「フィーチャ」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

物体内で無秩序に分布したフィーチャを符号化するシステムおよび方法例文帳に追加

SYSTEM AND METHOD FOR ENCODING FEATURES DISTRIBUTED DISORDEREDLY INSIDE OBJECT - 特許庁

フィーチャチェーンを使用するモデル管理技術を提供すること。例文帳に追加

To provide a model management technology using feature chains. - 特許庁

同一平面回路フィーチャを有する構造およびその製法例文帳に追加

STRUCTURE WITH FLUSH CIRCUIT FEATURE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

アップグレードされたメディア・フィーチャを購入するための装置例文帳に追加

APPARATUS FOR PURCHASING UPGRADED MEDIA FEATURES - 特許庁

アライメント領域内におけるフィーチャの位置は、設計から既知である。例文帳に追加

The position of the feature in the alignment region is known from design. - 特許庁

コンピュータ支援設計システムのための認識およびアクティブフィーチャ例文帳に追加

RECOGNITION AND ACTIVE FEATURE FOR COMPUTER-AIDED DESIGN SYSTEM - 特許庁

メモリ・セルは、半導体フィーチャおよび相変化材料を含む。例文帳に追加

To provide a memory cell etc. containing semiconductor features and a phase-change material. - 特許庁

集積回路フィーチャを形成するための方法およびプログラム例文帳に追加

METHOD AND PROGRAM FOR FABRICATING INTEGRATED CIRCUIT FEATURE - 特許庁

エッチングレイヤ中にフィーチャを形成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming features in an etch layer. - 特許庁

次いで、最終フィーチャが、モデル化され、変数の値が、最適化される。例文帳に追加

A final feature is then modeled, and values of the variables are optimized. - 特許庁

オブジェクトのモデルのフィーチャに解析を組込んで利用する方法例文帳に追加

METHOD FOR INCORPORATING ANALYSIS TO FEATURE OF MODEL OF OBJECT AND ITS USING METHOD - 特許庁

生体内のフィーチャーを検出するためのシステム及び方法例文帳に追加

SYSTEM AND METHOD FOR IN VIVO FEATURE DETECTION - 特許庁

フィーチャーモデルを適切に作成することを支援できるようにすること。例文帳に追加

To support proper creation of a feature model. - 特許庁

メッシュデータをフィーチャに利用したリバースモデリングの方法例文帳に追加

REVERSE MODELING METHOD USING MESH DATA AS FEATURE - 特許庁

登録された変換ルールに基づいて条文テキストデータから複数のフィーチャを抽出すると共に、フィーチャに係る情報およびフィーチャ同士を関連付ける情報を含む薬事法フィーチャモデルを作成し、データベースへ登録して管理する。例文帳に追加

The device extracts the plurality of features from the article text data based on the registered conversion rules, creates the Pharmaceutical Affairs Law model containing the information regarding the features and the information to associate the features mutually, and registers the model in the database for management. - 特許庁

幾何学的な、または物質に基づく光減衰フィーチャが企図される。例文帳に追加

A geometric or based on matter light attenuation feature is planned. - 特許庁

アクションは、３次元モデル中の一連のフィーチャを並べ替えるアクション、フィーチャの少なくとも１つのパラメータを変更するアクション、フィーチャ参照を削除するアクション、またはフィーチャ参照を変更するアクションでよい。例文帳に追加

The actions may be an action for rearranging a series of features in the three-dimensional model, an action for changing at least one parameter of the features, an action for deleting feature reference or an action for changing the feature reference. - 特許庁

フィーチャー−タグ関連付け情報保存部３１Ｄは、フィーチャーモデル情報保存部２１Ｄに保存されているフィーチャーとタグ情報保存部２２Ｄに保存されているタグとの関連付けを示すフィーチャー−タグ関連付け情報を保存する。例文帳に追加

The feature tag association information storage part 31D stores a feature stored in a feature model information storage part 21D and the feature tag association information showing association with a tag stored in a tag information storage part 22D. - 特許庁

フィーチャのピッチに基づくパターン分解を行うための方法例文帳に追加

METHOD FOR PERFORMING PATTERN DECOMPOSITION BASED ON FEATURE PITCH - 特許庁

第１の接続フィーチャは、第２の接続フィーチャか第３の接続フィーチャを受け入れ、移動式クレーンは選択的に高速移動の構成となるか、選択的に作業操作の構成となり得る。例文帳に追加

The first connection feature receives the third connection feature from the second connection feature, and the mobile crane can selectively have the configuration of high speed movement or selectively have the configuration of working operation. - 特許庁

