「フィーチャ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

初期モデルに対して複数のフィーチャから成るフィーチャ群が用意される（５０）。例文帳に追加

A feature group formed of plural feature is prepared for an initial model (50). - 特許庁

プリントエンジンが感知するフィーチャとしては、インク識別フィーチャ２０１、インクレベル観察または指示フィーチャ２０３、トーフィーチャ２０５、およびブランド識別フィーチャ２０７がある。例文帳に追加

As the features sensed by the printing engine, an ink identification feature 201, an ink level observation or designation feature 203, a tow feature 205, and a brand identification feature 207 are included. - 特許庁

タッグ車軸アセンブリが、第１の接続フィーチャと噛み合う第３の接続フィーチャを含む。例文帳に追加

A tag axle assembly includes third connection features for mating with the first connection features. - 特許庁

フィーチャの平衡中心に基づいて、フィーチャ内の異なる方向におけるフィーチャの複数の分散値を計算し、被検査フィーチャのための独特な“シグネチャ”を発生させる。例文帳に追加

The plural dispersion values of the features in the different directions with in the features are calculated in accordance with the equilibrium center of the features and the unique 'signatures' for the features to be inspected are generated. - 特許庁

位置合わせフィーチャを有する使い捨て式処理バッグ例文帳に追加

DISPOSABLE BAG HAVING POSITIONING FEATURE - 特許庁

位置を測定されたフィーチャは、測定したフィーチャとフィーチャの間の相対位置と、設計から既知の相対位置とを比較することによって識別される。例文帳に追加

The feature whose position has been measured is identified by comparing relative positions between the measured features and the known relative position from design. - 特許庁

基板の表面フィーチャを銅で充填する方法例文帳に追加

METHOD OF FILLING SURFACE FEATURE OF SUBSTRATE WITH COPPER - 特許庁

メッシュデータをフィーチャに利用したリバースモデリングの方法例文帳に追加

REVERSE MODELING METHOD USING MESH DATA AS FEATURE - 特許庁

光学近接効果（ＯＰＥ）は主フィーチャと隣接するフィーチャの間の構造的相互作用に起因する。例文帳に追加

Optical proximity effect(OPE) is caused by structural interaction between a main feature and an adjacent feature. - 特許庁

アップグレードされたメディア・フィーチャを購入するための装置例文帳に追加

APPARATUS FOR PURCHASING UPGRADED MEDIA FEATURES - 特許庁

２次元フィーチャ・モデルの較正および最適化方法例文帳に追加

METHOD OF TWO DIMENSIONAL FEATURE MODEL CALIBRATION AND OPTIMIZATION - 特許庁

アクションは、３次元モデル中の一連のフィーチャを並べ替えるアクション、フィーチャの少なくとも１つのパラメータを変更するアクション、フィーチャ参照を削除するアクション、またはフィーチャ参照を変更するアクションでよい。例文帳に追加

The actions may be an action for rearranging a series of features in the three-dimensional model, an action for changing at least one parameter of the features, an action for deleting feature reference or an action for changing the feature reference. - 特許庁

この宣言的なシステムは、いくつかの機能フィーチャを有する。例文帳に追加

This declarative system has several functional features. - 特許庁

遠隔通信フィーチャを分散処理する集中コントローラ例文帳に追加

CENTRALIZED CONTROLLER FOR DISTRIBUTED PROCESSING OF TELECOMMUNICATION FEATURE - 特許庁

レイヤ中にフィーチャを形成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a feature in a layer. - 特許庁

ＣＡＤデータ同一性検証装置は、まず、２つのＣＡＤデータにおいて、フィーチャを対応させ、このフィーチャの対応から、それぞれのフィーチャの属性情報を対応させる。例文帳に追加

The device first makes the feature correspond in the two CAD data, and then makes the attribute information of each feature correspond from the feature's correspondence. - 特許庁

多層電子コンポーネントのための端子フィーチャを設ける例文帳に追加

To provide a terminal feature for a multilayer electronic component. - 特許庁

マスク・レイアウト内に印刷補助フィーチャを配置する方法、印刷補助フィーチャを生成するシステム、およびプログラム例文帳に追加

METHOD OF ARRANGING PRINTING ASSIST FEATURES IN MASK LAYOUT, SYSTEM FOR GENERATING THE PRINTING ASSIST FEATURES, AND PROGRAM - 特許庁

半導体フィーチャは、半導体フィーチャを第１の電極および第２の電極に分割する溝を画成する。例文帳に追加

The semiconductor feature defines a groove for dividing the semiconductor feature itself into a first electrode and a second electrode. - 特許庁

同一平面回路フィーチャを有する構造およびその製法例文帳に追加

STRUCTURE WITH FLUSH CIRCUIT FEATURE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

反射の画像上の複数のフィーチャ位置とパターン上の複数のフィーチャ位置との間の第１の関係が決定される。例文帳に追加

A first relation between feature positions on the image of the reflection and feature positions on the pattern is determined. - 特許庁

フォトマスク・レイアウトにサブレゾルーション・アシスト・フィーチャを組み込む方法例文帳に追加

METHOD OF BUILDING SUB-RESOLUTION ASSIST FEATURE TO PHOTOMASK LAYOUT - 特許庁

エッチングレイヤ中にフィーチャを形成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming features in an etch layer. - 特許庁

孤立したフィーチャを、局部的に画素毎に解析するのではなく、個々の、全フィーチャとしてグローバルに欠陥を解析する。例文帳に追加

Not the isolated features are locally analyzed by each of pixels but defects are globally analyzed as the individual total feature. - 特許庁

