ガス分布板の英語

基板処理装置に於いて、反応室内での反応ガスの濃度分布を均一化し、基板処理の面内均一性を向上させる。例文帳に追加

To improve the in-plane uniformity of the substrate treatment by means of a substrate treating device by making the concentration distribution of a reactive gas uniform in a reaction chamber. - 特許庁

本装置のガス分散板４０に一様な分布で設けられたガス流出孔４２は、その開口径がガス分散板の中央領域４８から周辺領域４６に向かって大きくなっている。例文帳に追加

Related to gas flow-out ports 42 distributed uniformly at a gas dispersion plate 40 of the apparatus, its aperture diameter becomes larger beginning with a central region 48 of the gas dispersion plate toward a peripheral region 46. - 特許庁

誘電体天板２の破損防止のために設けた補強リブ３にガス導入部品４およびガス拡散のための部品６を接続することで、ガス拡散のための部品６に設けたガス吹き出し穴７から真空処理室８内の基板９上にガスを均一に分布できる構造とした。例文帳に追加

By connecting a gas introduction parts 4 and a gas diffusion parts 6 to the reinforcement rib 3 prepared for breakage prevention of the dielectric top board 2, a structure is constituted that gas is made to distribute uniformly on a substrate 9 in a vacuum processing room 8 from a gas blow-off hole 7 arranged in the gas diffusion parts 6. - 特許庁

反応管２３内の好適位置で好適温度に加熱されたガスは、被処理基板２１付近において均一な温度分布を形成する。例文帳に追加

The gas heated at suitable temperature in a suitable source position in the reaction tube 23 forms uniform temperature distribution at a part in the vicinity of the processed substrate 21. - 特許庁

金属製ガスケットのボア孔３の周りの面圧分布は，シム板２のボア孔６の周りにおける幅のサイズによって一部調整されるものである。例文帳に追加

The distribution of surface pressure of the metal gasket around the bore 3 is partly adjusted in accordance with the width of the shims 2 around the bore 6. - 特許庁

ガスの熱伝達率が圧力に比例することから、この差圧により被処理基板の温度分布を調節することができる。例文帳に追加

Heat conductivity of gas is in proportion to pressure, so a temperature distribution of the board to be processed can be controlled with the differential pressure. - 特許庁

直交流ガスフロータイプの平板型固体電解質燃料電池において、セル内部の温度分布状態をコントロールし、セル内部の温度分布差や温度分布に起因して発生する熱応力を軽減するなど各種有用な効果を得る。例文帳に追加

To realize a various useful effects for a DC/AC gas flow flat plate solid electrolyte fuel cell such as reduction of heat stress caused by temperature distribution difference or temperature distribution within a cell by controlling the temperature distribution within the cell. - 特許庁

排ガス回収通路３０内には、排ガス回収通路３０内における燃焼排ガスＧ２の通過方向Ｌに直交する周方向Ｒにおける温度分布を緩和するための邪魔板３１が設けてある。例文帳に追加

A baffle plate 31 for improving the temperature distribution in the circumferential direction R orthogonal to the passing direction L of the combustion exhaust gas G2 in the exhaust gas recovering passage 30, is disposed in the exhaust gas recovering passage 30. - 特許庁