「フィーチャ」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

ゲーム又は対話式アプリケーションは、開発されて、ＯＳＤフィーチャのようなターゲットデジタルテレビ受信器の資源及びサウンド処理能力を充分に利用する実行可能ターゲット特定プログラムコードにコンパイルされる。例文帳に追加

A game or an interactive application is developed and compiled into an executable target specification program code sufficiently using the resources and sound processing capabilities of a target digital television receiver such as an OSD future. - 特許庁

フィーチャーはマスク上に集積回路を形成する回路要素に対応し、所定の最小寸法を有して少なくとも一つ以上のエッジ１２ａを含む。例文帳に追加

The features correspond to circuit elements forming the integrated circuit on the mask, have a prescribed minimum size and contain one or more edges 12a. - 特許庁

１回のハードマスクエッチング工程を用いて、かつハードマスクを定義するためのフォトレジスト処理なしで、単一露光プロセスで設けられた約半分の間隔で特徴づけられた複数のフィーチャをハードマスクに提供する。例文帳に追加

To provide a plurality of features provided by a single exposing process and characterized by an about half interval to a hard mask using a single hard mask etching process and without a photoresist treatment for defining the hard mask. - 特許庁

さらに、ガラス層はセキュリティフィーチャーとして働き、それはカードに保存されている情報を偽造するための剥離がガラスの破損なしでは非常に困難だからである。例文帳に追加

The glass layer also has a security feature since it's very hard to exfoliate the glass without breakage of the glass to forge the information stored in the card. - 特許庁

このイメージ検索システムは、入力された問合せに応じて、問合せ中のキーワードと一致するキーワードを有するイメージ、および／または色、テクスチャ、形状など類似する低レベルフィーチャを有するイメージを見つける。例文帳に追加

The image retrieval system finds out an image having the keyword coincident with the keyword in inquire and/or an image having a low level feature similar in a color, a texture, a shape, or the like, in accordance with the inputted inquiry. - 特許庁

新たな操作ボタン等を設けることなく、自然な動作にあわせ、又は、特別な動作をすることにより、情報を入力して、新しいゲームフィーチャを成立させることができる。例文帳に追加

To establish a new game feature by matching natural action or performing a special action to input information without providing a new operation button or the like. - 特許庁

本発明は、複数の光学フィーチャーを有する上面を有する少なくとも１つのベース熱可塑性ポリマー光学層を含む、液晶ディスプレイのための多機能光方向変換膜を提供する。例文帳に追加

The present invention provides a multifunction light redirecting film for a liquid crystal display comprising at least one base thermoplastic polymer optical layer having a top surface with a plurality of optical features. - 特許庁

この技術によって作製されたテンプレートは、１つ以上の縁部を有するフィーチャと、縁部に配置された形状（突出部または引込部）の第１のアレイ４１および第２のアレイ４５とを備える。例文帳に追加

The template manufactured by this technique has the feature having ≥1 edges and a first array and second array 45 of the shapes (projecting parts or retracting parts) arranged at the edges. - 特許庁

ダイヤモンドまたはダイヤモンド様炭素膜と保護膜はともに、金属フィーチャになるトレンチにパターンを形成するためのハードマスクとして用いられる。例文帳に追加

Both the diamond or diamond like carbon film and the protective film are used as a hard mask so that a pattern is formed in a trench that has metallic features. - 特許庁

第１のグループと、ライナー内のある構造的フィーチャとの間に設けられる第２のグループは不規則なパターンに配置されるが、その開口密度は第１のグループの開口密度と同じである。例文帳に追加

A second group disposed between the first group and some structural feature within the liner assembly is disposed at a non-uniform pattern and a hole density equal to the density of the first group of cooling holes. - 特許庁

電場をレジストの下に印加して電子ビーム散乱に付随する近接効果を低減させ、それによって、レジストによって描画されるフィーチャおよび線の解像度が向上する。例文帳に追加

