fourth-classとは 意味・読み方・使い方
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fourth-classの |
「fourth-class」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 8件
Either first-class or second-class information having a different identification signal is transmitted from a first station 10 to a second station 20, and either third-class information corresponding to the first-class information or fourth-class information corresponding to the second-class information is transmitted from the second station 20 to the first station 10.例文帳に追加
第1の局10から第2の局20へは、互いに異なる識別信号を有する第1種および第2種の情報の何れか送信され、第2の局20から第1の局10へは、第1種の情報に対応する第3種の情報と第2種の情報に対応する第4種の情報の何れかが送信される。 - 特許庁
This invention concerns the newly developed fourth-class ammonium compounds and their application as microbial control and desegregation agent.発音を聞く 例文帳に追加
この発明は新規な第四級アンモニウム化合物、ならびにこれらを微生物抑制剤及び離解剤として使用することに関する。 - 特許庁
The liquid cleaner with container is obtained by containing a composite of liquid cleaner in the container having a reception part that including the fourth-class polymer containing nitrogen.例文帳に追加
第4級窒素含有ポリマーを存在させた収容部を有する容器に液体洗浄剤組成物が収容して容器入り液体洗浄剤を得る。 - 特許庁
A resin material containing crosslinking copolymer having a carboxylic radical and a fourth-class ammonium radical on a side chain is used for a charge preventive material.例文帳に追加
帯電防止材料として、側鎖にカルボキシル基および4級アンモニウム塩基をもつ架橋性共重合体高分子を含む樹脂材料を利用する。 - 特許庁
The salt of carboxylic acid may be selected, in addition to ammonium salt, from methylamine, first-class amine salt such as ethylamine, dimethylamine, second-class amine such as ethylmethylamine, trimethylamine, third-class amine such as diethylmethylamine, tetramethylammonium, fourth-class ammonium salt such as triethylmethylammonium.例文帳に追加
上記有機カルボン酸としては、アゼライン酸、セバシン酸、1,6−デカンジカルボン酸、7−ビニルヘキサデセン−1,16−ジカルボン酸等を、また、上記カルボン酸の塩としては、アンモニウム塩の他、メチルアミン、エチルアミン等の一級アミン塩、ジメチルアミン、エチルメチルアミン等の二級アミン、トリメチルアミン、ジエチルメチルアミン等の三級アミン、テトラメチルアンモニウム、トリエチルメチルアンモニウム等の四級アンモニウム塩等を例示できる。 - 特許庁
In the polishing solution for CMP which contains abrasive grains, an oxidized metal resolvent, an oxidant, water, and quaternary ammonium salt and having pH ≤4, the abrasive grain includes positive zeta potential in the polishing solution for CMP; and the fourth-class ammonium salt is represented by the following general formula (1).例文帳に追加
砥粒、酸化金属溶解剤、酸化剤、水及び第4級アンモニウム塩を含有する、pHが4以下のCMP用研磨液において、前記砥粒は、前記CMP用研磨液中において正のゼータ電位を有し、且つ前記第4級アンモニウム塩は、下記一般式(1)で表されるCMP用研磨液とする。 - 特許庁
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「fourth-class」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 8件
The present invention relates to an aqueous composition, useful for polishing the silica and the silicon nitride on a semiconductor wafer comprising weight percent of 0.001 to 1 fourth-class ammonium compound; weight percent 0.001 to 1 phthalic acid and salts thereof; weight percent 0.01 to 5 carboxylic acid polymer; weight percent 0.01 to 5 grain; and water as a residual.例文帳に追加
半導体ウェーハ上のシリカ及び窒化ケイ素を研磨するのに有用な水性組成物であって、第四級アンモニウム化合物0.001〜1重量%、フタル酸及びその塩0.001〜1重量%、カルボン酸ポリマー0.01〜5重量%、砥粒0.01〜5重量%ならびに残余としての水を含む組成物。 - 特許庁
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