「フィーチャ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

フィーチャチェーンには、素材を除去する動作が、同一のフィーチャチェーン内の他のフィーチャオブジェクトによって定義されるコンピュータモデルのフィーチャに影響するが、フィーチャチェーン内にないフィーチャオブジェクトによって定義されるコンピュータモデルのフィーチャに影響しないように、スコープにおいて設計効果を制限された少なくとも１つのフィーチャオブジェクトが含まれる。例文帳に追加

A feature chain is formed and includes at least one feature object having a design effect limited in scope such that an operation for removing material operates to affect the feature of the computer model defined by another feature object in the same feature chain, and does not affect the feature of the computer model defined by the feature object not in the same feature chain. - 特許庁

インシュランスが発動すると、第１フィーチャーゲーム、及び第２フィーチャーゲームが実行される。例文帳に追加

The first feature game and the second feature game are executed when the insurance is put into the motion. - 特許庁

薬事法フィーチャモデル作成装置および薬事法フィーチャモデル作成方法例文帳に追加

PHARMACEUTICAL AFFAIRS LAW FEATURE MODEL CREATING DEVICE AND PHARMACEUTICAL AFFAIRS LAW FEATURE MODEL CREATING METHOD - 特許庁

データには、複数のフィーチャオブジェクトが含まれ、コンピュータモデルのフィーチャが定義される。例文帳に追加

The data includes a number of feature objects each of which defines a feature of the computer model. - 特許庁

ＳｏｆｔＲｏｕｔｅｒフィーチャ・サーバ例文帳に追加

SOFTROUTER FEATURE SERVER - 特許庁

半導体フィーチャを形成する方法例文帳に追加

FORMATION METHOD OF SEMICONDUCTOR FEATURE - 特許庁

基板の表面フィーチャを銅で充填する方法例文帳に追加

METHOD OF FILLING SURFACE FEATURE OF SUBSTRATE WITH COPPER - 特許庁

位置合わせフィーチャを有する使い捨て式処理バッグ例文帳に追加

DISPOSABLE BAG HAVING POSITIONING FEATURE - 特許庁

寸法値の確認処理を行う際に、フィーチャの抑制機能を利用し、寸法の確認対象となるフィーチャのフィーチャタイプ、フィーチャサブタイプ、許容される寸法値の範囲を条件データとして入力する。例文帳に追加

When confirmation processing of the dimensional value is carried out, a feature type, a feature sub-type, and a permitted dimension value range of feature set as a confirmation object of dimension are input as conditional data, by using a suppression function of the feature. - 特許庁

パズル・フィーチャを備えたゲーム機例文帳に追加

GAME MACHINE PROVIDED WITH PUZZLE FEATURE - 特許庁

レイヤ中にフィーチャを形成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a feature in a layer. - 特許庁

フィーチャー・ライセンス管理システム例文帳に追加

FEATURE LICENSE MANAGEMENT SYSTEM - 特許庁

フィーチャーモデル作成支援装置及びプログラム例文帳に追加

FEATURE MODEL CREATION SUPPORT DEVICE AND PROGRAM - 特許庁

アシストフィーチャを配置するための方法および装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR PLACING ASSIST FEATURE - 特許庁

フィーチャの平衡中心に基づいて、フィーチャ内の異なる方向におけるフィーチャの複数の分散値を計算し、被検査フィーチャのための独特な“シグネチャ”を発生させる。例文帳に追加

The plural dispersion values of the features in the different directions with in the features are calculated in accordance with the equilibrium center of the features and the unique 'signatures' for the features to be inspected are generated. - 特許庁

２次元フィーチャ・モデルの較正および最適化方法例文帳に追加

METHOD OF TWO DIMENSIONAL FEATURE MODEL CALIBRATION AND OPTIMIZATION - 特許庁

オフセットフィーチャ生成手段Ｃ４は、フィーチャ生成手段Ｃ２により抽出されたフィーチャを、前記対象物の内側方向に移動させた形状であるオフセットフィーチャを求める。例文帳に追加

An offset feature generation means C4 finds an offset feature, which is the shape given when the feature extracted by the feature generation means C2 is moved to the inside of the target. - 特許庁

電子デバイスにおけるセキュリティ・フィーチャー例文帳に追加

SECURITY FEATURE IN ELECTRONIC DEVICE - 特許庁

フィーチャ指向ソフトウェア製品ライン工学の方法論を支援するフィーチャ指向ソフトウェア再利用の開発環境システムを提供する。例文帳に追加

To provide a development environment system for feature-oriented software reuse, supporting methodology of feature-oriented software product line engineering. - 特許庁

半導体フィーチャは、半導体フィーチャを第１の電極および第２の電極に分割する溝を画成する。例文帳に追加

The semiconductor feature defines a groove for dividing the semiconductor feature itself into a first electrode and a second electrode. - 特許庁

ポリゴン分割手段Ｃ６は、オフセットフィーチャ生成手段Ｃ４により求められたオフセットフィーチャで、ポリゴンデータを分割する。例文帳に追加

A polygon division means C6 divides the polygon data by using the offset feature found by the offset feature generation means C4. - 特許庁

フォトレジストフィーチャの側壁上にコンフォーマルレイヤが堆積されることによって、フォトレジストフィーチャの前記微小寸法が低減される。例文帳に追加

A conformal layer is deposited over the side walls of the photoresist features to reduce the microscopic dimensions of the photoresist features. - 特許庁

