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Wiktionary英語版での「a WF」の意味 |
awf
出典:『Wiktionary』 (2026/01/06 22:13 UTC 版)
発音
- IPA: /ɔf/
別の表記
名詞
awf (plural awfs)
参照
- “awf”, in OED Online
, Oxford: Oxford University Press, launched 2000. - “awf”, in Merriam-Webster Online Dictionary, Springfield, Mass.: Merriam-Webster, 1996–present.
語源 2
「a WF」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 290件
A water level keeping wall 21 keeps water level WF.例文帳に追加
液位維持壁２１が水位ＷＦを維持する。 - 特許庁
In electron irradiation observation from a normal direction on the surface of a wafer WF using a first column 8 of a scanning electron microscope; when it is determined that a defect is caused by releasing, an edge of the wafer WF is moved to an imaging position of the second column 16 of the scanning electron microscope by an XYθ stage 24, and the edge of the wafer WF is observed obliquely.例文帳に追加
走査型電子顕微鏡の第一カラム８によるウェハWF表面の法線方向からの電子照射観察において、欠陥がはがれに起因すると判定される場合に、ＸＹθステージ２４によってウェハWFのエッジを走査型電子顕微鏡の第二カラム１６の撮像位置に移動し、斜方からウェハWFのエッジを観察する。 - 特許庁
A semiconductor wafer WF is in a stage immediately before resist application.例文帳に追加
半導体ウェハＷＦは、レジスト塗布直前の段階のものである。 - 特許庁
A thick layer of a rinse solution covers the whole of the substrate surface Wf that is subjected to a rinse process of delivering the rinse solution from a rinse nozzle 8 to the substrate surface Wf, and a paddle-like rinse layer 21 is formed on the substrate surface Wf.例文帳に追加
リンスノズル８からのリンス液の吐出によりリンス処理を受けた基板表面Ｗｆ全体にはリンス液が盛られた状態で付着して、いわゆるパドル状のリンス層２１が形成される。 - 特許庁
A catch plate 50 is adapted to catch and hold bearings WF, WF at the beginning of each parts array L1, L2 at a take-out position P.例文帳に追加
受止板５０は取出位置Ｐにおいて、各部品配列Ｌ１，Ｌ２の先頭のベアリングＷＦ，ＷＦを受け止め保持する。 - 特許庁
A semiconductor wafer WF is placed on the lower electrode part 11.例文帳に追加
下部電極部１１には半導体ウェハＷＦが載置される。 - 特許庁
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「a WF」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 290件
The wafer conveying method for conveying a plurality of stacked wafers Wf sequentially is such that a suction conveyer 2 as a sucking sliding means for sliding a wafer Wf on top in an in-plane direction conveys the wafers Wf in an order of the top wafer Wf while the wafer Wf on top out of the plurality of wafers Wf placed in a liquid Lq.例文帳に追加
積み上げられた複数枚のウエハＷｆを搬送するウエハ搬送方法であって、液体Ｌｑ中に置かれた複数枚のウエハＷｆのうち最上位にあるものを吸着した状態で、このウエハＷｆをその面内方向にスライドさせる吸着スライド手段としての吸着コンベア２によって、最上位のウエハＷｆから順に搬送する。 - 特許庁
Regarding the dimension of the dust filter and the piezoelectric element, provided that a length of the side, corresponding to the width direction of the piezoelectric element, of the dust filter is denoted as LFw, and a width of the piezoelectric element in parallel to the side of the filter is denoted as WF, WF/LFw is made in the range of 0.095 or more and 0.105 or less.例文帳に追加
防塵フィルタ及び圧電素子の寸法を、防塵フィルタの上記圧電素子の幅方向に対応する辺の長さをLFw、該辺に平行方向の上記圧電素子の幅をWFとした場合に、WF/LFwが0.095以上、0.105以下となるようにする。 - 特許庁
In initial chemical processing, a silicon oxide film is formed on the substrate surface Wf, and the substrate surface Wf is a hydrophilic face.例文帳に追加
初期薬液処理では、基板表面Ｗｆにシリコン酸化膜が形成されており、基板表面Ｗｆは親水面となっている。 - 特許庁
The shielding member 41 comprises a front side shielding member 43 for covering a front part side of the window WF, and a rear side shielding member 54 for covering a rear part side of the window WF.例文帳に追加
遮蔽材４１が、窓ＷＦの前部側を覆う前側遮蔽材４３と、窓ＷＦの後部側を覆う後側遮蔽材５４と、を備える。 - 特許庁
A support stand 11 chucks the wafer WF and it can be rotated by a driving part 12.例文帳に追加
支持台１１は、ウェハＷＦをチャックし駆動部１２で回転させる。 - 特許庁
A space above a surface of a substrate Wf is shielded from external air by stretching a sheet member 231 close to a surface of a substrate Wf along the same.例文帳に追加
基板表面Ｗｆに対し、シート部材２３１を基板表面Ｗｆに沿うように近接して張設し、基板表面Ｗｆの上方の空間を外気から遮断する。 - 特許庁
A support stand 11 can be rotated by a drive section 12 by chucking a wafer WF.例文帳に追加
支持台１１は、ウェハＷＦをチャックして駆動部１２で回転可能である。 - 特許庁
A support rest 11 chucks a wafer WF, and can be rotated by a driving part 12.例文帳に追加
支持台１１は、ウェハＷＦをチャックして駆動部１２で回転可能である。 - 特許庁
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