herein belowとは 意味・読み方・使い方

(iv) a person who files an application for permission for conducting transactions related to the buying and selling of goods involving the movement of goods between foreign states (herein referred to as the "brokerage transactions" in this item) as listed in (a) and (b) below: a written application for permission for the brokerage transactions following the form prescribed in Appended Form 4:発音を聞く 例文帳に追加

四　次のイ及びロに掲げる外国相互間の貨物の移動を伴う貨物の売買に関する取引（この号において「仲介貿易取引」という。）を行うことについて許可の申請をする者　別紙様式第四による仲介貿易取引許可申請書 - 日本法令外国語訳データベースシステム

Herein, the layer (I) comprises a mixed polyester containing ethylene terephthalate, butylene terephthalate and a stabilizer and the layer (II) comprises a polyester wherein 95 mol% or below of the total acid component residue is terephthalic acid residue and 5 mol% or above thereof comprises an ≥10C aliphatic dicarboxylic acid.例文帳に追加

ここで、（Ｉ）層がエチレンテレフタレートとブチレンテレフタレート及び安定剤を含む混合ポリエステルからなり、（ＩＩ）層が全酸成分残基の９５モル％以下がテレフタル酸残基で、５モル％以上が炭素数１０以上の脂肪族ジカルボン酸よりなるポリエステルからなる。 - 特許庁

An adaptive array antenna system 100 disclosed herein includes: m_0 pieces of directivity variable antenna elements AN-m (m is a natural number of m_0 or below) whose directivity is controlled; wireless receivers R-m; an adaptive control controller C1; weighting units (multipliers) W-m; and a signal composite unit (adder) p1.例文帳に追加

アダプティブアレーアンテナ装置１００は、指向性制御可能なｍ_0個の指向性可変アンテナ素子ＡＮ−ｍ（ｍはｍ_0以下の自然数、以下同じ）と、無線受信機Ｒ−ｍと、適応制御コントローラＣ１と、重み付け装置（乗算器）Ｗ−ｍと、信号合成装置（加算器）ｐ１とを備えている。 - 特許庁

Herein, the above abutment part 3 is arranged so as to abut on the attachment part 2, being laid from below, and also the abutment part 3 is provided with a regulating projection 18 which regulates a shaft rotation, by locking to the inside periphery of the through hole 13 provided in the mounting part 2.例文帳に追加

これにおいて、上記当接部３は取り付け部２に下方から重ねて当接するようにするとともに取り付け部２に設けられた貫通孔１３の内周に係止して軸回転を規制する規制突部１８を当接部３に設ける。 - 特許庁

This gas-sealing mechanism 11 is used in a processing chamber 1 in the manufacturing process of a printed wiring board, and the processing chamber 1 sprays chemical D to printed wiring board material C so as to perform chemical treatment, and also herein, a chemical vessel 2 for letting flow down, recovering, and storing the sprayed chemical D is made below.例文帳に追加

このガス封止機構１１は、プリント配線基板の製造工程の処理室１において用いられ、処理室１は、プリント配線基板材Ｃに対し薬液Ｄを噴射して化学処理を行うと共に、噴射された薬液Ｄを流下，回収，貯留せしめる薬液槽２が下部に形成されている。 - 特許庁

Unless otherwise provided herein below, the provisions of this Law shall also apply to trade marks in respect of which an application has been filed or which have been registered prior to January 1, 1995, or which have been acquired through use in the course of trade or through notoriety, and to commercial designations protected under the applicable provisions prior to January 1, 1995.発音を聞く 例文帳に追加

以下に別段の規定が置かれていない限り，本法の規定は，1995年1月1日より前に出願若しくは登録され又は取引上の使用若しくは周知性により獲得された商標，及び1995年1月1日より前に適用される規定に基づき保護されていた取引上の表示にも適用されるものとする。 - 特許庁

In the image reading device provided with an automatic document feeding device (herein after, ADF), the device is constituted so that plural image data read by dividing the original into plural bundles (a number of document sheets for 1 bundle is, beyond 1 sheet, below ADF loading capacity) can be collectively rigisteved finally as the one image data.例文帳に追加

この発明は、原稿自動送り装置（以下、ＡＤＦ）を備えた画像読取装置において、原稿を複数の束（１束の原稿枚数は、１枚以上、ＡＤＦ積載能力以下）に分けて読取った複数の画像データをまとめて最終的に１つの画像データとして登録することができるようにしたものである。 - 特許庁

Herein are described methods of making dielectric films containing silicon, such as, but not limited to, silicon oxide, silicon oxycarbide, silicon carbide, and combinations thereof, that exhibit at least one of the following characteristics: low wet etch resistance, a dielectric constant of 6.0 or below, and/or resistance against a high-temperature rapid thermal anneal process.例文帳に追加

ここに記載されるのは、低いウェットエッチ耐性、６．０以下の誘電率、及び／又は高温急速熱アニールプロセス耐性、といった特性のうちの少なくとも１つを示す、酸化ケイ素、酸炭化ケイ素、炭化ケイ素及びこれらの組み合わせなどの、とは言えこれらに限定はされない、ケイ素を含む誘電体膜を形成する方法である。 - 特許庁