第一に、プロダクトフィーチャと同等のピッチＰ１を有する２つの化学的に異質のフィーチャタイプのパターンを形成する。例文帳に追加

First, a pattern of two chemically distinct feature types having a pitch P1 comparable to product features is formed. - 特許庁

また、Ｓｉフィーチャはミスカット角度を有して形成され得え、その結果、Ｓｉフィーチャの平面内に段差が形成される。例文帳に追加

In addition, the Si feature having miscut angles can be formed, as a result, level differences are formed in the plane of the Si feature. - 特許庁

レイヤ内でフィーチャがエッチングされ、レイヤフィーチャは、第１微小寸法より小さい第２微小寸法を有する。例文帳に追加

Features are etched in the layer, and the layer features have a second microscopic dimension which is less than the first microscopic dimension. - 特許庁

孤立したフィーチャを、局部的に画素毎に解析するのではなく、個々の、全フィーチャとしてグローバルに欠陥を解析する。例文帳に追加

Not the isolated features are locally analyzed by each of pixels but defects are globally analyzed as the individual total feature. - 特許庁

光学近接効果（ＯＰＥ）は主フィーチャと隣接するフィーチャの間の構造的相互作用に起因する。例文帳に追加

Optical proximity effect(OPE) is caused by structural interaction between a main feature and an adjacent feature. - 特許庁

フィーチャと、属性情報は、識別番号によって対応づけられており、フィーチャに意味的な情報を付与することができる。例文帳に追加

The feature and the attribute information are correlated by identification numbers and the semantic information can be added to the feature. - 特許庁

第１部分は、第１方向においてのみ変化するフィーチャを有し、第２部分は、第２方向においてのみ変化するフィーチャを有する。例文帳に追加

The first portion has features varying only in a first direction, and the second portion has features varying only in a second direction. - 特許庁

反射の画像上の複数のフィーチャ位置とパターン上の複数のフィーチャ位置との間の第１の関係が決定される。例文帳に追加

A first relation between feature positions on the image of the reflection and feature positions on the pattern is determined. - 特許庁

マスク・レイアウト内に印刷補助フィーチャを配置する方法、印刷補助フィーチャを生成するシステム、およびプログラム例文帳に追加

METHOD OF ARRANGING PRINTING ASSIST FEATURES IN MASK LAYOUT, SYSTEM FOR GENERATING THE PRINTING ASSIST FEATURES, AND PROGRAM - 特許庁

本発明は、研磨ダミーフィーチャパターンの無差別な配置ではなく、研磨ダミーフィーチャパターンの選択的な配置を使用する。例文帳に追加

Selective placement of polishing dummy feature patterns is used, rather than indiscriminate placement of polishing dummy feature patterns, in the present invention. - 特許庁

臨界密集フィーチャ以外のフィーチャに対してＯＰＣに基づいて調整がなされ、リソグラフィ装置設定はさらに相互に最適化される。例文帳に追加

Features other than a critical dense feature are adjusted, according to optical proximity correction (OPC), and lithographic apparatus settings are, further, mutually optimized. - 特許庁

マスクの位置は、識別されたフィーチャの測定位置から、識別されたフィーチャの既知の位置を引き算することによって得られる。例文帳に追加

The position of the mask is obtained by subtracting the known position of the identified feature from the measurement position of the identified feature. - 特許庁

複数の第１のフィーチャを含む第１のマスクが、フィーチャの欠陥に関して検査され欠陥データが記憶される２０。例文帳に追加

A first mask including a plurality of first features is inspected for defects in the features, and defect data are stored (step 20). - 特許庁

フィーチャの側壁および底面をバリア層によって覆い、フィーチャに金属を、好ましくは電気めっきによって充てんする。例文帳に追加

A side wall and bottom surface of a feature are covered with a barrier layer, and the feature is filled with metal preferably by electrolytical plating. - 特許庁

１つの実施形態によれば、基板表面全体を大きいフィーチャと小さいフィーチャによって実質的に同時にパターニングすることができる。例文帳に追加

In one example, substantially an entire surface of the substrate can be patterned with large and small features at substantially a same time. - 特許庁

ぼやけの影響は、同様の水平フィーチャと垂直フィーチャとの間の限界寸法の差を低減するために使用される。例文帳に追加

The effect of the blur is used to reduce a difference of a limit dimension between a horizontal feature and a vertical feature. - 特許庁

コンタクト・ホールなどの特定フィーチャを含む結像フィーチャの解像度を改善するリソグラフィ・デバイス製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a lithography device for improving the resolution of image formation features including specific features such as a contact hole. - 特許庁

アレイターゲットフィーチャは、典型的には、バイオポリマーである。例文帳に追加

An array target feature is typically a biopolymer. - 特許庁

拡張された通信フィーチャを有するデジタルダウンロードジュークボックス例文帳に追加

DIGITAL DOWNLOAD JUKEBOX WITH EXPANDED COMMUNICATION FEATURE - 特許庁

ユーザは、それらフィーチャを適宜マクロに組み込めばよい（５４）。例文帳に追加

The user can properly incorporate the features in a macro (54). - 特許庁

このセキュリティ・フィーチャーを含む電子デバイスも提供される。例文帳に追加

An electronic device that includes these security features is also provided. - 特許庁

多層電子コンポーネントのための端子フィーチャを設ける例文帳に追加

To provide a terminal feature for a multilayer electronic component. - 特許庁

臨界寸法を小さくしたフィーチャを有する集積回路の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT HAVING FEATURE WITH SMALL CRITICAL DIMENSION - 特許庁