れせぷたーぜんくたいの英語

触媒金属前駆体、固形分及びビークルを含む前駆体ペーストを基板上に付着させるステップと、基板上に付着された前駆体ペーストのうち、触媒金属前駆体を還元させて触媒金属粒子を形成するステップとを含む触媒ベースの形成方法。例文帳に追加

This method for forming a catalyst base comprises the step of applying a precursor paste containing a catalyst metal precursor, a solid matter and a vehicle onto a substrate and the step of reducing a catalyst metal precursor in the precursor paste applied onto the substrate to form catalyst metal particles. - 特許庁

ＣＶＤプロセスは、基板に導入され、ここで、枠体前駆体及びポロゲン前駆体は供給される。例文帳に追加

A CVD process is introduced to a substrate to which a frame precursor and a porogen precursor are supplied. - 特許庁

さらにダイレクト−ツウ−プレートフレキソグラフ印刷版前駆体の製造法を提供する。例文帳に追加

Furthermore, the method for manufacturing the direct-to-plate flexographic printing plate precursor is provided. - 特許庁

それら複数の同レンズ前駆体の累進屈折面には所定のインセットがベースカーブデータに基づいて設定され、そのインセットが共通する同レンズ前駆体同士をベースカーブ毎に１グループとして、複数の同レンズ前駆体を複数のグループに区分けしてストックしておく。例文帳に追加

Prescribed insets are set on the progressive power surfaces of the plurality of lens precursors based on the base curve data and the plurality of lens precursors are stocked for each group while lens precursors to which the insets are common are divided into the groups for each of the base curves. - 特許庁

混合用通路は、液体前駆体の細かいエアロゾル状の分散体を発生し、この分散体はホットプレートによって気化される。例文帳に追加

A fine aerosol-like dispersoid of the liquid precursor is generated in the passage for mixing, and this dispersoid is vaporized by means of a hot plate. - 特許庁

マイクロカップアレイを製造するために、ａ）予めパターン形成した雄型上に熱硬化性または熱可塑性前駆体組成物を被覆して、隣接する前駆体層を雄型上に形成し、ｂ）前駆体層をトランスファーシートと接触させ、ｃ）前駆体を硬化させて、硬化したマイクロカップアレイを形成し、およびｄ）マイクロカップアレイから型をリリースする。例文帳に追加

The microcup array is manufactured by (a) coating a male mold where a pattern is preformed with a thermosetting or thermoplastic precursor composition to form a contiguous precursor layer on the male mold; (b) bringing the precursor layer into contact with a transfer sheet; (c) curing the precursor to form a cured microcapsule array; and (d) releasing the microcup array from the mold. - 特許庁

ウェハを、ウェハ上で最大飽和ＡＬＤ堆積レートをもたらすのに充分に至らない量の、第１の化学的に反応する前駆体ドーズ量で被覆し、次に、第２の化学的に反応する前駆体ドーズ量で被覆され、前駆体は、ほぼ均一な膜堆積を実現するように分散されるプロセス。例文帳に追加

This application provides a process in which a wafer is coated with a first chemically reactive precursor dose amount insufficient to result in a maximum saturated ALD deposition rate on the wafer, and then coated with a second chemically reactive precursor dose, the precursors being distributed in a manner to provide substantially uniform film deposition. - 特許庁

前駆体熱処理法の第一工程においてスラグ状堆積物が生成しないようにすると同時に、生成するフラーレン煤中に内包カーボンナノカプセル前駆体が大量に含まれる製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a production method in which a slag-like deposit is made so as not to be formed in a first step of a precursor thermal treatment, and simultaneously, an including carbon nanocapsule precursor is contained in a large amount in a formed fullerene soot. - 特許庁