集積回路フィーチャを形成するための方法およびプログラム例文帳に追加

METHOD AND PROGRAM FOR FABRICATING INTEGRATED CIRCUIT FEATURE - 特許庁

複数の第１のフィーチャを含む第１のマスクが、フィーチャの欠陥に関して検査され欠陥データが記憶される２０。例文帳に追加

A first mask including a plurality of first features is inspected for defects in the features, and defect data are stored (step 20). - 特許庁

ユーザは、それらフィーチャを適宜マクロに組み込めばよい（５４）。例文帳に追加

The user can properly incorporate the features in a macro (54). - 特許庁

拡張された通信フィーチャを有するデジタルダウンロードジュークボックス例文帳に追加

DIGITAL DOWNLOAD JUKEBOX WITH EXPANDED COMMUNICATION FEATURE - 特許庁

フィーチャのピッチに基づくパターン分解を行うための方法例文帳に追加

METHOD FOR PERFORMING PATTERN DECOMPOSITION BASED ON FEATURE PITCH - 特許庁

補助バーを密集詰め込みフィーチャに整合させることによって、孤立フィーチャの組み合わされた回折パターンは変形して、密集詰め込みフィーチャの回折パターンによく似たものとなる。例文帳に追加

By matching the assist bars to the densely packed features, the combined diffraction pattern of the isolated features is modified to more closely resemble the diffraction pattern of the densely packed features. - 特許庁

被検査フィーチャのシグネチャのエネルギ及び分散値と、対応する参照フィーチャに関連するエネルギ及び分散値とを比較し、被検査フィーチャ内の欠陥の存否を決定する。例文帳に追加

The energy and dispersion values of the signatures of the features to be inspected and the energy and dispersion values associated with the corresponding reference features are compared and the presence or absence of the defects within the features to be inspected is decided. - 特許庁

そして、フィーチャの抑制後の画像データの出力を行う。例文帳に追加

Then, the output of image data after suppression of the feature is performed. - 特許庁

メモリ・セルは、半導体フィーチャおよび相変化材料を含む。例文帳に追加

To provide a memory cell etc. containing semiconductor features and a phase-change material. - 特許庁

直接書込みナノリソグラフィック印刷による固体フィーチャのパターニング例文帳に追加

PATTERNING OF SOLID BODY FEATURE BY DIRECT INPUT NANOLITHOGRAPHIC PRINTING - 特許庁

フィーチャと、属性情報は、識別番号によって対応づけられており、フィーチャに意味的な情報を付与することができる。例文帳に追加

The feature and the attribute information are correlated by identification numbers and the semantic information can be added to the feature. - 特許庁

フィーチャの側壁および底面をバリア層によって覆い、フィーチャに金属を、好ましくは電気めっきによって充てんする。例文帳に追加

A side wall and bottom surface of a feature are covered with a barrier layer, and the feature is filled with metal preferably by electrolytical plating. - 特許庁

マスクの位置は、識別されたフィーチャの測定位置から、識別されたフィーチャの既知の位置を引き算することによって得られる。例文帳に追加

The position of the mask is obtained by subtracting the known position of the identified feature from the measurement position of the identified feature. - 特許庁

フィーチャ指向ソフトウェア製品ライン工学の方法論を支援するフィーチャ指向ソフトウェア再利用の開発環境システムを提供する。例文帳に追加

To provide a development environment system for feature-oriented software reuse, supporting methodology of feature-oriented software product line engineering. - 特許庁

また、Ｓｉフィーチャはミスカット角度を有して形成され得え、その結果、Ｓｉフィーチャの平面内に段差が形成される。例文帳に追加

In addition, the Si feature having miscut angles can be formed, as a result, level differences are formed in the plane of the Si feature. - 特許庁

コンタクト・ホールなどの特定フィーチャを含む結像フィーチャの解像度を改善するリソグラフィ・デバイス製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a lithography device for improving the resolution of image formation features including specific features such as a contact hole. - 特許庁

ぼやけの影響は、同様の水平フィーチャと垂直フィーチャとの間の限界寸法の差を低減するために使用される。例文帳に追加

The effect of the blur is used to reduce a difference of a limit dimension between a horizontal feature and a vertical feature. - 特許庁

マスクは、基板上に焼き付けるべき複数の解像可能なフィーチャと、少なくとも１つの解像不可能な光近接補正フィーチャとを備え、解像不可能な光近接補正フィーチャは位相エッジである。例文帳に追加

The mask has a plurality of resolvable features to be printed on the substrate and at least one non-resolvable proximity correction feature, where the non-resolvable proximity correction feature is a phase-edge. - 特許庁

第１の接続フィーチャは、第２の接続フィーチャか第３の接続フィーチャを受け入れ、移動式クレーンは選択的に高速移動の構成となるか、選択的に作業操作の構成となり得る。例文帳に追加

The first connection feature receives the third connection feature from the second connection feature, and the mobile crane can selectively have the configuration of high speed movement or selectively have the configuration of working operation. - 特許庁

次いで、最終フィーチャが、モデル化され、変数の値が、最適化される。例文帳に追加

A final feature is then modeled, and values of the variables are optimized. - 特許庁

オブジェクトのモデルのフィーチャに解析を組込んで利用する方法例文帳に追加

METHOD FOR INCORPORATING ANALYSIS TO FEATURE OF MODEL OF OBJECT AND ITS USING METHOD - 特許庁