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かきどう4ちょうめの英語
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「かきどう4ちょうめ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 61件
超音波霧化機1は、洗浄液Wを入れる超音波霧化室4と、この超音波霧化室4の洗浄液Wを超音波振動させてミストMに霧化する超音波振動子2と、超音波振動子2に高周波電力を供給する超音波電源3とを備える。例文帳に追加
The ultrasonic wave atomization device 1 is equipped with an atomization chamber 4 into which the cleaning liquid W is put, an ultrasonic vibrator 2 which atomizes the cleaning liquid W in the ultrasonic atomization chamber 4 into the mist M by ultrasonic vibration, and an ultrasonic power supply 3 which supplies high frequency power to the ultrasonic vibrator 2. - 特許庁
超音波霧化機1は、粒径が異なる粒子を含む液体を入れる超音波霧化室4と、この超音波霧化室4の液体を超音波振動させてミストMに霧化する超音波振動子2と、超音波振動子2に高周波電力を供給する超音波電源3とを備える。例文帳に追加
The ultrasonic atomizer 1 is provided with an ultrasonic atomizing chamber 4 housing a liquid containing particles different in size, an ultrasonic vibrator 2 atomizing the liquid in the ultrasonic atomizing chamber 4 into the mist M by ultrasonic vibration and an ultrasonic power source 3 supplying high-frequency electric power to the ultrasonic vibrator 2. - 特許庁
下記工程(1)〜(3)を含む動物細胞をアレイ状に配置するための基板の調製方法及び、下記工程(1)〜(4)を含む動物細胞をアレイ状に配置した基板の調製方法。例文帳に追加
There are provided the method for preparing the substrate for setting animal cells in array, and that for preparing the substrate on which animal cells are set in array. - 特許庁
中空の箱状に形成されて底面に200kHz以上の超音波振動を発生する振動子4を備える超音波タンク2に、基板の端面及び端面近傍が遊挿される切り欠き凹部2aを形成する。例文帳に追加
In the device, a notched recess 2a to which the end surface, or the vicinity of the end surface, of a substrate is inserted is formed in an ultrasonic tank 2 formed in a form like a hollow box and provided with a vibrator 4 generating ultrasonic vibrations of ≥200 kHz at the bottom surface. - 特許庁
電動過給機4の作動を制御する制御装置5は、電動機2を駆動するための駆動装置8と、運転者が過給量調整手段6によって設定する過給量に応じて駆動装置8の作動を制御する制御指令部9とを備える。例文帳に追加
A control device 5 controlling operation of the electric supercharger 4 is provided with a drive device 8 for driving an electric motor 2 and a control command part 9 controlling operation of the drive device 8 according to supercharging quantity established by the driver with a supercharging quantity adjusting means 6. - 特許庁
第2放射導体6,7は屈曲または湾曲する帯状に形成されているため、全長が第1放射導体2,3と同等であっても、ほぼ切欠き部4,5内に配設することができる。例文帳に追加
Since the second radiation conductors 6, 7 are formed to be belt-like shapes that are bent or curved, even when the total length of the second radiation conductors 6, 7 is equal to that of the first radiation conductors 2, 3, the second radiation conductors 6, 7 can be arranged almost within the notches 4, 5. - 特許庁
基板の表面及び裏面の洗浄のために供給される洗浄用流体12は、切り欠き凹部2aから超音波タンク2の内部に流入して貯留されるとともに、振動子4からの超音波振動により励振され、基板の端面及び端面近傍を非接触で洗浄する。例文帳に追加
A washing fluid 12 supplied for washing the surface and the back surface of the substrate is made to flow into the ultrasonic tank 2 from the notched recessed part 2a, stored and excited by the ultrasonic vibrations from the vibrator 4 and washes the end surface and the vicinity of the end surface of the substrate in a non-contact state. - 特許庁
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「かきどう4ちょうめ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 61件
本発明の気流乾燥機1は、ループ管内壁2aの粉体導入口4の近傍に付着した粉体を掻き取る掻取手段6を備えることを特徴とする。例文帳に追加
