気相洗浄装置の英語

配管等の被洗浄体に超音波振動を与えることにより、被洗浄体に付着した付着物を、気相中で除去する装置、及び除去方法を提供するものである。例文帳に追加

To provide an adherend removing device for removing the adherend deposited to an object to be washed in a gas phase by applying ultrasonic vibration to the object such as piping or the like, and an adherend removing method using it. - 特許庁

手洗浄装置Ａは、多数の気泡３０と、超音波と、ＬＥＤの点灯・点滅と、七種類の鉱石を封入した温水改質器５との相乗作用により、手洗浄後には、しっとりとした美肌を体感することができる。例文帳に追加

This hand washing apparatus A allows a user to experience the moist and beautiful skin after the hand washing by the synergistic actions of the multiple air bubbles 30, the ultrasonic waves, the lighting and blinking of the LEDs and the water reforming device 5 sealed with the 7 types of ores. - 特許庁

洗浄液導入直前に、洗浄液をミスト化した気体として導入し塗工液との相溶性を維持し、さらに、塗工液接液部の乾燥防止を行いながら、塗工液を送液配管系から外部に排出し、その後洗浄液を導入する事を特徴とした洗浄機構を有する塗工装置。例文帳に追加

In the coating apparatus having the washing mechanism, immediately before the washing liquid is introduced, it is introduced as a mist gas to keep the compatibility with the coating solution and the coating solution is discharged to the outside from a liquid feed piping system while preventing the drying of a coating solution contact part before the washing liquid is introduced. - 特許庁

気液２相流を用いても、管路内の汚物を確実に除去することのできる構成を具備する内視鏡洗浄消毒装置を提供する。例文帳に追加

To provide an endoscope cleaning/disinfecting device which is furnished with a construction for allowing even use of a gas/liquid two-phase flow to remove surely dirts inside a duct. - 特許庁

高濃度塩素剤を濾過槽若しくは濾過槽に付随する配管内に注入し、曝気による攪拌および消毒剤副生成物の気相中への放出を行い、濾過装置の浴槽水を逆流させて濾過装置を洗浄することを特徴とする濾過装置の洗浄方法を提供する。例文帳に追加

The method of cleaning a filter comprises injecting a high-concentration chlorine agent into a pipe of the filter vessel, carrying out agitation and discharge of sterilization by-products into a gas phase through aeration and causing the bath water of the filter to flow back in order to clean the filter. - 特許庁

電気光学用基板の洗浄装置１は、洗浄に用いる液体を液滴として吐出して基板上に塗布するインクジェットヘッド４と、インクジェットヘッド４と基板１２とを相対的に移動させる移動手段と、予め入力された基板１２上における被洗浄領域についての位置情報に基づいて、被洗浄領域上に液体１２を塗布するように、インクジェットヘッド４と移動手段とを制御する洗浄装置制御部２とを具備する構成とした。例文帳に追加

The apparatus 1 has an ink jet head 4 to jet the cleaning liquid in droplets on the substrate, a moving means to relatively move the ink jet head 4 and substrate 12, and a cleaning machine controller 2 to control the ink jet head 4 and moving means to coat the cleaning area with the liquid 12 from the information input in advance about the area position to clean on the substrate 12. - 特許庁

ポリトリメチレンテレフタレートの溶融重合装置を洗浄する際に、気相部の酸素濃度を５体積％以下に保った状態にて、１５０℃以上、蒸気圧が０．５ＭＰａとなる温度以下に加熱したトリメチレングリコールを用いて洗浄する。例文帳に追加

The melt polymerization apparatus for the polytrimethylene terephthalate is washed in a state where the oxygen concentration in the gaseous phase is kept at 5 vol% or less using trimethylene glycol heated up to at least 150°C and at most a temperature where the vapor pressure is 0.5 MPa. - 特許庁

洗浄したシリコンウエーハ上にシリコンエピタキシャル層を気相成長させてシリコンエピタキシャルウエーハを製造する方法において、シリコンウエーハをキャリアレス洗浄後、エピタキシャル成長装置の反応炉内に移送するまでに３回移送した後、エピタキシャル成長させる。例文帳に追加

At manufacturing the silicon epitaxyial wafer through vapor phase growth of the silicon epitaxyial layer on the cleaned silicon wafer, the epitaxyial is grown after when the silicon wafer is transferred 3 times after carrier-less cleaning and until the transfer to the reaction furnace at the epitaxyial growth equipment. - 特許庁