Resolution of features and lines drawn by a resist is improved by applying an electric field below the resist to reduce the proximity effect associated with electron beam scattering. - 特許庁

システムは集積回路のレイアウトを受け取り、レイアウト内に評価点を選択し、アシストフィーチャを配置するためのレイアウト内に候補位置を選択する。例文帳に追加

The system receives a layout of an integrated circuit, selects an evaluation point in the layout, and chooses a candidate location in the layout for placing an assist feature. - 特許庁

本方法は、加工片をテクスチャ化チャンバへ供給するステップと、加工片の表面を横切って電磁エネルギのビームを走査させて該表面上に複数のフィーチャを形成させるステップとを含む。例文帳に追加

The method includes providing a workpiece to a texturizing chamber and scanning a beam of electromagnetic energy across the surface of the workpiece to form a plurality of features thereon. - 特許庁

本発明はさらに、半導体装置製造工程の早い段階（つまり、ゼロレベル）においてアラインメントフィーチャーを形成できるため有益である。例文帳に追加

The method is advantageous since the alignment feature can be formed at an early stage (that is, a zero level) in a step of manufacturing a semiconductor device. - 特許庁

集積回路マイクロリソグラフィ用の孤立および密集マスキング・フィーチャを結像する場合に、近接効果を低減するために、サブレゾルーション結像補助バーの配置を決めるための改良方法を提案する。例文帳に追加

To provide an improvement method for determining the placement of sub-resolution imaging assisting bars to reduce the proximity effects when imaging isolated and dense masking features for integrated circuit microlithography. - 特許庁

次のフィーチャパターンの形成前に、上部の層および先行して形成される１つまたは複数の層のアライメントパターンを測定または検出できるシステムおよび方法を提供する。例文帳に追加

To provide a system and a method capable of measuring or detecting alignment patterns of an upper layer and one or a plurality of layers formed precedently before the formation of the next feature pattern. - 特許庁

多重露光リソグラフィ写像プロセス中で使用される、基板上に写像されるフィーチャを有する目標パターンに基づく相補的マスクを生成するための方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of generating complementary masks based on a target pattern having features to be imaged on a substrate for use in a multiple-exposure lithographic imaging process. - 特許庁

照射システムからの光をパターニングするためにパターンジェネレータが使用され、光は投影光学系によって基板上に配向されてフィーチャが形成される。例文帳に追加

The pattern generator is used to pattern light from an illumination system, and the light is directed by a projection optical system onto a substrate to form features. - 特許庁

リテイナ・アセンブリ３６は、フレキシブル回路の末端電気リードを、基板上の電気パッドのアレイに正確に位置合わせするための協働フィーチャを有する。例文帳に追加

The retainer assembly 36 has a co-operating feature for positioning an end electric lead of a flexible circuit in an electric pad array on the substrate. - 特許庁

事前に選択された測定距離にわたって事前に選択された間隔において、対象フィーチャの断面または「スライス」の連続をミリングするために、集束イオン・ビームが使用される。例文帳に追加

A converging ion beam is used for milling successive cross sections or slices of an object feature at an interval previously selected over a measurement distance previously selected. - 特許庁

同一レジスト膜に、実質的なパターニング後処理を行う必要がない十分に均一な表面トポグラフィを有する、広範囲のフィーチャのディテールを得ることが可能なプロセスの提供。例文帳に追加

To provide a process to obtain broad range of feature detail in the same resist film with sufficiently uniform surface topography and without the need to perform significant post-patterning processing. - 特許庁

リソグラフィによるプリントプロセスにおいて、パターンフィーチャのスキャン露光中に、基板上に投影されているパターン付き放射ビームに対して相対的に、基板がスキャン方向において移動される。例文帳に追加

In a print process carried out by lithography, a substrate moves in the direction of scanning relatively to a radiation beam with a pattern projected on the substrate, in exposure for scanning a pattern feature. - 特許庁

