ベルヌーイ効果の英語

これにより、基板９の下面を処理する際に、ベルヌーイ効果を利用して基板９を上方から適切に支持する簡単な構造の支持体として遮蔽部１２を利用することができる。例文帳に追加

Consequently, when the rear surface of the substrate 9 is treated, the shielding part 12 can be used as the support of the simple structure which properly supports the substrate 9 from the upper part by using Bernoulli's effect. - 特許庁

この際、定盤１２上の塵Ｄがベルヌーイ効果により加圧気体に引きつけられ、その加圧気体とともに、定盤１２から離れる方向に案内される。例文帳に追加

On this occasion, dust D on the surface plate 12 is attracted to the pressurized gas by a Bernoulli effect and guided together with the pressurized gas in a direction separated from the surface plate 12. - 特許庁

絞り部２７において、冷媒導出管２３内を流れるガス状冷媒の流速が速くなり、ベルヌーイ効果によりガス状冷媒の圧力が低下する。例文帳に追加

In the restricting part 27, the flow velocity of the gaseous refrigerant running through the refrigerant lead-out pipe 23 increases and the pressure thereof is lowered by the Verneuil effect. - 特許庁

中間部材２１に狭小部４１を設けて導水路２３の経路を狭め、ベルヌーイ効果によって液体肥料３６を吸い上げて水道水に混合する。例文帳に追加

A confined space part 41 is set in the intermediate part 21 to narrow the passage of the water conducting passage 23 and to mix the city water with the liquid fertilizer 36 sucked up by Bernoulli effect. - 特許庁

噴出孔２５から噴出する加熱された気体は、保護シートＳに反り等があってもこれを矯正するように作用し、ベルヌーイ効果によって前記チップＷを非接触の状態で保持することができる。例文帳に追加

The heated gas jetted from the jetting holes 25 works to correct a warpage, etc. even when the protective sheet S has the warpage, etc. and holds the chips W in the non-contact state by a Bernoulli's effect. - 特許庁

その圧力差を生じさせる手段は、受像媒体３０の下部面５０に真空を発生させるようにした真空ポンプ７０を、又は「ベルヌーイ効果」を生じさせるように受像媒体３０の下部面５０にわたり空気流を通過させるようにした空気ポンプを具有する。例文帳に追加

The means for generating the pressure difference comprises a vacuum pump 70 generating vacuum on the lower surface 50 of the image receiving medium 30 or a pneumatic pump for passing an air flow over the lower surface 50 of the image receiving medium 30 to generate 'Bernoulli effect'. - 特許庁

遮断板３は、遮断板３とウエハＷとの間を流れる窒素ガスが引き起こすベルヌーイ効果により、ウエハＷの上面から一定距離だけ離れた位置に浮上した状態でウエハＷの回転にほぼ同期して回転する。例文帳に追加

The intercepting plate 3 is rotated by the Bernoulli's effect, which is caused by the nitrogen gas flowing between the intercepting plate and the wafer W, floating a given distance away from the front surface of the wafer W, synchronizing with the rotation of the wafer W. - 特許庁

これにより、ベルヌーイ効果を利用して遮蔽部１２と基板９の上面とを近接させ、さらに、基板９が回転する際に基板９がピン１１２の間を移動することによりピン１１２と基板９との間の洗浄も実現される。例文帳に追加

Consequently, the shielding section 12 is brought in close proximity with the upper surface of the substrate 9 through Bernoulli's effect and cleaning between the pin 112 and the substrate 9 is realized because the substrate 9 moves between the pins 112, while rotating. - 特許庁