dilution agentとは 意味・読み方・使い方

To provide a parting agent which is used for casting etc. of metal and is excellent in parting property, and to provide a casting method using the parting agent or its dilution.例文帳に追加

金属の鋳造等に用いられ、離型性に優れた離型剤及び該離型剤又はその希釈物を用いた鋳造方法を提供する。 - 特許庁

Since this plate material does not use any coating for fixing the insect-proofing agent on the coated surface, the insect-proofing agent is prevented from dilution attributable to the resin in such a coating.例文帳に追加

即ち本発明では防虫剤を塗膜表面に固定するために塗料を使用しないので、塗料の樹脂による防虫剤の希釈はない。 - 特許庁

To provide an apparatus for sucking a chemical agent pressurizing it in a pump and mixing to perform chemical agent spray while attain an almost fixed dilution even if the spray quantity is changed.例文帳に追加

散布量が変わっても、ほほ一定の希釈倍率になるように薬剤を吸わせ、ポンプ内で加圧、撹拌して薬剤散布できる装置を提供する。 - 特許庁

To provide a coating agent for treating the surface of a vehicle, having enhanced stability in dilution, and hardly plugging piping or the like of a car washer, and further to provide a stabilizer for improving the dilution stability, and a method for obtaining the stable coating agent.例文帳に追加

希釈時の安定性を高め、洗車機配管等を詰まらせることの無い車両表面処理用コーティング剤、そのような希釈安定性を向上させる安定化剤及び安定なコーティング剤を得る方法を提供する。 - 特許庁

The binder resin for dilution and the charge control agent are preferably regulated by a kneading temperature of 50 to 100°C.例文帳に追加

なお、希釈用の結着樹脂と帯電制御剤とを５０〜１００゜Ｃの混練温度で規定することが好ましい。 - 特許庁

In one approach, a bulking agent and/or an air space is used as a volume dilution for flattening the isothermal line.例文帳に追加

一アプローチでは、吸着剤等温線を平坦化する容積希釈として充填材及び／又は空隙を使用する。 - 特許庁

The coating solution contains a hard coating agent and a dilution solvent, and the hard coating agent concentration in the coating solution is in the range of 10 to 50 wt.%, and chlorine-containing hydrocarbon is 20 to 95 wt.%, in 100 wt.% of the dilution solvent.例文帳に追加

ハードコート剤、及び、希釈溶剤を含有するコーティング溶液中のハードコート剤濃度が１０〜５０重量％、及び、希釈溶剤１００重量％中、塩素含有炭化水素が２０〜９５重量％であることを特徴とする。 - 特許庁

Adjustment of the introduced amount of dilution gas from a dilution gas introducing means 16 or control of operation of a semiconductor producing device 15 is performed based on the temperature of the detoxifying agent 12 measured at thermometers 13a-13d.例文帳に追加

温度計１３ａ〜１３ｄで測定した除害剤１２の温度に基づいて希釈ガス導入手段１６からの希釈ガス導入量を調節したり、半導体製造装置１５の運転を制御したりする。 - 特許庁