複数のフィーチャチェーンを組み合わせて、フィーチャオブジェクトからのモデルの構成を定義する階層を表す、フィーチャオブジェクト間の相互関係を形成する。例文帳に追加

Multiple feature chains can be combined to form an interrelationship among feature objects that represents a hierarchy defining construction of the model from the feature objects. - 特許庁

補助バーを密集詰め込みフィーチャに整合させることによって、孤立フィーチャの組み合わされた回折パターンは変形して、密集詰め込みフィーチャの回折パターンによく似たものとなる。例文帳に追加

By matching the assist bars to the densely packed features, the combined diffraction pattern of the isolated features is modified to more closely resemble the diffraction pattern of the densely packed features. - 特許庁

この位相シフトマスクは、第１のフィーチャと第２のフィーチャとの間のスペースを規定する位相シフタを含み、第１のフィーチャは、位相シフトの有効性がスペースを規定する際に低下される十分な大きさである。例文帳に追加

The phase shifting mask includes a phase shifter defining a space between a first feature and a second feature, wherein the first feature is so large that the effectiveness of of phase shifting is degraded in defining the space. - 特許庁

フィーチャー−タグ関連付け部３１は、フィーチャー−タグ関連付け情報保存部３１Ｄに保存されるフィーチャー−タグ関連付け情報を管理するものである。例文帳に追加

A feature tag association part 31 manages feature tag association information stored in a feature tag association information storage part 31D. - 特許庁

位置を測定されたフィーチャは、測定したフィーチャとフィーチャの間の相対位置と、設計から既知の相対位置とを比較することによって識別される。例文帳に追加

The feature whose position has been measured is identified by comparing relative positions between the measured features and the known relative position from design. - 特許庁

３次元形状情報がフィーチャベースモデルの場合はフィレット／面取りフィーチャを検索して蓄積し（Ｓ１０）、フィーチャベースモデルでない場合は、フィレット面／面取り面を検索して蓄積する（Ｓ１２、Ｓ１４）。例文帳に追加

Fillet/chamfer features are retrieved and stored (S10) in the case that three-dimensional shape information is a feature base model, and filleted surfaces/chamfered surfaces are retrieved and stored (S12 and S14) in the case that it is not a feature base model. - 特許庁

マスクは、基板上に焼き付けるべき複数の解像可能なフィーチャと、少なくとも１つの解像不可能な光近接補正フィーチャとを備え、解像不可能な光近接補正フィーチャは位相エッジである。例文帳に追加

The mask has a plurality of resolvable features to be printed on the substrate and at least one non-resolvable proximity correction feature, where the non-resolvable proximity correction feature is a phase-edge. - 特許庁

ＣＡＤデータ同一性検証装置は、まず、２つのＣＡＤデータにおいて、フィーチャを対応させ、このフィーチャの対応から、それぞれのフィーチャの属性情報を対応させる。例文帳に追加

The device first makes the feature correspond in the two CAD data, and then makes the attribute information of each feature correspond from the feature's correspondence. - 特許庁

一実施形態では、非ギャップ充填誘電体層（７２）がダミーフィーチャ上に形成され、ダミーフィーチャ間、またはダミーフィーチャと導電領域（４４）間に空隙（７４）を形成する。例文帳に追加

In one embodiment, a non-gap filling dielectric layer (72) is formed over the dummy features to form voids (74) between the dummy features or a dummy feature and a current-conducting region (44). - 特許庁

被検査フィーチャのシグネチャのエネルギ及び分散値と、対応する参照フィーチャに関連するエネルギ及び分散値とを比較し、被検査フィーチャ内の欠陥の存否を決定する。例文帳に追加

The energy and dispersion values of the signatures of the features to be inspected and the energy and dispersion values associated with the corresponding reference features are compared and the presence or absence of the defects within the features to be inspected is decided. - 特許庁

注目すべきイベントの発生が前の注目すべきイベントを用いて処理されることによって、関連するフィーチャの群における第１フィーチャおよび第２フィーチャと、関連する階ファクタと、を含む徴候が提供される。例文帳に追加

The occurrence of noteworthy event is processed with the previous noteworthy event, thereby indications including the first feature and the second feature of a related feature group and the related floor factor are provided. - 特許庁

水平および垂直フィーチャを含む複数のフィーチャを有するターゲットパターンを識別するステップと、前記ターゲットパターンに基づいて水平マスクを作成するステップを含み、水平マスクは低コントラスト垂直フィーチャを含む。例文帳に追加

The method includes the steps of: identifying a target pattern having a plurality of features including horizontal and vertical features; and generating a horizontal mask based on the target pattern, where the horizontal mask includes low contrast vertical features. - 特許庁

水平および垂直フィーチャを含む複数のフィーチャを有するターゲットパターンを識別するステップと、前記ターゲットパターンに基づいて水平マスクを作成するステップを含み、水平マスクは低コントラスト垂直フィーチャを含む。例文帳に追加

