技術設計最適化の英語

製品毎に設計及びプロセスを最適化して、ＣＭＰ加工後の平坦化を実現することができる半導体デバイスの設計及び製造技術を提供する。例文帳に追加

To provide a design and a manufacturing technology of a semiconductor device capable of optimizing the design and process of each product to materialize a flatness after a CMP process. - 特許庁

柄の設計を容易にし、かつ編成時間を最適化された編成プログラムを経験の少ない編成技術者でも短時間で形成できる設計装置を提供する。例文帳に追加

To provide a design device capable of forming a knitting program which optimizes a knitting time even by a technician with less experience by facilitating a design of pattern. - 特許庁

本発明は、集積回路を複数のブロックに分割して設計を行うときに、集積回路全体で最適化する必要がある回路系について、その最適化を効率的に実行できるようにする新たな集積回路設計技術の提供を目的とする。例文帳に追加

To provide a new integrated circuit design technology capable of efficiently executing the optimization of a circuit system requiring optimization in the whole integrated circuit in designing an integrated circuit by dividing it into a plurality of blocks. - 特許庁

ハードディスクのスライダ形状等の設計に用いられる多目的最適化設計支援技術に関し、性能の良い複数の設計形状を示唆し、設計者が新たなベース形状を考える上でのヒントを与えることを可能とする。例文帳に追加

To suggest a plurality of design shapes resulting in high performance and to provided a hint for considering a new base shape to a designer in a multiobjective optimization design support technology used in designing a slider shape etc. of a hard disk. - 特許庁

設計情報に基づいた条件で成膜およびＣＭＰを実施し、検査を経て製造される薄膜デバイスの設計、製造技術において、ＣＭＰ後のウェハに対して詳細に膜厚を計測し、実測した膜厚データに基づいて設計及びプロセスを変更して最適化する。例文帳に追加

In the design and the manufacturing technology of a thin film device in which a film is formed and a CMP is effected under conditions depending on design information to manufacture through an inspection, a wafer after the CMP is measured in a film thickness in detail, and the design and process are altered based on actually measured film thickness data to optimize. - 特許庁

メーカーの設計負担を増加させることなくセルタイプの異なるＩＣを実現することができるとともに、チップサイズおよび消費電力並びに動作速度が最適化された半導体集積回路を容易に実現可能な設計技術を提供する。例文帳に追加

To provide a design technology capable of achieving an IC with a different cell type without increasing a design burden of a manufacturer and easily achieving a semiconductor integrated circuit with optimum chip size, power consumption and operating speed. - 特許庁

当業者とは、請求項に係る発明が属する技術分野における技術常識を有し、通常の技術手段を研究開発（実験、分析、製造等を含む。）に利用する能力を有する仮想人物であって、材料の選択及び設計変更、数値範囲の最適化及び均等物による要素の置換において通常の創作能力を発揮し、自身の知識に基づいて、請求項に係る発明が属する分野における特許出願時の技術水準にある技術事項をすべて理解できる仮想人物をいう。例文帳に追加

A person skilled in the art refers to a hypothetical person who has common general knowledge in the art to which the claimed invention pertains and the ability to use ordinary technical means for research and development (including experiment, analysis, manufacture, etc.); who has the ability to exercise ordinary creativity in selecting materials and changing designs, optimizing numerical ranges and replacing elements with equivalent parts; and who is able to comprehend based on his/her own knowledge all technical matters regarding the state of the art in the field to which a claimed invention pertains at the time of filing a patent application.発音を聞く  - 特許庁

ＳＲＡＭ形状等の設計に用いられる多目的最適化設計支援技術に関し、目的関数の特定の値域で所定の精度条件が与えられたときに、その精度条件を満たすような設計パラメータ組と目的関数との対応関係を、少ない設計パラメータサンプル組数で算出可能とする。例文帳に追加

To provide a multipurpose optimization design support technology to be used for a design of an SRAM shape or the like, wherein when a predetermined accuracy condition is applied in a specific value range of an objective function, correspondence relation between a design parameter group satisfying the accuracy condition and the objective function can be calculated by a small number of design parameter sample groups. - 特許庁