stepperを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 261件
To prevent foreign matter from sticking to the exposure pattern region of a photomask applicable to the 157 nm photolithography technique, electron beam lithography technique and EUV (extreme-ultraviolet radiation) lithography technique when the photomask is delivered, stored and attached to a stepper after production and to make the top of the exposure pattern region free of a shielding material in exposure.例文帳に追加
１５７ｎｍの光リソグラフィ技術、電子線リソグラフィ技術及びＥＵＶリソグラフィ技術に適用可能なフォトマスクに対し、フォトマスクを製造した後、納品時や保管時、ステッパーへの装着時などに異物が露光パターン領域に付着することを防止し、且つ露光の際には露光パターン領域上に遮蔽物が存在しないようにする。 - 特許庁
The system includes a processor 33 having an element constituted so that the optimum motor bias route for a deep reactive ion etcher 22 is determined on a wafer, a stepper for imprinting a pattern of the gyro in the direction corresponding to the optimum motor bias route calculated to be the nearest to each gyro on the wafer, and a deep reactive ion etcher 37 for etching the gyro on the wafer.例文帳に追加
システムは、ウェハ上で深反応性イオンエッチャ２２用の最適モータバイアス経路を決定するように構成された要素を備えたプロセッサ３３、ウェハ上で各ジャイロに最も近いものと算出された最適モータバイアス経路に対応した向きに該ジャイロのパターンをインプリントするステッパ３５及びウェハにジャイロをエッチングする深反応性イオンエッチャ３７を含む。 - 特許庁
To provide a method of forming a film by a catalytic chemical vapor deposition method using a unit layer post-treatment, the method improving within-wafer nonuniformity of a silicon nitride film or the like, stepper coverage, and film quality such as an I-V breakdown voltage characteristic, and laminating and forming a thin film by forming films on a unit layer basis and thereafter executing surface treatment thereto.例文帳に追加
シリコン窒化膜などの面内均一性の向上、ステップカバレッジの向上及びＩ−Ｖ耐圧特性などの膜質の向上を図ることができるとともに、単位層ごとに成膜後、表面処理して薄膜を積層形成することができる単位層ポスト処理を用いた触媒化学蒸着法による成膜方法を提供する。 - 特許庁
Lenses 12, 13, 14 and 22 for forming the stepper 1 are formed from a synthetic quartz glass member having a characteristic which is a dissipation factor of ≤0.0050 cm-1 at 193.4 nm, measured after irradiated with 1×104 pulses ArF excimer laser at an energy density of 0.1 μJ/cm2.p to 200 mJ/cm2.p.例文帳に追加
そして、ステッパー１を構成するレンズ類１２，１３，１４，２２を、ＡｒＦエキシマレーザを０．１μＪ／ｃｍ^2・ｐ以上２００ｍＪ／ｃｍ^2・ｐ以下のエネルギー密度で１×１０^4パルス照射したとき、照射後に測定される１９３．４ｎｍにおける損失係数が０．００５０ｃｍ^-1以下となる特性を有する合成石英ガラス部材により構成する。 - 特許庁
The mask stage to be mounted on the stepper for transferring a fine pattern on the resist of a substrate by photolithography for holding the gas for preventing the resist of the substrate from oxidation is characterized, by forming with ceramics-metal composite material and by forming a compacted film over the surface of the ceramics-metal composite.例文帳に追加
微細なパターンをフォトリソグラフィーにより基板のレジストに転写する露光装置に搭載されるマスクステージであって、該基板のレジストの酸化防止をするための気体を収容するマスクステージがセラミックス−金属複合材料からなり、かつ、該セラミックス−金属複合材の表面に緻密質の膜が形成されていることを特徴とする露光装置用マスクステージ。 - 特許庁
To provide a method for reducing oxygen and carbon components contained in high purity fluorides, such as calcium fluoride, barium fluoride used as a material for a stepper lens of an exposure device for photolithography, or the like, or in rare earth fluorides such as ytterbium fluoride, cerium fluoride, used as a material for an optical fiber, a coating material, or the like.例文帳に追加
