edge diffractionとは 意味・読み方・使い方

The diffraction and refraction plate 22 is made of dielectric and has an edge that goes along the length direction of the horns 12 and 14.例文帳に追加

回折及び屈折板２２は、誘電体製で、ホーン１２、１４の長さ方向に沿うエッジを有している。 - 特許庁

To provide an optical recording medium which enables to form a smaller recording pit size to the very limit of diffraction while satisfactorily keeping the edge.例文帳に追加

回折限界ぎりぎりまでのより小さな記録ピットサイズをそのエッジを良好に保持したままで形成できる光記録媒体を提供する。 - 特許庁

By the diffraction effect of light by the side edge part of the pit, a reflection return beam 34 has the maximum intensity in the direction tilted to the left side (B).例文帳に追加

ピットのサイドエッジ部による光の回折効果により、反射戻り光３４は、左側に傾いた方向に最大強度を有する（Ｂ）。 - 特許庁

A beam width can be controlled by an element interval, and even beam width change due to diffraction of the edge of a reflector can be compensated by adequately adjusting the element interval.例文帳に追加

ビーム幅は素子間隔で制御でき、これを適宜調整することにより反射板端部の回折によるビーム幅変化も補償できる。 - 特許庁

The diffraction grating built-in fiber 14 provided with a tip 14a is arranged so as to make its tip 14a confront the fiber-side edge face 12a of the semiconductor light emitting device 12, and a gap between the fiber-side edge face 12a of the light emitting device 12 and the diffraction grating 13 is set 13 mm or below.例文帳に追加

回折格子内蔵ファイバ１４は、先端部１４ａが半導体発光素子１２のファイバ側端面１２ａに対向するように配置されており、半導体発光素子１２のファイバ側端面１２ａと回折格子１３との間隔Ｄは１３ｍｍ以下となっている。 - 特許庁

To provide a mold for injection-molding a diffraction optical element in which the deformation of the edge of a molding by the interference with the diffraction edge of a mold is suppressed even when the molding is cooled and contracted during mold opening in the production of the diffraction optical element made of a resin with a straight line-shaped lattice formed by injection molding.例文帳に追加

直線状の格子が形成された樹脂からなる回折光学素子を射出成形により製造する際に、型開き時に成型品が冷却収縮しても、成型品のエッジが金型の回折エッジと干渉して変形することが抑制される回折光学素子の射出成形金型を提供すること。 - 特許庁

To provide an aligner device that can firstly reduce variation of edge formation positions of patterns formed on an exposure object substrate by suppressing swing of waveform patterns of diffraction images generated in a vicinity of an edge of a mask pattern, and secondly suppress variation of pattern line widths by making sharp of the slopes of waveform patterns of the diffraction images in the vicinity of the edge of the mask pattern.例文帳に追加

第１に、マスクパターンのエッジ付近で生じる回折像の波形パターンのスイングを抑制し、露光対象基板上に形成されるパターンのエッジ形成位置のばらつきを低減することができ、第２に、マスクパターンのエッジ付近における回折像の波形パターンのスロープを急峻化することで、パターン線幅のばらつきを抑えることができるアライナ装置を提供する。 - 特許庁

The polarization direction of the illumination beam is aligned with a polarizing conversion optical system 20 in a direction parallel to an edge 1a of the mask pattern 1A, so that the slopes caused by the diffraction of the diffraction images formed on the exposure object substrate 2 are made sharper.例文帳に追加

また、偏光変換光学系２０により、照明光の偏光方向を、マスクパターン１Ａのエッジ１ａと平行な方向に揃えて、露光対象基板２上に形成される回折像の回折によるスロープを急峻化する構成としてある。 - 特許庁