This flash drier 1 includes a scratching means 6 for scratching powder adhering to the vicinity of the powder introduction port 4 of the inner wall 2a of the loop pipe. - 特許庁
また、この発明による別構成として、補強部材5は、表板4より大きい線膨張係数を有する材料により構成されている、あるいは、表板4両端部に架橋して端部が水平方向に対して段違いの位置でそれぞれ表板4両端部に回動可能に結合されている。例文帳に追加
As another constitution of this invention, the reinforcing member 5 is composed of a material having a linear expansion coefficient larger than the surface plate 4, or ends are rotatably jointed to both ends of the surface plate 4 at stepped positions against a horizontal direction, bridging both ends of the surface plate 4. - 特許庁
少なくとも片面に機能素子が形成された半導体ウエハの少なくとも片面に、引張弾性率が4GPa以上、線膨張係数が25ppm以下、吸湿膨張係数が35ppm以下のポリイミド層を直接形成した半導体装置。例文帳に追加
The semiconductor device is so formed on at least a single-sized surface of a semiconductor wafer wherein the polyimide layer having a tensile elastic modulus not smaller than 4 GPa, a linear expansion coefficient not larger than 25 ppm, and a moisture absorbing expansion coefficient not larger than 35 ppm is formed directly as to form its functional elements on at least a single-sized surface of the semiconductor wafer. - 特許庁
水晶振動子XTの等価容量を補正するためのコンデンサ回路4の容量値は、各温度ごとに最適な値にROM回路3に書き込まれた情報に基づき調節される。例文帳に追加
The capacitance of the capacitor circuit 4 to correct the equivalent capacitance of a crystal vibrator XT can be adjusted on the basis of information written in a ROM circuit 3 to obtain an optimum value at each temperature. - 特許庁
制御および/又は調整ユニット(4)が、測定センサ(7)によって求められた少なくとも1つの指令量から、少なくとも1つの調整値を求め、排気駆動過給機(5)の各運転点に対して十分な潤滑油量の供給が過剰油量を回避した状態で確実に保証されるように、潤滑油パラメータが調整装置(1、2)によって調整される。例文帳に追加
A lubricating oil parameter is adjusted by adjusting devices 1, 2, so as to surely ensure supply of sufficient lubricating oil quantity related to each operating point of an exhaust-driven supercharger 5 in a condition avoiding an excessive oil quantity by obtaining at least one adjustment value from at least one command value, obtained by a measuring sensor 7 in a control and/or adjusting unit 4. - 特許庁
不揮発性メモリチップ3を含む複数個のICチップ2、3、4を1つのパッケージ1内に搭載するとともに、不揮発性メモリチップ3の特定領域に、各ICチップ2、3、4の動作テストの結果を含む履歴情報を書き込んだことを特徴とする。例文帳に追加
A plurality of IC chips 2, 3 and 4 including the nonvolatile memory chip 3 are packaged in one package 1 and history information containing the result of the operation test of each of IC chips 2, 3 and 4 is written on the specified region of the nonvolatile memory chip 3. - 特許庁
半導体集積回路用基板の化学的機械的平坦化に用いる金属研磨液であって、下記成分(1)、(2)、(3)及び(4)を含有し、銅又は銅を含む合金からなる配線と、バリア金属膜とを研磨するために用いられることを特徴とする。例文帳に追加
The metal polishing liquid is used for chemically, mechanically polishing a semiconductor integrated circuit substrate for making it planar, contains the following components (1), (2), (3), and (4), and is characterized by the fact that it is used for polishing interconnections formed of copper or an alloy containing copper. - 特許庁
(±)−4−〔(4−クロロフェニル)(2−ピリジル)メトキシ〕ピペリジンをジアステレオマー塩に誘導し、これを分別結晶の方法で、光学分割して得ることを特徴とする下記式記載の光学活性体化合物の製造法。例文帳に追加
The process for producing the optically active substance compound represented by formula (IV) includes deriving (±)-4-[(4-chlorophenyl)(2-pyridyl)methoxy]piperidine into a diastereomer salt, and optically resolving the resultant diastereomer salt by a method for fractional crystallization. - 特許庁
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