蓄積性蛍光体シートの露光方法と露光装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR EXPOSURE OF ACCUMULATED FLUORESCENT SHEET - 特許庁

大面積マスクレス露光方法及び露光装置例文帳に追加

LARGE AREA MASKLESS EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE APPARATUS - 特許庁

露光マスク及び露光方法と集積回路例文帳に追加

EXPOSURE MASK AND EXPOSURE METHOD, AND INTEGRATED CIRCUIT - 特許庁

積算紫外線暴露検出装置例文帳に追加

INTEGRATING ULTRAVIOLET EXPOSURE DETECTION DEVICE - 特許庁

投影露光装置、投影露光方法、並びに集積回路製造方法例文帳に追加

PROJECTION ALIGNER, PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT - 特許庁

積層シート、及び積層シートを利用する露光現像方法例文帳に追加

LAMINATED SHEET AND EXPOSURE DEVELOPMENT METHOD USING LAMINATED SHEET - 特許庁

蓄積性蛍光体シートおよび蓄積性蛍光体シートの露光方法例文帳に追加

STORAGE PHOSPHOR SHEET AND EXPOSURE METHOD THEREOF - 特許庁

印刷版の集積化されたレーザー及びＵＶ露光装置例文帳に追加

INTEGRATED LASER AND UV-EXPOSURE SYSTEM FOR PRINTING PLATE - 特許庁

半導体集積回路露光用レチクル例文帳に追加

RETICLE FOR EXPOSING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT - 特許庁

半導体集積回路装置及び露光方法例文帳に追加

SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

集積回路用露光マスク及びその形成方法例文帳に追加

INTEGRATED CIRCUIT PHOTOFABRICATION MASK AND METHOD OF FORMING THE SAME - 特許庁

半導体集積回路パターンの投影露光方法例文帳に追加

METHOD OF PROJECTION-ALIGNING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT PATTERN - 特許庁

露光装置および積層基板の製造方法例文帳に追加

ALIGNER AND METHOD FOR MANUFACTURING LAYERED SUBSTRATE - 特許庁

露光量表示材料及び温度積算表示材料例文帳に追加

MATERIAL FOR DISPLAYING EXPOSURE AND MATERIAL FOR ACCUMULATEDLY DISPLAYING TEMPERATURE - 特許庁

反射マスク、露光装置および集積回路の製造方法例文帳に追加

REFLECTION MASK, EXPOSURE APPARATUS, AND MANUFACTURE OF INTEGRATED CIRCUIT - 特許庁

蓄積性蛍光体シートおよびその露光方法例文帳に追加

STIMULABLE PHOSPHOR SHEET AND ITS EXPOSURE METHOD - 特許庁

蓄積性蛍光体シートおよびその露光方法例文帳に追加

STORAGE PHOSPHOR SHEET AND ITS EXPOSURE METHOD - 特許庁

織物表面に露出している経糸１１ａの露出面積と緯糸１２ａ・１３ａの露出面積との合計露出面積Ｓに占める表面多繊糸条１３ａの露出している表面多繊糸条露出面積Ｓａの比率を２０％以上とする。例文帳に追加

The ratio of the exposed surface Sa of the surface multifiber yarn to the total exposed surface S of the exposed area of the warp 11a and the exposed area of the weft 12a, 13a, exposed on the surface of the fabric, is ≥20%. - 特許庁

まず境界域１１を露光し、２番目に大面積のバルク域１２を露光する。例文帳に追加

A first step exposes boundary areas 11 and a second step exposes the larger, bulky areas 12. - 特許庁

反射型露光マスクの製造方法、反射型露光方法および半導体集積回路の製造方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING REFLECTION TYPE EXPOSURE MASK, REFLECTION TYPE EXPOSURE METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT - 特許庁

液浸露光用積層構造、液浸露光方法、電子装置の製造方法及び電子装置例文帳に追加

LAMINATED STRUCTURE FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE, LIQUID IMMERSION EXPOSURE METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE - 特許庁

大面積の被露光体における非周期性のパターンの露光を高解像力にて行う。例文帳に追加

To accomplish exposure of a non-periodic pattern on a large-area exposed object with high resolution. - 特許庁

パルス光源を用いて走査露光を行う場合に、積算露光量の制御精度を向上する。例文帳に追加

To improve the control accuracy of integrated exposure at conducting scanning exposure by using a pulse light source. - 特許庁

電子写真プリント配線板用積層板、露光時の接地方法、及びその露光装置例文帳に追加

ELECTROPHOTOGRAPHIC PRINTED WIRING BOARD, GROUNDING METHOD IN EXPOSURE AND ALIGNER THEREOF - 特許庁

比較的簡単な構造で、露光エネルギー量が大きく、大面積の露光が可能な偏光露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a polarization exposure device relatively simple in structure, large in exposure energy and capable of performing a large area exposure. - 特許庁

ユーザの負担を軽減し、消費電力を抑え、基板のどの場所も均一な積算露光量で露光することができる露光装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an aligner capable of lightening user's burden, restraining power consumption and exposing any place on a substrate with uniform integrated exposure. - 特許庁