この方法は、このマスクを用いてアルミニウム層をエッチングし、これによって、別の方法で生成するよりも小さい臨界寸法を有する回路フィーチャを規定することを含むことができる。例文帳に追加

The method etches the aluminum layer using the mask and can specify the circuit feature, the critical dimension of which is smaller than that of the feature being processed by another method. - 特許庁

同じ色のインベーダを連続して３個撃ち落とすとフィーチャー１の色を取得でき、対応の色のビンゴセル２４１の第１のセルが点灯する。例文帳に追加

When three invaders of the same color are continuously shot down, the color of a feature 1 can be obtained, and a first cell of a bingo cell 241 of the corresponding color is lighted. - 特許庁

モデルを幾何形状とその構成部品を示すフィーチャ情報で表現したヒストリ型データからモデルを幾何形状で表現したノンヒストリ型データに変換する。例文帳に追加

The history type data in which a model is expressed by feature information indicating the geometrical shape and its components is converted into the non-history type data in which the model is expressed in the geometrical shape. - 特許庁

リソグラフィデバイス製造方法で、解像度以下のアシストフィーチャを設けて、基板上にパターンの像を形成する回折次数の強度を等化する。例文帳に追加

In a lithographic device manufacturing method, sub-resolution assist features are provided to equalize the intensities of the diffraction orders that form the image of the pattern on a substrate. - 特許庁

リソグラフィ・プロセスのクリティカルな測定基準には、それだけには限られないかもしれないが、リソグラフィ・プロセス（３２）中に形成されたフィーチャのクリティカル寸法を含むことができる。例文帳に追加

A critical metric of the lithography process may include, but may not be limited to, a critical dimension of a feature formed during the lithography process (32). - 特許庁

また、補助フィーチャは、多角形の形状にすることができ、かつ、輪郭を取り囲むように大きさ決めし、或いは輪郭の内側に対して大きさ決めすることができる。例文帳に追加

Also, the assist feature may be polygon-shaped and sized to surround the contour or sized relative to the inside of the contour. - 特許庁

アシストフィーチャ構造を決定するための必要時間を短縮し、マスクレイアウトの製造可能性および性能を向上する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for improving manufacture possibility and performance of mask layout by shortening a necessary time for determining an assistant feature structure. - 特許庁

３次元ビットマップの長所を残しながらデータサイズが小さく，さらにフィーチャに関する情報をデータに持たせる事ができる立体形状記述方法を提供する。例文帳に追加

To provide a solid form describing method capable of reducing a data size while keeping advantages of a three-dimensional bitmap, and providing data with information related to features. - 特許庁

パターニングデバイスＭＡは、放射ビームの断面内にパターンを与えることができてパターニングされた放射ビームを形成し、また、偏光感応フィーチャ４４を備えている。例文帳に追加

The patterning device MA provides a pattern in a cross section of a radiation beam to form a patterned radiation beam and comprises polarization sensitive features 44. - 特許庁

メッシュデータを一つのフィーチャに利用し、最初の製品設計者が3次元CADプログラムで製品を設計した過程によってリバースモデリングを行う。例文帳に追加

To perform reverse modeling by following a procedure in which an original product designer has designed a product by a three dimensional CAD program by using mesh data as a feature. - 特許庁

本実施の形態で同一性検証の対象となるＣＡＤデータは、フィーチャを規定した図形データと属性情報を規定した属性データを用いて構成されている。例文帳に追加

The CAD data as a target of identity verification is constituted using graphical data defining a feature and attribute data defining attribute information. - 特許庁

選択されたデータフィーチャは、拡大表示、ポップアップウィンドウ、別のハイパーリンクされた表次ページ、或いは別の表示形態によって表示できる。例文帳に追加

The selected data feature can be displayed by an enlarged display, a pop-up window, a different hyper-linked display page, or a different display form. - 特許庁

