wafer Yとは 意味・読み方・使い方

Polishing work is performed by vibrating the blocks up and down with respect to the wafer while feeding the polishing belt and by slightly vibrating the wafer in the X and Y directions.例文帳に追加

研磨作業は研磨ベルトを繰り出しながらブロックをウエハに対して上下に振動させ、ウエハはＸＹ方向に微振動させて行う。 - 特許庁

The plurality of alignment systems can thus simultaneously measure a plurality of marks on the wafer when the wafer stage WST is moved in the Y axis direction.例文帳に追加

このため、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の移動の際に、ウエハ上の複数のマークを複数のアライメント系で同時に計測可能になる。 - 特許庁

Semiconductor processing apparatus is disclosed which provides for movement of a scanning arm 60 of the wafer holder 180, in two orthogonal directions (X and Y directions).例文帳に追加

ウエハホルダー１８０の走査アーム６０は直交する二方向（ＸＹ方向）に移動される。 - 特許庁

In this epitaxial wafer 10 for a light-receiving element, having a light receiving layer 3 and a window layer 4 adjoining the layer 3, the window layer 4 is made of InAs_yP_(1-y), where 0<y≤1.例文帳に追加

この発明は、受光層３と、該層３に接する窓層４とを備える受光素子用エピタキシャルウェーハ１０において、窓層４がＩｎＡｓ_yＰ_(1-y)（０＜ｙ≦１）からなる、ことを特徴としている。 - 特許庁

The second target 5b has a hollow disk shape larger than the wafer 3, and is disposed at the position so that the distance Y from the wafer 3 is 50-100 mm.例文帳に追加

また、第２ターゲット５ｂは、ウェーハ３よりも大きい中空円板形状を有し、ウェーハ３との距離Ｙが５０〜１００ｍｍとなる位置に配置されている。 - 特許庁

A high quality wafer includes Al_xGa_yIn_zN (in the formula, 0<y≤1 and x+y+z=1) characterized by the root square average surface roughness of less than 1 nm in an area of 10×10 μm^2 on the Ga side of the wafer.例文帳に追加

ウェーハのＧａ側における１０×１０μｍ^2面積内で１ｎｍ未満の根二乗平均表面粗さを特徴とする、Ａｌ_xＧａ_yＩｎ_zＮ（式中、０＜ｙ≦１およびｘ＋ｙ＋ｚ＝１）を含む高品質ウェーハ。 - 特許庁

Using the addresses in the X and Y directions of the chips 1a, the center 1b of the wafer 1 is calculated.例文帳に追加

それらのＸ方向のアドレス及びＹ方向のアドレスを用い、ウェハ１の中心１ｂが算出される。 - 特許庁

A wafer W as an object to be exposed is held by a stage constituted of an X-stage to be driven in an X'-axial direction and a Y-stage to be driven in a Y'-axial direction.例文帳に追加

露光対象としてのウエハＷを、Ｘ’軸方向に駆動されるＸステージ及びＹ’軸方向に駆動されるＹステージからなるステージに保持する。 - 特許庁