露光中に、投影露光系を含めて概ね全光学系の透過率変化を測定し、積算露光量をより正確に制御する。例文帳に追加

To measure a transmittance change in nearly all optical systems including a projection exposure system in an exposure process so as to control cumulated exposure more accurately. - 特許庁

被露光体を走査露光する際に、走査方向における積算露光量の分布を目標とする分布に高精度に合わせる。例文帳に追加

To match the distribution of integral exposure amount in the scanning direction to a target distribution with high accuracy when an article to be exposed is subjected to scanning exposure. - 特許庁

各画素の前記各周期における電荷の蓄積期間（露光期間）を「蓄積１」、「蓄積２」、…「蓄積４９」，「蓄積５０」と表すものとすると、「蓄積１」，「蓄積２」，…，「蓄積４９」，「蓄積５０」の各露光期間で得られた画素信号から予め導出した暗ノイズを各画素信号から減算する。例文帳に追加

When charge accumulation periods (exposure periods) in each cycle of each pixel are represented as "accumulation 1", "accumulation 2", ..., "accumulation 49" and "accumulation 50", dark noise derived beforehand from pixel signals obtained in the exposure terms of "accumulation 1", "accumulation 2", ..., "accumulation 49" and "accumulation 50" is subtracted from each pixel signal. - 特許庁

第２防露配管１５２Ｓの流路断面積は第１防露配管１５２Ｆの流路断面積より大きい。例文帳に追加

A flow channel cross-sectional area of the second dew-proofing piping 152S is larger than that of the first dew-proofing piping 152F. - 特許庁

集積回路のパターン設計方法、露光マスクの作成方法、露光マスク、および集積回路装置の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR DESIGNING PATTERN OF INTEGRATED CIRCUIT, METHOD FOR FORMING EXPOSURE MASK, EXPOSURE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT DEVICE - 特許庁

画成部材３５が第２の空間Ｓ２に露出している面積は、画成部材３５が第１の空間Ｓ１に露出している面積よりも大きい。例文帳に追加

The exposed area of the defining member 35 to the second space S2 is larger than the exposed area of the defining member 35 to the first space S1. - 特許庁

正極板１の各芯材露出部１２と負極板２の各芯材露出部２３とが積層方向に互いに重ならない向きで積層される。例文帳に追加

Each core material exposed part 12 of the positive electrode plate 1 and each core material exposed part 23 of the negative electrode plate 2 are laminated in a direction not mutually overlapping in lamination direction. - 特許庁

撮像手段が、露光せずに電荷蓄積を行う第１の撮像モードと、露光を行って電荷蓄積を行う第２の撮像モードとを備える。例文帳に追加

The image pickup means has a 1st image pickup mode where charges are stored without exposure and a 2nd image pickup mode where charges are stored with exposure. - 特許庁

円形の基板の周縁を露光するにあたって、基板単位面積あたりの露光量を露光領域内で揃えることができる周縁露光装置及び周縁露光方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a periphery exposure apparatus and a periphery exposure method, with which it becomes possible to make uniform an exposure amount per substrate unit area within an exposure region on the occasion of exposure of the periphery of a circular substrate. - 特許庁

パルス発光型の露光ビームを用いてスリットスキャン露光方式で露光を行うときに露光対象となる物体上の積算露光量を適正化する。例文帳に追加

To rationalize integrated exposure on an object to be exposed, when the object is exposed by the slit scanning exposing method using a pulsed light type exposure beam. - 特許庁

多層膜反射鏡及び露光装置ならびに集積回路の製造方法。例文帳に追加

MULTILAYER FILM REFLECTING MIRROR, ALIGNER AND MANUFACTURING METHOD OF INTEGRATED CIRCUIT - 特許庁

積層体は、Ｈ_２Ｏを含むプラズマであるＨ_２Ｏプラズマに曝露される。例文帳に追加

The laminate is exposed to H_2O plasma containing H_2O. - 特許庁

第２の層を堆積する前に、第１の層もまた、酸素に露出されてもよい。例文帳に追加

The first layer may also be exposed to oxygen before depositing the second layer. - 特許庁

該面積密度マップを利用することで露光量マップが求める。例文帳に追加

The exposure map is obtained by using the area-density map. - 特許庁

積層セラミックコンデンサの製造方法及び電極露出検知装置例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING LAMINATED CERAMIC CAPACITOR AND EXPOSED ELECTRODE DETECTING DEVICE - 特許庁

吸水性積層樹脂発泡体、吸水蓋及び結露防止材例文帳に追加

WATER ABSORBENCY LAMINATE RESIN FOAM, WATER ABSORPTION LID, AND DEW CONDENSATION PREVENTION MATERIAL - 特許庁

トレンチの露出した内壁の上に第２の絶縁膜を堆積する。例文帳に追加

A second insulating film is deposited on the exposed inner wall of the trench. - 特許庁

基板に形成される未露光領域の面積を低減すること。例文帳に追加

To reduce an area in an unexposed region formed on a substrate. - 特許庁