この方法は、ターゲットパターンに基づいて垂直マスクを作成するステップをさらに含み、垂直マスクは低コントラスト水平フィーチャを含む。例文帳に追加

The method further includes a step of generating a vertical mask based on the target pattern where the vertical mask contains low contrast horizontal features. - 特許庁

垂直マスク作成は、垂直マスクに含まれる低コントラスト水平フィーチャのバイアスを最適化するステップ９２と、散乱バーを垂直マスクに適用するステップ９４とを含む。例文帳に追加

Generation of the vertical mask includes a step 92 of optimizing the bias of low contrast horizontal features contained in the vertical mask; and a step 94 of applying scattering bar to the vertical mask. - 特許庁

これらの方法を用いて処理された基板においては、高アスペクト比のフィーチャーに充填されたタングステン含有材料のステップカバレッジが改善され、シームの大きさが低減する。例文帳に追加

In the substrate processed by the method, a step coverage of the tungsten-containing material filled in the feature having the high aspect ratio is improved and the size of a seam is reduced. - 特許庁

水平マスク作成は、水平マスクに含まれる低コントラスト垂直フィーチャのバイアスを最適化するステップ９１と、散乱バーを水平マスクに適用するステップ９３とを含む。例文帳に追加

Generation of the horizontal mask includes a step 91 of optimizing the bias of the low contrast vertical features contained in the horizontal mask; and a step 93 of applying scattering bar to the horizontal mask. - 特許庁

回収用フィーチャはユーザの２本の指等でインクスティック１００を把持して挿入口からインクスティック１００を取り除けるような垂直寸法を有する。例文帳に追加

A retrieval feature has a vertical dimension so that the ink stick 100 can be grasped by two fingers or the like of a user to remove the ink stick 100 through the insertion opening. - 特許庁

長期間貯蔵された古い金属ナノ粒子を含有する組成物を用いた場合であっても、高い導電性を有する電子デバイスの導電性フィーチャを提供することである。例文帳に追加

To provide a conductive feature on an electronic device which has high conductivity even when using a composition comprising old metal nanoparticles stored for a long period. - 特許庁

本発明は、フィーチャーゲームで複数の全く異なる性質のゲームを、基本的に同じテーマで楽しめるゲーミングマシン及びその制御方法を提供する。例文帳に追加

To provide a gaming machine and method of controlling the gaming machine that allows a player to enjoy a plurality of games with their completely different characteristics in a feature game, with a basically same theme being kept unchanged. - 特許庁

パターンにより出力されるであろう空間像をシミュレートS12し、シミュレーションを所望のパターンと比較しS14、ＯＰＣフィーチャを調整する反復処理工程S15を使用して、投影に最適なパターンを生成することができる。例文帳に追加

An iterative process (S15) of simulating an aerial image that would be produced by the pattern (S12), comparing the simulation to the desired pattern (S14), and adjusting the OPC features may be used to generate an optimum pattern for projection. - 特許庁

決定されたミリング領域を、フィーチャの周囲の境界ボックスとして表現することができ、境界ボックスの寸法は、分析ステップに基づいて変更することができる。例文帳に追加

A determined milling area may be represented as a bounding box around a feature, which dimensions can be changed in accordance with the analysis step. - 特許庁

コンポーネント間のギャップへの液浸液の侵入を防止し、又は少なくとも１つのコンポーネントに付着して液浸システムのフィーチャに表面を提供する部材が提供される。例文帳に追加

A member is provided to prevent immersion liquid ingress to a gap between components or to adhere to at least one component to provide a surface to a feature of an immersion system. - 特許庁

エレベータのパラメータが監視され、このようなパラメータが保守もしくは修理に重要なものであることが認識された場合に、フィーチャが、関連するアトリビュートとともに時系列でログに記録される。例文帳に追加

A parameter of an elevator is monitored and when this parameter is recognized to be important for maintenance or repair, a feature is recorded in a log in a time series together with a related attribute. - 特許庁