The method includes a step of identifying a target pattern having a plurality of features, including horizontal and vertical features, and a step of generating a horizontal mask based on the target pattern, where the horizontal mask includes low contrast vertical features. - 特許庁

グレースケール光近接効果補正デバイスフィーチャは、デバイスフィーチャと２次元補正カーネル又は２つの１次元補正カーネルとの畳み込みを行いグレースケールのＯＰＣフィーチャを生成するS11ことによりマスク・パターンに追加される。例文帳に追加

Grayscale optical proximity effect correction device features are added to a mask pattern by convoluting the device features with a two-dimensional correction kernel or two one-dimensional correction kernels to generate grayscale OPC features (S11). - 特許庁

フィーチャの作成／削除／修正といった更新を受け付け（ステップ６０２）、ユーザから差異ファイル出力ボタンの入力を受けると（ステップ６０３）、本ＣＡＤプログラムは更新前のフィーチャ情報と、更新後のフィーチャ情報との比較を行う（ステップ６０４）。例文帳に追加

When the CAD program receives updates such as creation/deletion/correction of a feature (Step 602), and receives the input of a difference file output button from a user (Step 603), it compares the feature information before updating and the feature information after updating (Step 604). - 特許庁

グレースケール光近接効果補正デバイスフィーチャは、デバイスフィーチャと２次元補正カーネル又は２つの１次元補正カーネルとの畳み込みを行いグレースケールのＯＰＣフィーチャを生成することによりマスク・パターンに追加される。例文帳に追加

A gray scale light proximity effect compensating device feature conducts the convolution of a device feature and two-dimensional compensation kernel or two one-dimensional compensation kernel, added to a mask pattern by generating an OPC feature of the gray scale. - 特許庁

製品マスクの回路設計を分析するとともに、製品マスクを模擬して、プロセス画像誘起欠陥を引き起こす可能性が高い製品マスク回路フィーチャを含む、１つ以上の分離したフィーチャまたは他のフィーチャを検査欠陥構造に組み込むように、従来の検査欠陥構造を変更する。例文帳に追加

The circuit design of a product mask is analyzed, and a conventional test defect structure is modified in such a manner as to simulate the product mask and incorporate one or more isolated features or other features including product mask circuit features with high possibility of causing processing image induced defects into the test defect structure. - 特許庁

時間スタンプ、日付スタンプ、関連するフィーチャの継続時間および階数が含まれる分割標識手段によって、互いに関連する記録されたフィーチャの全てが、同様なタイプもしくは他のタイプの関連しない記録されたフィーチャから分離される。例文帳に追加

All the related and recorded features are separated from the same type of features or not related and recorded other type of features by a split signboard means including a time stamp, a date stamp, a duration and the number of floors. - 特許庁

従って、本発明では、孤立エッジの周辺領域に通過される光量をダミーフィーチャー１４で調節して密集エッジでの光透過量とマッチさせることにより、半導体基板上に転写された孤立フィーチャー１２と密集フィーチャー１６との寸法差異を減少させることができる。例文帳に追加

The quantity of light passed through peripheral regions of the isolated edges is regulated by the dummy features 14 and matched with the quantity of light transmitted in the dense edges to reduce the difference in dimension between isolated features 12 and dense features 16 transferred to the top of the semiconductor substrate. - 特許庁

空飛ぶスパゲッティ・モンスター教をフィーチャーしたが芸術家により作られた。例文帳に追加

A parody image featuring Flying Spaghetti Monsterism was made by Niklas Jansson, an artist.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

多層半導体構造内または多層半導体構造上にアラインメントフィーチャーを形成する方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING ALIGNMENT FEATURE IN MULTILAYER SEMICONDUCTOR STRUCTURE OR ON MULTILAYER SEMICONDUCTOR STRUCTURE - 特許庁

カスタマイズした解析機能及びカスタマイズした図形機能を定義するためのフィーチャ型マクロ言語例文帳に追加

FEATURE-TYPE MACRO LANGUAGE FOR DEFINING CUSTOMIZED ANALYSIS FUNCTION AND CUSTOMIZED GRAPHIC FUNCTION - 特許庁

移動式クレーンが、その後方端部に位置する第１の接続フィーチャを有するシャーシを含む。例文帳に追加

A mobile crane includes the chassis having first connection features located on a rear end thereof. - 特許庁

照明分布及びレチクル・マスク・フィーチャを最適に選択する方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for optimally selecting an illuminating distribution and a reticle mask feature. - 特許庁

最後に、２つのフィーチャタイプの一方を、開放領域内で選択的にエッチングする。例文帳に追加

Finally, one of the two feature types is selectively etched in open areas. - 特許庁