上層の窒素含有金属珪酸化膜９ｂの膜平均窒素含有率は１ａｔｍ％以上である。例文帳に追加

Film average nitrogen content of the nitrogen-containing metal silicificated film 9b of an upper layer is at least 1 atm%. - 特許庁

その後、アンモニアを含む雰囲気中において５００℃以上且つ上記の結晶化温度以下で熱処理を行い、金属珪酸化膜を金属珪酸窒化膜にする。例文帳に追加

Thereafter, the substrate is heat-treated at a temperature of ≥500°C and not more than the crystallization temperature of the metal silicificated film in an ammonia-contained atmosphere to turn the metal silicificated film into a metal silicate nitride film. - 特許庁

好ましくは、このセラミックスは、炭化ケイ素、アルミナ、窒化アルミニウム、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、水酸化マグネシウム、炭酸バリウム、珪酸カルシウム、タルク、クレー、マイカ、窒化ホウ素および窒化ケイ素からなる群から選択される。例文帳に追加

The ceramics is preferably selected among silicon carbide, alumina, aluminum nitride, silica, titanium oxide, zinc oxide, magnesium hydroxide, barium carbonate, calcium silicate, talc, clay, mica, boron nitride, and silicon nitride. - 特許庁

緻密化処理を行うことによって、金属珪酸化膜を突き抜ける窒素の量を低減できるので、シリコン酸化膜が窒化されて膜厚が増加するのを抑制できる。例文帳に追加

By the treatment for causing the films to become a more coherent mass, a quantity of nitrogen penetrating into the metal silicificated film can be reduced, resulting in preventing the silicon oxide film from nitriding and gaining thickness. - 特許庁

シリコン酸化膜８上に形成された第２のゲート絶縁膜９ａは、膜平均金属濃度が６２％以下、且つ、膜平均窒素含有率が３０ａｔｍ％以上の窒素含有金属珪酸化膜である。例文帳に追加

The second gate insulated film 9a formed on the silicon oxide film 8 is a nitrogen containing metal silicified film wherein film average metal concentration is at most 62%, and film average nitrogen content is at least 30 atm%. - 特許庁

リン酸及びヘキサフルオロケイ酸塩を含んでなる窒化ケイ素のエッチング用組成物、或いはリン酸、アンモニア、ヘキサフルオロ珪酸及び／又はその塩を含んでなるエッチング用組成物では、高温で用いた場合、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択比が長期間安定に維持される。例文帳に追加

Regarding the etching composition of silicon nitride containing phosphoric acid and hexafluorosilicate or the etching composition containing phosphoric acid, ammonia, hexafluorosilicic acid or its salt, when it is used at the high temperature; the etching selection ratio of silicon nitride to silicon oxide is maintained stably for a long time. - 特許庁

ゲート構造３０の側壁上に絶縁スペーサ５２，５４を形成した後、窒化物ブランケット６０および硼燐珪酸ガラスからなる絶縁領域を形成し、絶縁領域を窒化物ブランケット６０までＣＭＰ法で研磨し平坦化する。例文帳に追加

After insulation spacers 52 and 54 are formed on the side wall of the gate structure 30, an insulation region that is made of a nitride blanket 60, and bonate-prosphste-silicate glass is formed, and the insulation region is polished and flattened by the CMP method up to the nitride blanket 60. - 特許庁

芳香族ビニル系樹脂１００重量部に対し、膨潤性層状珪酸塩０．１〜１００重量部と更に、リン原子含有化合物および／または窒素原子含有化合物１〜２００重量部とを含有することを特徴とする芳香族ビニル系樹脂発泡体。例文帳に追加

The aromatic vinylic resin foamed body comprises 0.1-100 pts.wt. swellable layered silicate and further 1-200 pts.wt. phosphorus atom-containing compound and/or nitrogen atom-containing compound, based on 100 pts.wt. aromatic vinylic resin. - 特許庁

硝酸性窒素及びリンを含有する被処理水を、硫黄酸化細菌を担持した硫黄と炭酸カルシウムを主成分とする脱窒剤により脱窒した後、ロックウール等のアルカリ土類金属珪酸塩を含有する無機繊維を基材とし、セメント等の水硬性材料又はアルカリ材との混合物よりなる脱リン剤を用いて脱リンする。例文帳に追加

Water to be treated containing nitrate nitrogen and phosphorus is denitrified by a denitrifying agent mainly comprising sulfur having sulfur oxidizing bacteria supported thereon and calcium carbonate, and the denitrified water is dephosphorized using a dephosphorizing agent comprising a mixture composed of a base material comprising inorganic fibers containing an alkaline earth metal silicate such as rock wool or the like and a hydraulic material such as cement or the like or an alkali material. - 特許庁

珪酸アルカリ水溶液からアルカリを除去して得られた活性珪酸水溶液と、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、イミダゾール、メチルイミダゾール、ピペリジン、モルホリン、アルギニンおよびヒドラジンのいずれか１種類以上である窒素含有塩基性化合物によって製造されるコロイダルシリカを主成分とし、水酸化第４アンモニウムを含有することで、２５℃におけるｐＨが８．５〜１１．０に調製されていることを特徴とする半導体ウエハ研磨用組成物。例文帳に追加

The semiconductor wafer polishing composition uses an active silic acid solution obtained by removing alkali from a silic acid alkaline solution, and colloidal silica formed of a nitrogen containing basic compound composed of one kind or more of ethylenediamine, diethylenediamine, imidazole, methyl imidazole, piperidine, morpholine, arginine, and hydrazine as main components, and contains a quaternary ammonium hydroxide, whereby pH at 25°C is prepared to 8.5-11.0. - 特許庁

コージェライト、窒化珪素、炭化珪素またはアルミノ珪酸塩ガラスの何れか一種からなる所定の気孔率を有する多孔質セラミックスからなる基体に、金属珪素、樹脂、ガラスの何れかからなる気孔率５体積％以下の表面緻密層を形成することで嵩比重２以下の軽量化を実現する。例文帳に追加

The lightweight ceramic member of ≤2 volumetric specific weight is obtained by forming a surface compacted layer having ≤5 vol.% porosity of any of a metal silicon, a resin and glass on a substrate of a porous ceramic having a specified porosity composed of at least one kind selected from among cordierite, silicon nitride, silicon cabide and alumino silicate glass. - 特許庁

平均抗圧壊力が高く、比表面積が大きい石炭灰、ゼオライト、人工ゼオライトなどの珪酸質材料で作られ、有機物分解を促進し微生物を担持する粒状土壌改良材を厩肥や生ごみなど有機物に１０〜５０％重量部添加し、醗酵槽の上部から窒素性溶液を撒き、２０〜６５℃の条件を維持しながらコンポスト化する。例文帳に追加

A compost is obtained by adding 10-50% granular soil conditioner having a high average collapsing resistance and a specific surface area, made from a siliceous material such as zeolite or artificial zeolite, accelerating the decomposition of an organic material and supporting microorganism into the organic material such as manure or garbage, spraying a nitrogen-based solution from the upper part of a fermentor and keeping a condition of 20-65°C. - 特許庁