Anti-Maskとは 意味・読み方・使い方

To provide a mask which has effects of an anti-inflammatory drug, a freshener, or the like evaporating inside the mask on a mask wearer from nostrils and a mouth.例文帳に追加

マスク内部に蒸散している抗炎症剤や清涼剤等の作用を鼻孔からも口部からもマスク着用者に及ぼすことのできるマスクの提供。 - 特許庁

At the same time, the server reads a mask pattern out of the mask data, calculates the inner product of the mask pattern and the data including the embedded additional information and sends this inner product to the anti-tamper device.例文帳に追加

この時、サーバは、マスクデータからマスクパターンを読み込み、このマスクパターンと付加情報の埋め込まれたデータとの内積を計算し、該内積の計算結果を耐タンパ性デバイスへ送信するようにする。 - 特許庁

To provide an anti-pathogenic microorganism agent having excellent anti-pathogenic microbial activity such as anti-viral activity and anti-fungal activity, high in safety, producible at low cost, and having fast dryability, sustainability and dispersion stability, and easy to use with good sense of use; and a filter and a mask carrying the anti-pathogenic microorganism agent.例文帳に追加

優れた抗ウイルス活性及び抗菌活性等の抗病原性微生物活性を有し、安全性が高く、安価に製造可能であり、また速乾性、持続性、及び分散安定性を有し、かつ容易に使用できる使用感のよい抗病原性微生物剤、並びに、前記抗病原性微生物剤を担持したフィルター及びマスクの提供。 - 特許庁

With the silicon nitride film 3 as an anti-oxidation mask, a first oxide film 4a is formed on the bottom surface and side wall of the groove part.例文帳に追加

次に、シリコン窒化膜３を耐酸化マスクとして、溝部の底面及び側壁に第１の酸化膜４ａを形成する。 - 特許庁

By patterning the intermediate layer 10 and the anti-reflection film 11, with the resist pattern 12a as a mask, the lower layer resist film 9 is developed.例文帳に追加

レジストパターン１２ａをマスクとして中間層１０と反射防止膜１１をパターニングし、下層レジスト膜９を現像する。 - 特許庁

A layer (802) comprising an anti-reflective material is formed on the trenched phase shift mask (104) and the portions of the light-blocking layer (206) (1104).例文帳に追加

次に、反射防止材料からなる層（８０２）が、溝のある位相シフトマスク（１０４）および遮光層の部分（２０６）上に形成される（１１０４）。 - 特許庁

To provide a hygienic mask wherein antiviral activity such as anti-influenza virus activity can be maintained for a long time.例文帳に追加

抗インフルエンザウイルス活性等の抗ウイルス活性が長時間持続しうる衛生マスクを提供する。 - 特許庁

With the silicon nitride film 3 as the anti-oxidation mask, a second oxide film 4b is formed at the bottom surface, the sidewall, and the gap of the groove part.例文帳に追加

シリコン窒化膜３を耐酸化マスクとして、溝部の底面、側壁及び隙間に第２の酸化膜４ｂを形成する。 - 特許庁