フォトリソグラフィ用露光装置などのステッパーレンズ材料である弗化カルシウムや弗化バリウムなどの高純度弗化物（高純度弗化物は、弗化カルシウムおよび弗化バリウムの限りではない）、また光ファイバーやコーティング材料などに使用されている弗化イッテルビウムや弗化セリウムなどの希土類弗化物に含まれる酸素・炭素成分を低減する方法を提供する事。 - 特許庁
The infant care apparatus is provided with a first sensor 38 for detecting that the door is in the closed position, a sensor 52 for detecting that the heater is in a predetermined position between the upper position and the lower position, and further a control device which receives signals from these sensors and controls a stepper motor 30 to stop the further operation of the door to the open position when the door is not in the closed position.例文帳に追加
扉が閉鎖位置にあることを検出する第１のセンサ３８が設けられ、加熱器が上方位置と下方位置との間の所定の位置にあることを検出するセンサ５２が設けられ、さらに、これらセンサからの信号を受け取り、扉が閉鎖位置にない場合、開放位置への扉のそれ以上の動作を止めるようステッピングモータ３０を制御する制御装置を有する。 - 特許庁
This reduction stepper 1 is equipped with a light emitting part 10 emitting autofocusing light 12 having wavelength corresponding to the color of the photosensitive colored resist to be exposed, and is equipped with long wavelength, middle wavelength and short wavelength cut filters 15, 16 and 17 as a wavelength cut filter group 14 capable of getting in/out of the optical path of the light 12 in order to obtained the light 12.例文帳に追加
縮小投影露光装置１は、露光される感光性着色レジストの色に対応した波長のオートフォーカス光１２を発光する発光部１０を備えたものであって、そのオートフォーカス光１２を得るために、オートフォーカス光１２の光路に出し入れ可能な波長カットフィルタ群１４として、例えば長波長，中波長，短波長カットフィルタ１５，１６，１７を備えたものである。 - 特許庁
To provide a fluoride single crystal having a diameter of not less than 50 mm in the cross section perpendicular to the axis of the crystal growth direction and capable of obtaining a sufficient resolution performance when used as a lens material for a stepper, and to provide a growing method of such a fluoride single crystal capable of easily and reliably growing it and a lens composed of such a fluoride single crystal.例文帳に追加
結晶育成方向軸に垂直な断面の直径が５０ｍｍ以上であって、ステッパー用レンズ材料として用いた場合に十分な解像性能が得られるフッ化物単結晶、及び、かかるフッ化物単結晶を容易且つ確実に育成することが可能なフッ化物単結晶の育成方法、並びに、かかるフッ化物単結晶からなるレンズを提供する。 - 特許庁
This semiconductor element manufacturing system is equipped with a stepper 300 for performing alignment on a wafer by using laser beams while stepping the wafer at predetermined intervals, and an electron beam alignment 100 for performing alignment on the wafer by irradiating the wafer with a plurality of electron beams at intervals substantially N times (N is a natural number) or 1/N times as long as the predetermined interval.例文帳に追加
ウェハを所定の間隔でステップさせながら、レーザ光を用いて前記ウェハに露光処理を行うステッパ３００と、複数の電子ビームを当該所定の間隔の実質的にＮ倍（Ｎは自然数）、又は１／Ｎ倍の間隔を隔ててウェハに照射することにより、ウェハに露光処理を行う電子ビーム露光装置１００とを備えることを特徴とする半導体素子製造システムを提供する。 - 特許庁
LIGHT SOURCE EQUIPMENT FOR STEPPER SYSTEM例文帳に追加
半導体製造にかかせないステッパー装置は技術進歩により、その光線巾は１０−７メートルの精度を持つ光源装置が求められる様になった。これを解決させるには投光源を紫外線に求め波長の一番短いものとし、レンズ、プリズム、反射鏡は不純物の無い素材を用い、レンズは球面収差の起きない様加工する。レンズ、プリズム、反射鏡の加工は長時間かけグリースオイルは植物油を用い加工面を保護し組立調整に際しては装置を真空とし周囲は完全シールドにて仕上げるものとする。 - 特許庁
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