンディング時と同じ状態でボンディングヘッドと基板保持ステージの平行度を測定することにより、精度良くかつ信頼性が高い平行度測定方法および平行度調整方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an aligning method, a base line measurement method and aligning device, capable of eliminating influences of misalignment of a stage at exposure, and conducting more accurate superimposing.例文帳に追加

露光時のステージの位置ずれの影響を排除でき、より正確に重ね合わせを行うことが可能な位置合わせ方法、ベースライン計測方法、および位置合わせ装置を提供する。 - 特許庁

An optical module assembly device is equipped with a stage 4 on which the light emitting element 1 can be mounted, a hand capable of grasping the optical part 2 and moving it in a uniaxial direction, and the FFP optical measurement system 3.例文帳に追加

本発明の光モジュールの組立装置は、前記発光素子１を搭載可能なステージ４と、前記光学部品２を把持し、これを少なくとも一軸方向に移動可能なハンド５と、前記FFP光学測定系３を備えたものである。 - 特許庁

To provide an optical characteristic measuring apparatus 2 for realizing effective measurement, and also to provide an optical characteristic measuring method without deterioration in movement performance of a moving stage.例文帳に追加

移動ステージの運動性能を悪化させることなく、効率的な計測が可能な光学特性測定装置２、光学特性測定方法を提供する。 - 特許庁

Distance measurement is repeated while the glass substrate 300 is rotated by the stage 130 and a contour shape of the inner peripheral part is plotted by a personal computer 170.例文帳に追加

ステージ１３０がガラス基板３００を回転させながら上記の距離測定を繰り返し、パソコン１７０にて内周の輪郭形状をプロットする。 - 特許庁

To provide a measurement method and a measuring apparatus of the amount of axial displacement that can precisely measure the amount of axial displacement, even if the path line of a multi-stage rolling mill and the optical axis of an imaging device do not coincide.例文帳に追加

多段圧延機のパスラインと撮像装置の光軸とを一致させなくとも、精度良く芯ずれ量を測定することのできる芯ずれ量測定方法及び測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a height measuring apparatus in which the accuracy of the height measurement of a sample is increased, which is not influenced by the reflectance of the sample while the number of times of the movement of a Z-stage is reduced and which can acquire an image focused on the whole face.例文帳に追加

試料の高さ計測の精度を高め、Ｚステージの移動回数を少なくしつつも、試料の反射率の影響を受けず、また全ての面にピントの合った画像も取得することが可能な高さ測定装置を提供する。 - 特許庁