| 意味 | 例文 |
use dependencyの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 61件
To provide a resin composition containing a cycloolefin ring-opened copolymer and producing an optical part having excellent transparency, heat-resistance, solubility in organic solvents, strength and processablity and a specific wavelength-dependency of birefringence and to provide a film derived from the composition, an optical part and its use.例文帳に追加
本発明は、透明性、耐熱性、有機溶媒への溶解性、強度、および加工性に優れ、特異な複屈折の波長依存性を有する光学部品を製造し得る、環状オレフィン系開環共重合体を含む樹脂組成物、それから得られるフィルム、光学部品ならびにその用途を提供することを課題としている。 - 特許庁
To provide a gas-barrier film laminate which has excellent gas-barrier properties and moisture-proof properties equivalent to those of metal foil and suppressed in temperature and humidity dependency, can see contents from the outside, can use a metal detector, and uses a wide range of plastic materials excellent in film making properties and adhesivenss as a base material and is friendly to environment.例文帳に追加
金属箔並で且つ温湿度依存性が抑制された優れたガスバリア性及び防湿性を有し、内容物が透視可能で且つ金属探知器が使用でき、また広範囲なプラスチック材料を基材として成膜性・密着性に優れ、更に環境にやさしいガスバリア性フィルム積層体を提供する。 - 特許庁
To provide a toner for electrostatic charge image development which maintains excellent peelability and good glossiness in oil-less fixing, has excellent fixing characteristics, such as surface glossiness of a fixed image and OHP transparency, makes a fine image obtainable by suppressing a roll touch trace at the time of discharging the fixed image and is low in use environmental dependency.例文帳に追加
オイルレス定着において優れた剥離性、良好な光沢性を維持し、定着像表面光沢性、ＯＨＰ透明性といった定着特性に優れ、定着画像排出の際のロール当接痕を抑制することによる精細な画像が得られ、且つ、使用環境依存性が少ない静電荷現像用トナーを提供すること。 - 特許庁
To provide a mold release film provided with a release layer satisfactory in a thermal dimensional change, excellent in printability, in a printing process for shallow drawing to middle drawing use, excellent in moldability because easily elongated at a low stress, capable of obtaining a molding excellent in glossiness feeling, and capable of making application thickness dependency of a separation force as lower as possible.例文帳に追加
浅絞り〜中絞り用途の印刷工程において、熱寸法変化が良好で印刷性に優れ、低応力で容易に伸びるため成形性良好であり、高光沢感に優れた成形品を得ることが可能であり、剥離力の塗布厚み依存性が極力小さい離型層が設けられた離型フィルムを提供する。 - 特許庁
On a substrate having a group pattern, magnetic films are laminated in such a laminating order as a magnetic wall movement layer comes on the front side, and this magnetic film surface is etched by sputtering accelerated ions made incident thereto from the direction perpendicular to the substrate, and the magnetic wall movement layer on the group side is selectively etched and removed by making use of ionic incident angle dependency of a sputtering rate.例文帳に追加
グルーブパターンを有する基板上に、磁壁移動層が表面側になるような積層順で磁性膜を積層し、この磁性膜表面を、基板に垂直な方向から入射する加速イオンによってスパッタエッチングし、スパタリング率のイオン入射角依存性を利用してグルーブ側部の磁壁移動層を選択的にエッチング除去する。 - 特許庁
Minimum/maximum value determiner 21 determines minimum/maximum values among vector elements by use of a calculation result of a fixed-point calculation unit 12 for executing an address dependency source instruction in accordance with a vector gather or vector scatter instruction, and holds the minimum/maximum value in a minimum/maximum value register part 31.例文帳に追加
最小値最大値判定器２１でベクトルギャザー命令又はベクトルスキャッター命令に対するアドレスの依存元命令を実行する固定小数点演算器１２の演算結果を用いてベクトル要素の最小値及び最大値を判定する最小値最大値判定し、この最小値及び最大値を最小値／最大値レジスタ部３１に保持しておく。 - 特許庁
To provide a chemically amplified resist composition suitable for use of an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to more specifically provide a chemically amplified resist composition excellent in sensitivity and dissolution contrast when using a light source of 157 nm and improved in development defects and density distribution dependency, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加
２５０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適な化学増幅型レジスト組成物、より具体的には１５７ｎｍの光源使用時の感度、溶解コントラストに優れており、尚且つ、現像欠陥、疎密依存性が改良された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
An interval between the first and second waveguide forming regions 10a, 10b is varied by the high thermal expansion coefficient member 7 in accordance with the environmental temperature in use, the output end 20 of the light input waveguide 2 is moved in the directions of the arrows A', B', and the variation of temperature dependency of respective light transmission central wavelengths of the array waveguide type diffraction grating is reduced.例文帳に追加
使用環境温度変化に応じて高熱膨張係数部材７により第１と第２の導波路形成領域１０ａ，１０ｂの間隔を可変し、光入力導波路２の出力端２０を矢印Ａ’，Ｂ’方向に移動し、アレイ導波路型回折格子の各光透過中心波長の温度依存変動を低減する。 - 特許庁
To provide a projection lens of a coaxial system suitable to, specially, a projection type display device etc., such as a liquid crystal projector by using a diffraction optical element which has high diffraction efficiency in the whole use wavelength range (light in visible region) and can reduce incidence angle dependency of light incident on the diffraction optical element.例文帳に追加
使用波長全域（可視光域）において、回折光学素子の回折効率が高く、且つ前記回折光学素子に入射する光の入射角依存を低減できるような前記回折光学素子を用い、特に液晶プロジェクタ等の投射型の表示装置等に好適な共軸系の投射用レンズを提供することを目的とする。 - 特許庁
The resist material containing the nitrogen-containing organic compound provides high resolution and satisfactory mask coverage dependency, is useful in microfabrication using an electron beam or far-ultraviolet radiation, and is suitable for use as a fine pattern forming material for VLSI production.例文帳に追加
（Ｒ^1は両端で結合する窒素原子と共に含窒素へテロ脂肪族環又は含窒素ヘテロ芳香族環を形成する炭素数２〜２０の２価の置換基を表し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はハロゲン原子を含んでもよい。Ｒ^2は炭素数２〜１０のカルボニル基を含んでもよいアルキレン基。Ｒ^3は炭素数２２〜５０の水酸基、カルボニル基、エステル基、エーテル基又はシアノ基を含んでもよいアルキル基又はアシル基。） - 特許庁
When an insulating layer 5 as the protecting film for the heating element 8 constituted of a heating resistance layer 3 and a wiring electrode 4 layered on an Si substrate 1 is formed by a dry film formation method such as CVD with the use of ceramic aluminum nitride which shows the crystal orientation dependency of a thermal conductivity, the thermal conductivity is made anisotropic by orienting and forming thin the film by an electronic shower method.例文帳に追加
Ｓｉ基板１上に積層する発熱抵抗層３と配線電極４で構成される発熱素子８の保護膜としての絶縁層５を、熱伝導率の結晶方向依存性を示すセラミックス窒化アルミニウムを用いてＣＶＤ等の乾式成膜法で成膜する際に、電子シャワー法により配向薄膜化して熱伝導率に異方性をもたせる。 - 特許庁
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